JP2009088245A - 半導体ウェーハの研磨装置及び研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上定盤と、該上定盤と共に被加工物を挟持する下定盤と、被加工物の挟持を可能ならしめる加圧装置と、少なくとも上定盤又は下定盤を回転駆動する駆動装置と、回転駆動に対する研磨抵抗を検出可能なセンサと、前記加圧装置及び/又は前記駆動装置を制御可能な制御装置と、を備える半導体ウェーハの研磨装置であって、前記センサにより検出された研磨抵抗の経時変化をモニタし、所定の基準経時変化との比較に基づいて、前記駆動装置の回転駆動による研磨時間、回転速度、及び前記加圧装置の加圧力のうち少なくとも1つを制御することを特徴とする研磨装置。
【選択図】図2
Description
Iテーブルは、IIテーブルの設定時間より、**sec短く設定。
手順(1)Iテーブルの研磨時間の積算を行う研磨stepを指定する→B(2nd step)とする。
手順(2)Iテーブルの研磨時間の調整を行う研磨stepを指定する→C(3rd step)とする。
手順(3)IIテーブルの研磨時間の調整を行う研磨stepを指定する→H(3rd step)とする。
IテーブルのC(3rd STEP)に**sec上乗せする。IIテーブルは設定通り。
(B)トルクの変化点が**secの場合
I、IIテーブルとも設定通り。
(C)トルクの変化点が**secより短い場合
IテーブルのC(3rd step)に、「トルクの変化点−**sec」時間上乗せする。
(D)トルクの変化点が**secより長い場合
IIテーブルのH(3rd step)に、「**sec−トルクの変化点」時間上乗せする。
(1)設定例
条件1;T1秒間で−D1%減少し、T1秒間でD1%上昇した変化点
条件2;T2秒間で−D2%減少し、T2秒間でD2%上昇した変化点
条件3;T3秒間で−D3%減少し、T3秒間でD%上昇した変化点
*但し、T1>T2>T3であり、D1<D2<D3である。
上記3条件のいずれかに当てはまる変化点を検出し、研磨時間をリセットする。その後、設定した時間だけ研磨される。検出条件は、10項目以上設定でき、減少、上昇だけでなく、一定などの条件も任意に設定できる。また、検出した変化点が複数ある場合、何番目に検出した変化点を採用するかも任意に設定できる。
(2)(1)で設定した条件での検出例
図14に示す通り、グラフ内の上向き矢印の部分が変化点として、検出された。Bヘッドに比べて、Aヘッドの方がトルクの変化点が早く、表1のB(2nd step)の時間が短くなっている。その分表1のC(3rd step)の時間が長くなり、研磨完了は同一になる。
(3)本実施例のプログラムを実行した場合の効果
図12に本実施例のプログラム実行した場合/しない場合での取代を示す。本プログラムを実行することにより、55%以上のばらつき低減が認められる。
自動運転中に調整を行うテーブル駆動モータのトルク値の変化を利用し、毎バッチ加工時間の調整を行なうソフトである。
(上記ソフトウェアの仕様)
(1)加工時間の調整を実施しても、すべてのテーブルの加工は同時に終了する事。
(2)全加工時間は、調整を行わないテーブルの設定時間を下回らない事。
(3)本ソフトウェアを実行するかどうかは、各レシピにて選択できる事。
(4)調整を行うテーブルの積算時間のリセットを行なうステップは任意に設定できる事。
(5)調整を行うテーブル積算時間をリセットする条件は任意に設定できる事。
(6)調整を行うテーブルの設定時間の調整は、任意のステップに設定できる事。
(7)調整を行うテーブルの設定時間の調整は、指定したステップで遅延時間を設定できる事。
(8)調整を行わないテーブルの設定時間の調整は、任意のステップに設定できる事。
(9)検出時間のリミットを設定できる事。
(10)検出時間がリミットを越えた場合、アラームとして履歴が残る事(装置停止、上位システムへの記録は必要無し)
(調整を行うテーブル駆動モータトルク変化点)
調整を行うテーブルの駆動モータトルクが連続低下、連続上昇から変化が生じた箇所を変化点として検出する事。図15から19に代表例を示すが、この限りではない。
12 円形部材
14 回転軸
16 トルク計測部
18 小円形部材
19 シリコンウェーハ
20 回転軸
22、23 トルク計測部
Claims (7)
- 上定盤と、
該上定盤と共に被加工物を挟持する下定盤と、
被加工物の挟持を可能ならしめる加圧装置と、
少なくとも上定盤又は下定盤を回転駆動する駆動装置と、
回転駆動に対する研磨抵抗を検出可能なセンサと、
前記加圧装置及び/又は前記駆動装置を制御可能な制御装置と、を備える半導体ウェーハの研磨装置であって、
前記センサにより検出された研磨抵抗の経時変化をモニタし、所定の基準経時変化との比較に基づいて、前記駆動装置の回転駆動による研磨時間、回転速度、及び前記加圧装置の加圧力のうち少なくとも1つを制御することを特徴とする研磨装置。 - 前記所定の基準経時変化は、研磨抵抗の経時変化において所定の時間間隔内で極大若しくは極小を呈することを含む請求項1に記載の研磨装置。
- 上定盤と下定盤との間に被加工物を所定の力で挟持して少なくとも上定盤又は下定盤を回転駆動することにより研磨する半導体ウェーハの研磨方法であって、
回転駆動に対する研磨抵抗を所定時間測定する工程と、
前記研磨抵抗の経時変化を所定の基準経時変化と比較する工程と、
この比較に基づいて、変化点を決定する工程と、
前記変化点からの研磨時間、回転速度、及び挟持力の少なくとも1つを制御する工程と、を含む研磨方法。 - 前記基準経時変化は、少なくとも2つの異なる材質を研磨することにより得られることを特徴とする請求項3に記載の研磨方法。
- 研磨される前記半導体ウェーハは、表面若しくは表面近傍に低研磨率層を備えることを特徴とする請求項3又は4に記載の研磨方法。
- 前記低研磨率層は、酸化膜であることを特徴とする請求項5に記載の研磨方法。
- 上定盤と下定盤との間に被加工物を所定の力で挟持して少なくとも上定盤又は下定盤を回転駆動することにより研磨する半導体ウェーハの研磨方法であって、
回転駆動に対する研磨抵抗を所定時間測定する初期測定工程と、
前記研磨抵抗の経時変化を所定の基準経時変化と比較する比較工程と、
この比較に基づいて、変化点を決定する決定工程と、
前記変化点からの研磨時間、回転速度、及び挟持力の少なくとも1つを制御する制御工程と、
予め決められた若しくは制御された研磨時間後に研磨した半導体ウェーハを取り外す取外工程と、
研磨すべき新たな半導体ウェーハを前記上定盤及び前記下定盤に挟持させて取り付け、少なくとも前記上定盤又は前記下定盤を回転駆動させて、前記初期測定工程に戻す工程と、
を含む研磨方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140025471A (ko) * | 2011-04-20 | 2014-03-04 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 종료점 검출을 위한 스펙트럼 피쳐의 적응적 추적 |
KR20140025487A (ko) * | 2011-04-21 | 2014-03-04 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 환경적 영향으로 변동들을 갖는 기준 스펙트럼들의 구성 |
CN113344308A (zh) * | 2020-02-17 | 2021-09-03 | 华晨宝马汽车有限公司 | 基于抛光操作数据的质量监控方法、系统、设备和介质 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08243917A (ja) * | 1995-03-09 | 1996-09-24 | Sony Corp | 研磨の終点検出方法及び研磨装置並びにそれを用いた半導体装置製造方法 |
JPH11162894A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-06-18 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プロセスの終点検出方法,終点検出装置及び記録媒体、並びに化学的機械研磨装置 |
JP2004296596A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2006190784A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007129115A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08243917A (ja) * | 1995-03-09 | 1996-09-24 | Sony Corp | 研磨の終点検出方法及び研磨装置並びにそれを用いた半導体装置製造方法 |
JPH11162894A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-06-18 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プロセスの終点検出方法,終点検出装置及び記録媒体、並びに化学的機械研磨装置 |
JP2004296596A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP2006190784A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2007129115A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140025471A (ko) * | 2011-04-20 | 2014-03-04 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 종료점 검출을 위한 스펙트럼 피쳐의 적응적 추적 |
JP2014512690A (ja) * | 2011-04-20 | 2014-05-22 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 終点検出のためのスペクトル特徴の適応的追跡 |
KR20140025487A (ko) * | 2011-04-21 | 2014-03-04 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 환경적 영향으로 변동들을 갖는 기준 스펙트럼들의 구성 |
CN113344308A (zh) * | 2020-02-17 | 2021-09-03 | 华晨宝马汽车有限公司 | 基于抛光操作数据的质量监控方法、系统、设备和介质 |
CN113344308B (zh) * | 2020-02-17 | 2024-01-05 | 华晨宝马汽车有限公司 | 基于抛光操作数据的质量监控方法、系统、设备和介质 |
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