JP2009086094A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009086094A5 JP2009086094A5 JP2007253250A JP2007253250A JP2009086094A5 JP 2009086094 A5 JP2009086094 A5 JP 2009086094A5 JP 2007253250 A JP2007253250 A JP 2007253250A JP 2007253250 A JP2007253250 A JP 2007253250A JP 2009086094 A5 JP2009086094 A5 JP 2009086094A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- less
- transfer
- mask
- exposure light
- light wavelength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007253250A JP2009086094A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | マスクブランク及び転写用マスク |
| PCT/JP2008/067098 WO2009041388A1 (ja) | 2007-09-28 | 2008-09-22 | マスクブランク及び転写用マスク |
| TW097137086A TW200921267A (en) | 2007-09-28 | 2008-09-26 | Mask blank and transfer mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007253250A JP2009086094A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | マスクブランク及び転写用マスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009086094A JP2009086094A (ja) | 2009-04-23 |
| JP2009086094A5 true JP2009086094A5 (enExample) | 2010-10-07 |
Family
ID=40511273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2007253250A Pending JP2009086094A (ja) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | マスクブランク及び転写用マスク |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009086094A (enExample) |
| TW (1) | TW200921267A (enExample) |
| WO (1) | WO2009041388A1 (enExample) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010008604A (ja) * | 2008-06-25 | 2010-01-14 | Hoya Corp | マスクブランク及び転写用マスク |
| US8968970B2 (en) | 2009-10-09 | 2015-03-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Phase shift masks and methods of forming phase shift masks |
| KR101663173B1 (ko) | 2009-10-09 | 2016-10-07 | 삼성전자주식회사 | 알카리 세정에 내성을 갖는 위상 반전 마스크 및 위상 반전 마스크의 제조 방법 |
| JP5602412B2 (ja) * | 2009-10-27 | 2014-10-08 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクセットおよび半導体デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2591244Y2 (ja) * | 1992-11-30 | 1999-03-03 | 京セラ株式会社 | フォトマスク |
| JPH0784357A (ja) * | 1993-09-14 | 1995-03-31 | Nikon Corp | 露光マスクおよび投影露光方法 |
| JPH10112429A (ja) * | 1996-10-07 | 1998-04-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光露光システム |
| JP3566004B2 (ja) * | 1996-10-24 | 2004-09-15 | 日本電信電話株式会社 | X線マスク |
| JP2000284468A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Canon Inc | マスク構造体、該マスク構造体を用いた露光方法および露光装置、該マスク構造体を用いて作製された半導体デバイス、ならびに半導体デバイス製造方法 |
| JP4201162B2 (ja) * | 2001-03-29 | 2008-12-24 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体の製造方法およびそれに用いるフォトマスク |
| JP2003243292A (ja) * | 2002-02-18 | 2003-08-29 | Nikon Corp | 反射マスク、露光装置及びその清掃方法 |
| JP2005175324A (ja) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Nikon Corp | マスク汚染防止方法、マスク汚染防止装置及び露光装置 |
| JP2005186005A (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Dainippon Printing Co Ltd | 光触媒含有層基板およびパターン形成体の製造方法 |
| JP4635509B2 (ja) * | 2004-08-03 | 2011-02-23 | 凸版印刷株式会社 | フォトマスクの製造方法 |
| JP4601459B2 (ja) * | 2005-03-01 | 2010-12-22 | 大日本印刷株式会社 | 露光用マスクおよびその製造方法 |
| JP4826742B2 (ja) * | 2006-01-05 | 2011-11-30 | 旭硝子株式会社 | 薄膜デバイスの成膜方法 |
| JP2008197234A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Nsk Ltd | 近接露光用フォトマスク、露光方法及び露光装置 |
| JP2008286838A (ja) * | 2007-05-15 | 2008-11-27 | Canon Inc | 露光用マスク、パターン形成装置及びパターン形成方法 |
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007253250A patent/JP2009086094A/ja active Pending
-
2008
- 2008-09-22 WO PCT/JP2008/067098 patent/WO2009041388A1/ja not_active Ceased
- 2008-09-26 TW TW097137086A patent/TW200921267A/zh unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2011164598A5 (enExample) | ||
| JP2015200883A5 (enExample) | ||
| JP2016189002A5 (enExample) | ||
| JP2013257593A5 (ja) | 転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 | |
| CN102910579B (zh) | 一种可提高图形深宽比的纳米压印方法及其产品 | |
| JP2016048379A5 (ja) | マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、透過型マスクブランクの製造方法、透過型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 | |
| JP2016164683A5 (enExample) | ||
| EP2881790A3 (en) | Photomask blank | |
| JP2009539252A5 (enExample) | ||
| JP2015133514A5 (enExample) | ||
| JP2010039352A5 (enExample) | ||
| CN109669318A (zh) | 极紫外(euv)光刻掩模 | |
| JP2011081356A5 (enExample) | ||
| JP2010231172A5 (enExample) | ||
| JP2015142083A5 (enExample) | ||
| JP2015191218A5 (enExample) | ||
| JP2008209873A5 (enExample) | ||
| JP2016122684A5 (enExample) | ||
| EP2568335A3 (en) | Photomask blank, photomask, and making method | |
| JP2014186333A5 (ja) | 透過型マスクブランク、透過型マスク及び半導体装置の製造方法 | |
| JP2012078441A5 (enExample) | ||
| JP2005345737A5 (enExample) | ||
| JP2014241182A5 (enExample) | ||
| JP2009152187A5 (enExample) | ||
| JP2015102633A5 (enExample) |