JP2009081339A - 描画装置及び描画方法 - Google Patents

Abstract

【目的】効率の優れたデータ処理を行なう描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の描画装置１００は、第１の複数の描画データファイルを記憶する磁気ディスク装置１４０と、第１の複数の描画データファイルを順次読み出し、各描画データファイルの描画データに対して、パイプライン処理になるように複数の処理を行なう複数のデータ処理部１２２〜１２６と、先にデータ処理が終了した描画データファイルに所定の閾値に達するまで後にデータ処理が終了した他の描画データファイルを統合するファイル統合部１２８と、統合データファイルを転送する転送部１３０と、統合データファイルを記憶する磁気ディスク装置１４２と、統合データファイルとして統合された第２の複数の描画データファイルに定義されたパターンを描画する描画部１５０と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、一連のパイプライン処理の効率化を図ることができる。
【選択図】図１

Description

本発明は、描画装置及び描画方法に係り、特に、電子ビームを用いて描画されるための描画データの転送処理を装置内部で行なう描画装置及びその方法に関する。

半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。

図５は、従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線描画装置（ＥＢ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｂｅａｍ）描画装置）における第１のアパーチャ４１０には、電子線３３０を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子線３３０は、偏向器により偏向され、第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１の一部を通過して、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動するステージ上に搭載された試料に照射される。すなわち、第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、Ｘ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０の描画領域に描画される。第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。

かかる電子ビーム描画を行なうにあたり、電子ビーム描画装置に入力可能な複数の描画データファイルが装置内のディスクに入力される。すると、描画装置内では、各ファイルの描画データのフォーマット検査等の複数のデータ処理を行なって装置内の次のディスクに転送する。これら複数のデータ処理は一連の動作を並列に実行するパイプライン処理で行なうことで効率化を図っている。そして、描画装置内では、さらに、データ変換を行なった後にデータに定義されたパターンを試料に描画する。

ここで、電子ビーム描画装置ではないが、オフラインとなる外部装置について記載が開示されている。その外部装置（描画データ作成装置）では、描画データの作成の際に、プロセッサの直列接続段数を異ならせた演算ユニットを複数並列に設けている。これにより、負荷の大きさの異なる設計データでもパイプライン構成で描画データに変換できるとしている（例えば、特許文献１参照）。
特開平５−９０１４１号公報

上述したように、複数の描画データファイルが装置内のディスクに入力されると、各ファイルのデータのフォーマット検査等の複数のデータ処理を行なって装置内の次のディスクに転送する一連のパイプライン処理が行なわれる。ここで、描画データのデータサイズが小さい場合、パイプライン処理の一部となるフォーマット検査等の複数のデータ処理を行なう時間は短くなる傾向にある。しかしながら、このようなデータサイズが小さい描画データについては、パイプライン処理の最後に行なうファイルを転送する場合にデータ部分の転送時間に対してファイル転送プロトコルのヘッドタイムが占める割合が大きくなってしまう。

図６は、パイプライン処理の一例を示す図である。
図６では、処理１，２、及びファイル転送が一連のパイプラインとしてファイル１，２，３のデータ処理が行なわれる場合を一例として示している。上述したように、データサイズが小さい描画データを処理する場合、処理１及び処理２では、パイプラインの関係が維持されるが、転送の段階では、ヘッドタイムが占める割合が大きいため、点線で示す理想の状態から大きく遅れをとってしまう。このように、データサイズが小さい描画データが多くなると、順次処理が終了した描画データファイルを次のディスクに順次転送する際に、ヘッドタイムの影響を大きく受けることになる。よって、せっかくパイプライン処理で効率化を図ったにも関わらず、ヘッドタイムにより一連のパイプライン処理の処理完了までの時間が律速されてしまうといった問題があった。これでは、効率良くデータ処理を進めることができなくなってしまう。

本発明は、かかる問題点を克服し、効率の優れたデータ処理を行なう描画装置および方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様の描画装置は、
第１の複数の描画データファイルを記憶する第１の記憶装置と、
第１の記憶装置から第１の複数の描画データファイルを順次読み出し、読み出された各描画データファイルの描画データに対して、パイプライン処理になるように複数の処理を行なう複数のデータ処理部と、
先にデータ処理が終了した描画データファイルに所定の閾値に達するまで後にデータ処理が終了した他の描画データファイルを統合する統合処理部と、
統合された統合データファイルを転送する転送処理部と、
転送された統合データファイルを記憶する第２の記憶装置と、
荷電粒子ビームを用いて、統合データファイルとして統合された第２の複数の描画データファイルに定義されたパターンを試料に描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。

従来、転送する描画データファイル数だけヘッドタイムが必要であったが、描画データファイルを統合することで統合データファイルの転送にかかるヘッドタイムを１回にすることができる。そのため、データサイズが小さい描画データファイルが多い場合でも全ての描画データファイルの転送時間に対するヘッドタイムの影響を小さくすることができる。

そして、所定の閾値として、所定のデータサイズが用いられると好適である。或いは、所定の閾値として、所定の描画単位領域数が用いられても好適である。

また、統合データファイルを第２の複数の描画データファイルにファイル展開する展開部をさらに備えると好適である。

本発明の一態様の描画方法は、
第１の複数の描画データファイルを記憶する第１の記憶装置から第１の複数の描画データファイルを順次読み出し、読み出された各描画データファイルの描画データに対して、パイプライン処理になるように複数の処理を行なう複数のデータ処理工程と、
先にデータ処理が終了した描画データファイルに所定の閾値に達するまで後にデータ処理が終了した他の描画データファイルを統合する統合処理工程と、
統合された統合データファイルを転送する転送処理工程と、
転送された統合データファイルを記憶する第２の記憶装置から統合データファイルとして統合された第２の複数の描画データファイルを読み出し、荷電粒子ビームを用いて、第２の複数の描画データファイルに定義されたパターンを試料に描画する描画工程と、
を備えたことを特徴とする。

本発明によれば、転送時間に対するヘッドタイムの影響を小さくすることができる。よって、一連のパイプライン処理の効率化を図ることができる。

以下、実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、荷電粒子ビーム装置の一例として、荷電粒子ビーム描画装置、特に、可変成形型の電子ビーム描画装置について説明する。

図１は、実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
図１において、描画装置１００は、電子ビーム描画装置の一例である。描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画部１５０は、描画室１０３と描画室１０３の上部に配置された電子鏡筒１０２を備えている。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、及び偏向器２０８を有している。そして、描画室１０３内には、ＸＹステージ１０５が配置され、ＸＹステージ１０５上に描画対象となる試料１０１が配置される。制御部１６０は、描画制御回路１１０、制御ユニット１２０、及び磁気ディスク装置１４０．１４２，１４４を備えている。磁気ディスク装置１４０．１４２，１４４は、記憶装置の一例である。制御部１６０の各構成は図示しないバスを介して互いに接続されている。制御ユニット１２０は、パイプライン制御部１２１、入力部１２２、フォーマット検査部１２４、ショット密度計算部１２６、ファイル統合部１２８、転送部１３０、ファイル展開部１３２、及びメモリ１３４を有している。メモリ１３４は、記憶装置の一例である。ここで、パイプライン制御部１２１、入力部１２２、フォーマット検査部１２４、ショット密度計算部１２６、ファイル統合部１２８、転送部１３０、及びファイル展開部１３２は、プログラムを実行させるＣＰＵ等の計算機で実行される各処理機能として構成してもよい。或いは、パイプライン制御部１２１、入力部１２２、フォーマット検査部１２４、ショット密度計算部１２６、ファイル統合部１２８、転送部１３０、及びファイル展開部１３２の各構成を電気的な回路によるハードウェアにより構成してもよい。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。また、ソフトウェアにより、或いはソフトウェアとの組合せにより実施させる場合には、処理を実行する計算機に入力される情報或いは演算処理中及び処理後の各情報はその都度メモリ１３４に記憶される。図１では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分について記載している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。

電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、パターンレイアウトが定義された設計データが生成される。そして、外部の変換装置でかかる設計データが変換され、描画装置１００に入力可能な複数の描画データ１２が生成される。そして、試料１０１に所定のパターンを描画するための描画データ１２の各描画データファイルは、記憶装置の一例となる外部の磁気ディスク装置３００に格納される。

図２は、実施の形態１における描画データの階層構造の一例を示す図である。
描画データでは、描画領域が、チップ１０の層、チップ領域を例えばｙ方向に向かって短冊状に仮想分割したフレーム１４の層、フレーム１４を分割したブロック１６の層、少なくとも１つ以上の図形で構成されるセル１８の層、かかるセル１８を構成する図形１９の層といった一連の複数の内部構成単位ごとに階層化されている。また、１つの試料１０１の描画領域に対して複数のチップ１０の層がレイアウトされていることが一般的である。尚、ここではフレーム１４についてチップ領域をｙ方向（所定の方向）に向かって短冊状に分割した領域としてあるが、これは一例であり、描画面と平行しｙ方向と直交するｘ方向に分割する場合もありうる。或いは描画面と平行するその他の方向であっても構わない。

図３は、実施の形態１における描画データの一例を示す図である。
描画装置でパターンを描画する際には、例えば、フレーム１４を描画単位領域として描画される。図３では、一例として、あるチップ１０における番号”ｎ”で識別されるフレーム領域に位置している描画データ１２について説明する。そして、そのフレーム用の描画データ１２として、セル配置データ、リンクデータ、セルパターンデータが作成される。図３において、１つのフレーム用の描画データ１２が定義される描画データファイルは、一例として、セル配置データファイル２２、リンクデータファイル２４、及びセルパターンデータファイル２６で構成される。これらのファイルがフレームごとに作成される。描画データ１２は、さらに、一つ以上のフレームで構成されるチップに対して、各フレームの構成情報やチップ全体で共通のパラメータ等を定義するチップ構成ファイル２０を有している。また、図３では、セル配置データファイル２２とリンクデータファイル２４とセルパターンデータファイル２６内の各データの対応関係の一例を示している。試料に所望するパターンを描画する場合には、一つのマスクに対して、一つ以上のチップ１０で構成される。そのような場合、これらのファイルで構成されるチップデータが複数存在し、それらをマスク上に配置するためのレイアウト情報を有する。

セル配置データファイル２２は、設計データに含まれるあるチップ１０のパターンデータに対応するセル１８を配置するための配置データ（配置情報）を含む。セル配置データファイル２２には、例えばブロック領域ごとに、配置されるセル１８のいずれかを配置するための配置データが含まれる。セル配置データは、セル１８の基準点の配置位置を示す座標等で示される。図３において、セル配置データファイル２２は、ファイルヘッダに続き、ブロック（０，０）ヘッダ、ブロック（０，０）内に配置されたセル配置データ（ｐ）、セル配置データ（ｑ）、セル配置データ（ｒ）、ブロック（０，１）ヘッダ、ブロック（０，１）内に配置されたセル配置データ（ｓ）、ブロック（１，０）ヘッダ、ブロック（１，０）内に配置されたセル配置データ（ｔ）、が定義（格納）される。そして、その他の配置データがさらに格納される。

次に、セルパターンデータファイル２６には、あるチップ１０のｎ番目のフレーム１４に配置される複数のセル１８の各パターンデータが含まれている。図３では、一例として、セル（ｉ）〜（ｌ）の各パターンデータを示している。ここでは、セルパターンデータファイル２６には、その一部として、パターンデータセグメント（０）、セル（ｉ）のパターンデータを示すセルパターンデータ（ｉ）、セル（ｊ）のパターンデータを示すセルパターンデータ（ｊ）が順に１回ずつ格納されている。続いて、パターンデータセグメント（１）、セル（ｋ）のパターンデータを示すセルパターンデータ（ｋ）が格納されている。さらに、その他のデータが格納され、その後に、パターンデータセグメント（４）、セル（ｌ）のパターンデータを示すセルパターンデータ（ｌ）が格納されている。

また、リンクデータファイル２４には、各セル配置データから各セルパターンデータ参照するためのリンク情報やセルパターンデータへのオペレーション情報が含まれている。図３では、リンクデータファイル２４には、その一部として、セル配置データ（ｐ）をセルパターンデータ（ｉ）に関連させるための関係データ（ａ）、セル配置データ（ｑ）をセルパターンデータ（ｊ）に関連させるための関係データ（ｂ）、セル配置データ（ｒ）をセルパターンデータ（ｉ）に関連させるための関係データ（ｃ）、セル配置データ（ｓ）をセルパターンデータ（ｋ）に関連させるための関係データ（ｄ）、セル配置データ（ｔ）をセルパターンデータ（ｌ）に関連させるための関係データ（ｅ）がその他のデータと共に格納されている。

以上のように、描画装置１００は、複数の描画データファイルを入力すると共に、後述するように、これら複数の描画データファイルを一連のパイプライン処理を通じて転送処理することになる。

図４は、実施の形態１におけるパイプライン処理を説明するための概念図である。
図４において、制御ユニット１２０は、データ入力処理、フォーマット検査処理、ショット密度計算処理、転送予約、ファイル統合及びファイル転送処理という一連の処理がパイプライン処理になるように実行する。

まず、データ入力工程として、入力部１２２は、図４に示すように、フレーム１用、フレーム２用、フレーム３用、フレーム４用、・・・と順に各描画データファイルを入力する。入力された複数の描画データファイル（第１の複数の描画データファイル）は、磁気ディスク装置１４０（第１の記憶装置）に記憶される。入力部１２２は、パイプライン制御部１２１により制御される。

続いて、フォーマット検査工程として、フォーマット検査部１２４は、磁気ディスク装置１４０から複数の描画データファイルを順次読み出す。そして、フォーマット検査部１２４は、読み出された各描画データファイルの描画データに対して、図４に示すように、パイプライン処理になるようにフォーマット検査を行なう。フォーマット検査部１２４は、パイプライン制御部１２１により制御される。そして、各ファイルのフォーマット検査の結果は、磁気ディスク装置１４４に格納される。

続いて、ショット密度計算工程として、ショット密度計算部１２６は、磁気ディスク装置１４０から複数の描画データファイルを順次読み出す。そして、ショット密度計算部１２６は、読み出された各描画データファイルの描画データに対して、図４に示すように、パイプライン処理になるようにショット密度計算を行なう。ショット密度計算部１２６は、パイプライン制御部１２１により制御される。そして、計算されたショット密度は、磁気ディスク装置１４４に格納される。

ここでは、複数のデータ処理部の一例となるフォーマット検査部１２４とショット密度計算部１２６により、複数のデータ処理として、フォーマット検査処理とショット密度計算処理の２つの処理を行なっているが、これに限るものではない。３つ以上の処理が行なわれても構わないことは言うまでもない。

続いて、転送予約／ファイル統合処理工程として、ファイル統合部１２８は、先にデータ処理が終了した描画データファイルに所定の閾値に達するまで後にデータ処理が終了した他の描画データファイルを統合する。ファイル統合部１２８は、統合処理部の一例である。具体的には、以下のように動作する。まず、ファイル統合部１２８は、図４に示すように、パイプライン処理になるように所定の閾値に達するまでデータ処理が終了した描画データファイルの転送予約を行なう。例えば、データ処理が終了した各フレーム番号をメモリ１３４に格納する。そして、ファイル統合部１２８は、転送予約を行なった描画データファイルが所定の閾値に達する毎に、それまで転送予約されていた該当する複数の描画データファイル（第２の複数の描画データファイル）を磁気ディスク装置１４０から読み出して統合する。そして、統合された統合データファイルは、磁気ディスク装置１４０に格納される。

所定の閾値として、例えば、所定のデータサイズが用いられると好適である。すなわち、転送予約された複数の描画データファイルのデータサイズの合計が略一定のデータサイズになるようにファイルを統合（書庫化）して１つの統合データファイルを作成する。例えば、データサイズとして１００ＭＢ程度とする。ファイル統合は、例えば、ＺＩＰファイルのようなアーカイブフォーマットで作成すると好適である。

或いは、所定の閾値として、所定のフレーム（描画単位領域）数が用いられても好適である。すなわち、転送予約されたフレーム数が一定のフレーム数になるようにファイルを統合して１つの統合データファイルを作成する。例えば、フレーム数として、１０００フレームとする。

そして、ファイル転送処理工程として、転送部１３０は、所定の閾値毎に統合された統合データファイルを磁気ディスク装置１４０から順次読み出してＦＴＰ（ファイル転送プロトコル）を用いて磁気ディスク装置１４２（第２の記憶装置）に順次転送する。転送部１３０は、転送処理部の一例である。そして、順次転送された統合データファイルは、磁気ディスク装置１４２に記憶（格納）される。

従来、転送する描画データファイル数だけ転送処理が必要となり、その都度ＦＴＰのヘッドタイムが必要であったが、実施の形態１では、描画データファイルを統合することで１回の転送で済ますことができる。よって、統合データファイルの転送にかかるＦＴＰのヘッドタイムを１回にすることができる。そのため、データサイズが小さい描画データファイルが多い場合でも全ての描画データファイルの転送時間に対するヘッドタイムの影響を小さくすることができる。その結果、一連のパイプライン処理の効率を向上させることができる。

以上のように、転送が終了した各ファイルは、統合データファイルであるためそのままでは次のデータ処理に用いにくい。そこで、ファイル展開工程として、ファイル展開部１３２は、統合データファイルを磁気ディスク装置１４２から読み出し、元々の複数の描画データファイルにファイル展開する。そして、ファイル展開された複数の描画データファイルは再度磁気ディスク装置１４２に記憶（格納）される。このファイル展開処理は、上述したパイプライン処理と別途行なえばよい。よって、上述した一連のパイプライン処理の効率に影響を与えるものではない。また、ここでは、ファイル展開部１３２が制御ユニット１２０内に配置されているがこれに限るものではない。例えば、描画制御回路１１０内に配置されていても構わない。或いは、独立に構成されてもよい。或いは、その他の図示しない構成内に配置されても構わない。

以上のようにして、各フレーム用の描画データファイルが磁気ディスク装置１４２に格納されてくると、次に、描画制御装置１１０が、これらのファイルに定義された描画データの変換を行なう。そして、描画工程として、描画部１５０が、電子ビーム２００を用いて、描画制御装置１１０によって変換された複数の描画データファイルに定義されたパターンを試料１０１に描画する。具体的には、以下のように描画動作が行なわれる。

電子銃２０１から出た電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形、例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形、例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、偏向器２０５によって制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、偏向器２０８により偏向されて、移動可能に配置されたＸＹステージ１０５上の試料１０１の所望する位置に照射される。

以上のように、ファイル統合した後にファイル転送を行なうことで、データサイズの小さいフレームデータが多く存在する場合に、ＦＴＰの回数は激減することになる。その結果、ＦＴＰのヘッドタイムを大幅に削減することができる。よって、データ転送ので律速を抑制することができる。

以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。

また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、可変成形型ＥＢ描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。

その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子線描画データの作成方法、荷電粒子線描画データの変換方法、及びそれらの装置は、本発明の範囲に包含される。

実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。 実施の形態１における描画データの階層構造の一例を示す図である。 実施の形態１における描画データの一例を示す図である。 実施の形態１におけるパイプライン処理を説明するための概念図である。 従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。 パイプライン処理の一例を示す図である。

符号の説明

１０ チップ
１２ 描画データ
１４ フレーム
１６ ブロック
１８ セル
１９ 図形
２０ チップ構成ファイル
２２ セル配置データファイル
２４ リンクデータファイル
２６ セルパターンデータファイル
１００ 描画装置
１０１，３４０ 試料
１０２ 電子鏡筒
１０３ 描画室
１０５ ＸＹステージ
１１０ 描画制御回路
１２０ 制御ユニット
１２１ パイプライン制御部
１２２ 入力部
１２４ フォーマット検査部
１２６ ショット密度計算部
１２８ ファイル統合部
１３０ 転送部
１３２ ファイル展開部
１３４ メモリ
１４０，１４２，１４４，３００ 磁気ディスク装置
１５０ 描画部
１６０ 制御部
２００ 電子ビーム
２０１ 電子銃
２０２ 照明レンズ
２０３，４１０ 第１のアパーチャ
２０６，４２０ 第２のアパーチャ
２０４ 投影レンズ
２０５，２０８ 偏向器
２０７ 対物レンズ
３３０ 電子線
４１１ 開口
４２１ 可変成形開口
４３０ 荷電粒子ソース

Claims (5)

1. 第１の複数の描画データファイルを記憶する第１の記憶装置と、
   前記第１の記憶装置から前記第１の複数の描画データファイルを順次読み出し、読み出された各描画データファイルの描画データに対して、パイプライン処理になるように複数の処理を行なう複数のデータ処理部と、
   先にデータ処理が終了した描画データファイルに所定の閾値に達するまで後にデータ処理が終了した他の描画データファイルを統合する統合処理部と、
   統合された統合データファイルを転送する転送処理部と、
   転送された前記統合データファイルを記憶する第２の記憶装置と、
   荷電粒子ビームを用いて、前記統合データファイルとして統合された第２の複数の描画データファイルに定義されたパターンを試料に描画する描画部と、
   を備えたことを特徴とする描画装置。
2. 前記所定の閾値として、所定のデータサイズが用いられることを特徴とする請求項１記載の描画装置。
3. 前記所定の閾値として、所定の描画単位領域数が用いられることを特徴とする請求項１記載の描画装置。
4. 前記統合データファイルを前記第２の複数の描画データファイルにファイル展開する展開部をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の描画装置。
5. 第１の複数の描画データファイルを記憶する第１の記憶装置から前記第１の複数の描画データファイルを順次読み出し、読み出された各描画データファイルの描画データに対して、パイプライン処理になるように複数の処理を行なう複数のデータ処理工程と、
   先にデータ処理が終了した描画データファイルに所定の閾値に達するまで後にデータ処理が終了した他の描画データファイルを統合する統合処理工程と、
   統合された統合データファイルを転送する転送処理工程と、
   転送された前記統合データファイルを記憶する第２の記憶装置から前記統合データファイルとして統合された第２の複数の描画データファイルを読み出し、荷電粒子ビームを用いて、前記第２の複数の描画データファイルに定義されたパターンを試料に描画する描画工程と、
   を備えたことを特徴とする描画方法。