JP2009076899A - 半導体チップパッケージ及びこれを用いた印刷回路基板 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 94
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 8
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 229920001690 polydopamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- H01L23/64—Impedance arrangements
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- H01L24/25—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of a plurality of high density interconnect connectors
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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- H01L2224/05548—Bonding area integrally formed with a redistribution layer on the semiconductor or solid-state body
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- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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- H01L2224/18—High density interconnect [HDI] connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/23—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process
- H01L2224/24—Structure, shape, material or disposition of the high density interconnect connectors after the connecting process of an individual high density interconnect connector
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- H01L2224/24221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
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- H01L2224/24227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation the HDI interconnect not connecting to the same level of the item at which the semiconductor or solid-state body is mounted, e.g. the semiconductor or solid-state body being mounted in a cavity or on a protrusion of the item
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- H01L2224/251—Disposition
- H01L2224/2518—Disposition being disposed on at least two different sides of the body, e.g. dual array
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- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
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- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
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- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
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- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
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Abstract
【課題】一面にチップパッドが形成され、他面にキャパシタが形成された半導体チップからなる半導体チップパッケージを提供する。
【解決手段】半導体チップパッケージ20は、チップパッド212とそこに接続された再配線層24が一面に形成された半導体基板211から成る半導体チップ21と、半導体チップ21の他面に形成されたパッド231,232とそれに接続されて形成されたキャパシタ22とを含む半導体チップパッケージ。
【選択図】図2
【解決手段】半導体チップパッケージ20は、チップパッド212とそこに接続された再配線層24が一面に形成された半導体基板211から成る半導体チップ21と、半導体チップ21の他面に形成されたパッド231,232とそれに接続されて形成されたキャパシタ22とを含む半導体チップパッケージ。
【選択図】図2
Description
本発明は半導体チップパッケージ及びこれを内蔵した印刷回路基板に関する。
最近、携帯用電子機器を含んだ電子製品における消費者の欲求がますます多様化していて、特に、多機能化、小型軽量化、高速化、低価化、移動便宜性の増加、無線を用いたインターネットにリアルタイム接続、消費者からの洗練されたデザインへのニーズなどは、それに合わせた製品を作るのに開発者、デザイナー、製造業体にとって大きな負担となっている。このような厳しい競争下で、競争社は次々と新モデルを出し続けており、これにより、また関連者の負担が加重されている。特に、携帯電話、PDA、デジタルカメラ、ノートパソコンなどのモバイル製品に対するニーズがますます高くなっており、その電子部品も互いに統合、モジュール化されながら多機能化、小型軽量化、低価化などが実現されている。
半導体チップに受動素子を内蔵する場合、半導体工程との互換性のために使用できる材料が限定され、また、受動素子によりチップサイズが大きくなったり、費用が増加したりするので、応用範囲が限定される。他の方法として、半導体チップパッケージに受動素子を内蔵する方法がある。パッケージ内部にキャパシタを直接形成する方法としては厚膜タイプ(type)と薄膜タイプが知られている。
厚膜型キャパシタの場合には、パッケージ絶縁材としてエポキシ樹脂に誘電体フィラー(filler)を分散させた複合材料を使用するため、工程性はよいが、誘電率が30前後と低いので大きな容量のキャパシタを実現し難い。薄膜型の場合には、高い容量密度を有するが、下部電極として使用される銅箔表面の欠陷により漏電を起こすことがある。
半導体チップパッケージと受動素子との信頼性を向上させるために、半導体チップパッケージの再配線層にキャパシタを形成する技術も考案された。しかし、再配線層にキャパシタを形成する場合には再配線の間にキャパシタを形成することになるので、キャパシタのサイズに制限があり、再配線工程との互換性のために、使用可能な電極材料が制限され、工程温度やパターニング方法など工程設計の自由度が低くなる。
こうした従来技術の問題点を解決するために、本発明は、半導体チップの再配線層から分離された領域にキャパシタを配置することにより、半導体チップを効果的に活用できる半導体チップパッケージ及びこれを内蔵した印刷回路基板を提供することをその目的とする。
本発明の一実施形態によれば、一面にチップパッドが形成された半導体チップと、上記半導体チップの他面に形成されたキャパシタと、を含む半導体チップパッケージが提供される。
上記キャパシタは、上記半導体チップの他面に積層された上部電極と、上記上部電極に積層された誘電層と、上記誘電層に積層された下部電極と、を含むことができる。
上記下部電極は、上記半導体チップの他面に形成された下部パッドと電気的に接続し、上記上部電極は、上記半導体チップの他面に形成された上部パッドと電気的に接続することができる。
上記半導体チップの一面には、上記チップパッドと電気的に接続する再配線を含んだ再配線層が積層されることができる。
本発明の他の実施形態によれば、半導体チップが内蔵され、回路パターン層と絶縁層とが交互に積層された印刷回路基板であって、上記半導体チップの一面に形成されたチップパッドが上記回路パターン層の第1回路パターンと電気的に接続し、上記半導体チップの他面に形成されたキャパシタが上記回路パターン層の第2回路パターンと電気的に接続する印刷回路基板が提供される。
上記キャパシタは、上記半導体チップの他面に積層された上部電極と、上記上部電極に積層された誘電層と、上記誘電層に積層された下部電極と、を含むことができる。
上記下部電極は上記半導体チップの他面に形成された下部パッドと電気的に接続し、上記上部電極は上記半導体チップの他面に形成された上部パッドと電気的に接続することができる。
上記チップパッドと上記第1回路パターンとは、再配線を含んだ再配線層を介して電気的に接続できる。
本発明によれば、半導体チップにてチップパッドが形成された面と異なる面にキャパシタを薄膜で形成することにより、半導体チップを効率的に活用することができる。また、薄膜のキャパシタを別途の工程で半導体チップに形成することにより、印刷回路基板の製造工程中にキャパシタを形成することに比べてより信頼性の高いキャパシタを形成することができる。
このように、半導体チップに形成されたキャパシタを含む半導体チップパッケージを印刷回路基板に内蔵することにより、キャパシタを印刷回路基板に内蔵したことと同じ効果が得られる。
以下、本発明に係る半導体チップパッケージとこれを内蔵した印刷回路基板の実施例を添付図面に基づいて詳細に説明し、添付図面を参照して説明することに当たって、同一かつ対応する構成要素は、同一の図面符号を付し、これに対する重複説明は省略する。
図1aは本発明の一実施例による半導体チップパッケージの平面図であり、図1bは本発明の一実施例による半導体チップパッケージの断面図である。図1a、1bを参照すると、半導体チップパッケージ10、半導体チップ11、半導体基板111、チップパッド112、保護膜113、キャパシタ12、下部電極121、誘電層122、上部電極123、下部パッド131、上部パッド132が示されている。
図1bは図1aのA部分の断面図であって、図1bを参照すると、半導体チップパッケージ10は半導体チップ11と半導体チップ11に形成されたキャパシタ12とを含む。
半導体チップ11は、集積回路が内在された半導体基板111と、半導体基板111の一面に備えられてその集積回路と電気的に接続するチップパッド112と、チップパッド112が露出するように半導体基板111に積層された保護膜113とを含む。
半導体チップ11の他面にはキャパシタ12が形成される。キャパシタ12は蒸着により薄膜で形成できる。キャパシタ12の下部電極121は半導体チップ11の他面に形成され、下部電極121には誘電層122が形成される。また、誘電層122には上部電極123が形成される。下部電極121と上部電極123は半導体チップ11の他面に形成された下部パッド131と上部パッド132とにそれぞれ電気的に接続される。
以上のように、キャッパシタ12の下部電極121、上部電極123、及び誘電層122の材質は、本技術分野の当業者に自明なことであるから、詳細な説明は省略する。
本実施例では、チップパッド112の形成されない半導体チップ11の他面にキャパシタ12を形成することにより、半導体チップ11の空間を効率的に活用でき、多様なサイズのキャパシタ12を形成できる。
図2は、本発明の他の実施例による半導体チップパッケージの断面図である。図2を参照すると、半導体チップパッケージ20、半導体チップ21、半導体基板211、チップパッド212、保護膜213、キャパシタ22、下部電極221、誘電層222、上部電極223、下部パッド231、上部パッド232、再配線層24、再配線241、及び絶縁層242が示されている。
図2は、全般的に図1bと同様な構成である。相違点を主として説明すると、本実施例の半導体チップパッケージ20は半導体チップ21の一面に再配線層24が積層されたことを特徴としている。
半導体チップ21の一面に形成されたチップパッド212は、直径が10〜20μmで極めて小さい。このようなサイズのチップパッド212は、印刷回路基板の製造工程でコントロールできる範囲を脱するので印刷回路基板と直接接続させることが困難である。したがって、再配線工程により外部と接続できるパッドのサイズを大きくするために再配線層24を形成する。
再配線層24は、絶縁層242と、絶縁層242間に介在された再配線241とを含む。再配線241は半導体チップ21のチップパッド212と電気的に接続し、一部は外部に露出されている。外部に露出された再配線241の一部はチップパッド212より表面積が広くて外部素子と電気的に接続させることが容易になる。
図3は本発明のまた他の実施例による印刷回路基板の断面図である。図3を参照すると、半導体チップパッケージ30、半導体チップ31、キャパシタ32、チップパッド33、回路パターン層35、絶縁層36、第1回路パターン351、第2回路パターン352、印刷回路基板300が示されている。
本実施例の印刷回路基板300は絶縁層36と回路パターン層35とが交互に積層された構造であり、半導体チップパッケージ30が内蔵されている。一方、印刷回路基板300の中心にはコア層37が内蔵されることもできる。
半導体チップパッケージ30の一面にはチップパッド33が形成され、チップパッド33は第1回路パターン351と電気的に接続する。チップパッド33はビアホールで第1回路パターン351と接続することもできる。
また、半導体チップ31の他面にはキャパシタ32が形成される。キャパシタ32は第2回路パターン352と電気的に接続する。
本実施例におけるチップパッド33と第1回路パターン351との接続、及び、キャパシタ32と第2回路パターン352との接続は、印刷回路基板300に半導体チップパッケージ30を内蔵した後にビアホールを形成することにより、行われることができる。
本実施例のように、半導体チップ31の他面に予めキャパシタ32が形成された半導体チップパッケージ30を印刷回路基板300に内蔵する場合には、予め形成されたキャパシタ32を内蔵するのでキャパシタ32の容量を的確にコントロールすることができる。このような構造のキャパシタ内蔵型印刷回路基板300は、印刷回路基板の製作工程中に薄膜のキャパシタを形成した従来の印刷回路基板に比べてより信頼性の高い容量のキャパシタを製造することができる。
特に、半導体チップ31の他面にはチップパッド33が形成されないので広い面積を確保することができ、また半導体チップ31の他面は平坦であって、薄膜蒸着によりキャパシタ32を形成することが容易である。
以上、本発明の好ましい実施例を参照して説明したが、当該技術分野で通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させることができることを理解できよう。
10 半導体チップパッケージ
11 半導体チップ
111 半導体基板
112 チップパッド
113 保護膜
12 キャパシタ
121 下部電極
122 誘電層
123 上部電極
131 下部パッド
132 上部パッド
11 半導体チップ
111 半導体基板
112 チップパッド
113 保護膜
12 キャパシタ
121 下部電極
122 誘電層
123 上部電極
131 下部パッド
132 上部パッド
Claims (8)
- 一面にチップパッドが形成された半導体チップと、
前記半導体チップの他面に形成されたキャパシタと、
を含む半導体チップパッケージ。 - 前記キャパシタは、前記半導体チップの他面に形成された上部電極と、
前記上部電極に形成された誘電層と、
前記誘電層に形成された下部電極と、
を含む請求項1に記載の半導体チップパッケージ。 - 前記下部電極は、前記半導体チップの他面に形成された下部パッドと電気的に接続し、前記上部電極は、前記半導体チップの他面に形成された上部パッドと電気的に接続することを特徴とする請求項2に記載の半導体チップパッケージ。
- 前記半導体チップの一面には前記チップパッドと電気的に接続する再配線を含んだ再配線層が積層されることを特徴とする請求項1に記載の半導体チップパッケージ。
- 半導体チップが内蔵され、回路パターン層と絶縁層とが交互に積層される印刷回路基板であって、
前記半導体チップの一面に形成されたチップパッドは、前記回路パターン層の第1回路パターンと電気的に接続し、
前記半導体チップの他面に形成されたキャパシタは、前記回路パターン層の第2回路パターンと電気的に接続することを特徴とする印刷回路基板。 - 前記キャパシタは、前記半導体チップの他面に形成された上部電極と、
前記上部電極に形成された誘電層と、
前記誘電層に形成された下部電極と、
を含む請求項5に記載の印刷回路基板。 - 前記下部電極は、前記半導体チップの他面に形成された下部パッドと電気的に接続し、前記上部電極は、前記半導体チップの他面に形成された上部パッドと電気的に接続することを特徴とする請求項6に記載の印刷回路基板。
- 前記チップパッドと前記第1回路パターンは、再配線を含んだ再配線層を介して電気的に接続することを特徴とする請求項5に記載の印刷回路基板。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020070094916A KR100869832B1 (ko) | 2007-09-18 | 2007-09-18 | 반도체칩 패키지 및 이를 이용한 인쇄회로기판 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009076899A true JP2009076899A (ja) | 2009-04-09 |
Family
ID=40284588
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008220258A Pending JP2009076899A (ja) | 2007-09-18 | 2008-08-28 | 半導体チップパッケージ及びこれを用いた印刷回路基板 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8064215B2 (ja) |
JP (1) | JP2009076899A (ja) |
KR (1) | KR100869832B1 (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120619 |