JP2009067778A - 放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンの製造方法及び放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミン - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ハロアルキル基を含有するオルガノシリルアミンと、放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ金属塩および放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ土類金属塩からなる群より選択される少なくとも1種の放射線重合性官能基を有する塩とを50〜150℃において反応させることを含む放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミンの製造方法、ならびに、特定のシラザン単位で構成された放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミン。
【選択図】なし
Description
本発明の製造方法において、放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンは、ハロアルキル基を含有するオルガノシリルアミンと、放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ金属塩および放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ土類金属塩からなる群より選択される少なくとも1種の放射線重合性官能基を有する塩とを脱塩反応させることにより製造することができる。
本発明の製造方法により得られる放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンは、分子中に1つ以上の放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミンである限り、特に限定されない。
(式中、Xは炭素原子数1〜10、好ましくは1〜8、より好ましくは1〜5の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、R1は(メタ)アクリロイルオキシ基であり、R2およびR3はおのおの独立に水素原子、炭素原子数1〜10、好ましくは1〜8、より好ましくは1〜4のアルキル基又は炭素原子数6〜10、好ましくは6〜8、より好ましくは6〜7のアリール基であり、aは0〜2の整数である。)
で表されるシラザン単位で構成されたオルガノシリルアミンが挙げられる。このオルガノシリルアミン中に上記一般式(1)で表されるシラザン単位が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
(式中、X、R1〜R3は前記のとおりであり、pは0以上の整数であり、より典型的には0〜10の整数、更により典型的には0〜5の整数である。)
で表される放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミン等が挙げられるが、中でも、下記一般式(2)
ハロアルキル基を含有するオルガノシリルアミンは、上記の放射線重合性官能基を有する塩と脱塩反応を起こすハロアルキル基を分子中に1つ以上含有していれば特に限定されない。
(式中、X、R2、R3及びaは前記のとおりであり、Yはハロゲン原子である。)
で表されるシラザン単位で構成されたオルガノシリルアミンを使用すればよい。このオルガノシリルアミン中に上記一般式(4)で表されるシラザン単位が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
(式中、X、Y、R1〜R3及びpは前記のとおりである。)
で表されるオルガノシリルアミンを使用すればよい。目的とする放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンが一般式(2)で表されるものである場合には、下記一般式(5)
放射線重合性官能基を有する塩は、放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ金属塩および放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ土類金属塩からなる群より選択される少なくとも1種である。放射線重合性官能基を有する有機酸としては、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。アルカリ金属塩としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウム、カリウム等が好ましい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等が挙げられ、カルシウム等が好ましい。
R1−M (7)
(式中、R1は前記のとおりであり、Mはアルカリ金属原子又はアルカリ土類金属原子である。)
で表される(メタ)アクリル酸塩、即ち、(メタ)アクリル酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩が挙げられる。上記一般式(7)で表される(メタ)アクリル酸塩の具体例としては、アクリル酸カリウム、メタクリル酸カリウム、アクリル酸ナトリウム、メタクリル酸ナトリウム、アクリル酸リチウム、メタクリル酸リチウムなどが挙げられ、中でも、反応性の点から、アクリル酸カリウム、メタクリル酸カリウム、アクリル酸ナトリウム、メタクリル酸ナトリウムが好ましく、アクリル酸カリウム、メタクリル酸カリウムがより好ましい。
本発明の放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンを合成するにあたって、脱塩反応は、その反応速度を促進させる点から、加熱下、更に有機溶媒中で行うことが好ましい。
上記の脱塩反応で発生したアルカリ金属ハライド及びアルカリ土類金属ハライドは、濾過等の当業者に公知の方法により、目的とする放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンから分離することができる。放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンは、減圧蒸留、液体カラムクロマトグラフィー等の当業者に公知の方法により更に精製することができる。
上記一般式(1)で表されるシラザン単位で構成されたオルガノシリルアミンは、例えば、上記一般式(4)で表されるシラザン単位で構成されたオルガノシリルアミンと、上記一般式(7)で表される(メタ)アクリル酸塩とを有機溶媒中で脱塩反応させることにより製造することができる。
また、上記一般式(2)で表されるオルガノシリルアミンは、例えば、上記一般式(5)で表されるオルガノシリルアミンと、上記一般式(7)で表される(メタ)アクリル酸塩とを有機溶媒中で脱塩反応させることにより製造することができる。
更に、上記一般式(3)で表されるオルガノシリルアミンは、例えば、上記一般式(6)で表されるオルガノシリルアミンと、上記一般式(7)で表される(メタ)アクリル酸塩とを有機溶媒中で脱塩反応させることにより製造することができる。
本発明の放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンは、下記一般式(1a)
(式中、R1〜R3及びaは前記のとおりである。)
で表されるシラザン単位で構成された放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンである。上記一般式(1a)で表されるシラザン単位で構成された放射線重合性官能基含有オルガノシリルアミンとしては、例えば、下記一般式(1a’)
アクリル酸カリウム220g(2.0モル)、ジメチルホルムアミド200g、トルエン200g、ビス-t-ブチルヒドロキシトルエン2.7gを、温度計、水冷コンデンサー、滴下ロートを備えたガラス製の1Lセパラブルフラスコに収め、140℃で加熱し、トルエンとアクリル酸カリウムとに含まれる水を留出させ反応系から除去した。その後、温度を120℃に下げ、反応系に1,3−ビス(クロロメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン230g(1モル)を滴下投入した。GCで反応追跡を行いながら、撹拌下、120℃で加熱還流した。3時間後、原料のシラザン由来のピークが完全に消失し、新たに生成物由来のピークが出現したことをGCにより確認して反応終了とした。その後、生成した塩化カリウムを濾別し、減圧下で反応溶剤を留去させることで淡黄色液体を得た。GCにより、この反応生成物の純度が97%以上であることを確認した。また、1H NMR, 13C NMR, 29Si NMR及びIRスペクトルにより、この反応生成物が目的化合物である1,3−ビス(アクリロイルオキシメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザンであることを確認した。この化合物についてのNMRスペクトルを図1〜3に、IRスペクトルを図4に掲載する。
実施例1においてアクリル酸カリウム220g(2.0モル)をメタクリル酸カリウム248g(2.0モル)に代えた以外は、実施例1と同様にして淡黄色液体を得た。GCにより、この反応生成物は純度が97%以上であることを確認した。また、1H NMR, 13C NMR, 29Si NMR及びIRスペクトルにより、この反応生成物が目的化合物である1,3−ビス(メタクリロイルオキシメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザンであることを確認した。
1H NMR (300MHz, CDC13, δ): -0.08ppm (s, 12H), 1.72ppm (s, 6H), 3.57ppm (s, 4H), 5.31ppm (m, 2H), 5.86ppm (m, 2H)
29Si NMR (60MHz, CDC13, δ): 0.5ppm
実施例1において1,3−ビス(クロロメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン230g(1モル)を1,3−ビス(γ―クロロプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン286g(1モル)に代えた以外は、実施例1と同様にして淡黄色液体を得た。GCにより、この反応生成物の純度が97%以上であることを確認した。また、1H NMR, 13C NMR, 29Si NMR及びIRスペクトルにより、この反応生成物が目的化合物である1,3−ビス(γ―アクリロイルオキシプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザンであることを確認した。
1H NMR (300MHz, CDC13, δ): -0.08ppm (s, 12H), 0.36ppm (t, J=7Hz, 4H), 1.46ppm (quint, J=7Hz, 4H), 3.81ppm (t, J=7Hz, 4H), 5.58ppm (m, 2H), 5.92ppm (m, 2H), 6.13ppm (m, 2H)
29Si NMR (60MHz, CDC13, δ): 0.5ppm
実施例1においてアクリル酸カリウム220g(2.0モル)をメタクリル酸カリウム248g(2.0モル)に代え、1,3−ビス(クロロメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン230g(1モル)を1,3−ビス(γ―クロロプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン286g(1モル)に代えた以外は、実施例1と同様にして淡黄色液体を得た。GCにより、この反応生成物の純度が97%以上であることを確認した。また、1H NMR, 13C NMR, 29Si NMR及びIRスペクトルにより、この反応生成物が目的化合物である1,3−ビス(γ―メタクリロイルオキシプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザンであることを確認した。
1H NMR (300MHz, CDC13, δ): -0.07ppm (s, 12H), 0.38ppm (t, J=7Hz, 4H), 1.46ppm (quint, J=7Hz, 4H), 1.75ppm (s, 6H), 3.80ppm (t, J=7Hz, 4H), 5.35ppm (m, 2H), 5.79ppm (m, 2H)
29Si NMR (60MHz, CDC13, δ): 0.5ppm
実施例1において温度を120℃ではなく40℃に下げた以外は、実施例1と同様にして反応系に1,3−ビス(クロロメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシラザン230g(1モル)を滴下投入する操作まで行った。その後、GCで反応追跡を行いながら、撹拌下、40℃で3時間加熱しても、原料のシラザン由来のピークが観測されるのみであり、反応は全く進行していなかった。
実施例1において温度を120℃に下げないで160℃に上げたこと、および、加熱還流を120℃ではなく160℃で行ったこと以外は、実施例1と同様にして反応を進めた。しかし、反応系は徐々に増粘して最終的にはゲル化を起こし、これ以上のハンドリングが不可能となった。
Claims (9)
- ハロアルキル基を含有するオルガノシリルアミンと、放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ金属塩および放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ土類金属塩からなる群より選択される少なくとも1種の放射線重合性官能基を有する塩とを50〜150℃において反応させることを含む放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミンの製造方法。
- ハロアルキル基を含有するオルガノシリルアミンが下記一般式(4)
(式中、Xは炭素原子数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、R2及びR3はおのおの独立に水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基又は炭素原子数6〜10のアリール基であり、aは0〜2の整数であり、Yはハロゲン原子である。)
で表されるシラザン単位で構成されたオルガノシリルアミンであり、
放射線重合性官能基を有する塩が下記一般式(7)
R1−M (7)
(式中、R1は(メタ)アクリロイルオキシ基であり、Mはアルカリ金属原子又はアルカリ土類金属原子である。)
で表される(メタ)アクリル酸塩であり、
得られる放射線重合性官能基を含有するオルガノシリルアミンが下記一般式(1)
(式中、X、R1〜R3及びaは前記のとおりである。)
で表されるシラザン単位で構成されたオルガノシリルアミンである
請求項1に係る製造方法。 - 放射線重合性官能基を有する塩が放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ金属塩であり、該アルカリ金属塩がメタクリル酸ナトリウム、メタクリル酸カリウム、アクリル酸ナトリウムおよびアクリル酸カリウムからなる群より選択される少なくとも1種であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に係る製造方法。
- 前記反応を有機溶媒中で行う請求項1〜5のいずれか1項に係る製造方法。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012053458A1 (ja) * | 2010-10-21 | 2012-04-26 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法とこれに用いる転写基材および密着剤 |
WO2013027787A1 (ja) * | 2011-08-24 | 2013-02-28 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス |
WO2013027786A1 (ja) | 2011-08-24 | 2013-02-28 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体およびガスバリアフィルム |
EP2865720A1 (en) | 2013-10-24 | 2015-04-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Photocurable coating composition, laminate, and automotive headlamp covering sheet |
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8034965B2 (en) * | 2007-11-09 | 2011-10-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Norbornane skeleton structure-containing organosilicon compound and method of producing same |
CN102731556A (zh) * | 2012-06-08 | 2012-10-17 | 新亚强硅化学江苏有限公司 | 四甲基二乙烯基二硅氧烷转化四甲基二乙烯基二硅氮烷制备工艺 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04288089A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-10-13 | Huels Ag | メタクリルオキシ基またはアクリルオキシ基を有するオルガノシランの製造法 |
WO2007050580A2 (en) * | 2005-10-25 | 2007-05-03 | Dow Corning Corporation | Transdermal drug delivery system with acrylate or methacrylate functional pressure sensitive adhesive composition |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE682526A (ja) | 1965-06-15 | 1966-12-14 | ||
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JPH10273490A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | ラジカル重合性基含有シラノール化合物の製造方法 |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04288089A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-10-13 | Huels Ag | メタクリルオキシ基またはアクリルオキシ基を有するオルガノシランの製造法 |
WO2007050580A2 (en) * | 2005-10-25 | 2007-05-03 | Dow Corning Corporation | Transdermal drug delivery system with acrylate or methacrylate functional pressure sensitive adhesive composition |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012053458A1 (ja) * | 2010-10-21 | 2012-04-26 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法とこれに用いる転写基材および密着剤 |
JP2012086484A (ja) * | 2010-10-21 | 2012-05-10 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリント方法とこれに用いる転写基材および密着剤 |
US9375871B2 (en) | 2010-10-21 | 2016-06-28 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Imprint process, and transfer substrate and adhesive used therewith |
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