JP2009065138A - レーザ照射装置、レーザ照射方法及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レーザ発振器101から射出したレーザ光を、位相シフトマスク103を介して長軸方向の強度分布を有するレーザ光へと変調し、シリンドリカルレンズ104及びレンズ105によって、絶縁基板上に設けられた非晶質半導体膜に転写し、レーザ光を走査して、非晶質半導体膜を結晶化する。
【選択図】図1
Description
本実施の形態では、本発明のレーザ照射装置及びそれを用いた結晶性半導体膜の形成工程について説明する。
本実施の形態では、実施の形態1で示した結晶性半導体膜の作製工程とは別の作製工程によって、結晶性半導体膜を作製する方法を説明する。なお、実施の形態1と重複する構成は、簡略化及び一部省略して説明する。
本実施の形態において、本発明のレーザ照射装置を用いて作製した結晶性半導体膜を用いて、薄膜トランジスタ(TFT)を作製する工程の一例について説明する。なお、本実施の形態ではトップゲート型(順スタガ型)TFTの作製方法を記載しているが、トップゲート型TFTに限らず、ボトムゲート型(逆スタガ型)TFTなどでも同様に本発明を用いることができる。また、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
本発明に係る半導体装置は、CPU(中央演算回路:Central Processing Unit)等の集積回路に適用することができる。本実施の形態では、本発明を用いて作製した半導体装置を適用したCPUの例に関して、図面を用いて以下に説明する。
本実施の形態では、上記実施の形態で示した半導体装置の使用形態の一例について説明する。具体的には、非接触でデータの入出力が可能である半導体装置の適用例に関して、図面を用いて以下に説明する。非接触でデータの入出力が可能である半導体装置は利用の形態によって、RFIDタグ、IDタグ、ICタグ、ICチップ、RFタグ、無線タグ、電子タグまたは無線チップとも呼ばれる。
102 ミラー
103 位相シフトマスク
104 シリンドリカルレンズ
105 レンズ
106 ステージ
110 光学系
111 照射面
120 スリット
121 シリンドリカルレンズ
133 強度分布
150 凸部
160 凹部
211 ガラス基板
212 下地膜
213 非晶質半導体膜
214 結晶性半導体膜
215 キャップ膜
214a 結晶帯
214b 境界
215 キャップ膜
290 結晶化領域
291 結晶化不良領域
Claims (20)
- 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から射出されたレーザ光に回折を生じさせて、長軸方向の強度分布を変化させる位相シフトマスクと、
前記位相シフトマスクによって回折した前記レーザ光の像を、照射面に結像させるシリンドリカルレンズと、
前記位相シフトマスクによって回折した前記レーザ光を、前記照射面に集光するレンズと、を有するレーザ照射装置。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から射出されたレーザ光に回折を生じさせて、長軸方向の強度分布を変化させる位相シフトマスクと、
前記位相シフトマスクによって回折した前記レーザ光の像を、照射面に結像させる非球面シリンドリカルレンズと、
前記位相シフトマスクによって回折した前記レーザ光を、前記照射面に集光するレンズと、を有するレーザ照射装置。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から射出されたレーザ光に回折を生じさせて、長軸方向の強度分布を変化させる位相シフトマスクと、
前記位相シフトマスクによって回折した前記レーザ光の像を、照射面に結像させるシリンドリカルレンズと、
前記位相シフトマスクによって回折した前記レーザ光を、前記照射面に集光する非球面レンズと、を有するレーザ照射装置。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から射出されたレーザ光に回折を生じさせて、長軸方向の強度分布を変化させる位相シフトマスクと、
前記位相シフトマスクによって回折した前記レーザ光の像を、照射面に結像させる非球面シリンドリカルレンズと、
前記位相シフトマスクによって回折した前記レーザ光を、前記照射面に集光する非球面レンズと、を有するレーザ照射装置。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一において、
前記レーザ発振器と前記位相シフトマスクとの間に、前記レーザ発振器から射出されたレーザ光の端部を遮断するためのスリットを有するレーザ照射装置。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一において、
前記位相シフトマスクは、前記レーザ光の走査方向に対してθ度傾いて配置されており、
前記照射面におけるビームスポットの幅をφとし、前記位相シフトマスクの厚さをdとし、前記位相シフトマスクに入射したときの前記レーザ光の屈折角をθ’としたとき、前記θが、φ<4d・tanθ’・cosθを満たすレーザ照射装置。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器から射出したレーザ光を、位相シフトマスクを介して長軸方向の強度分布を有するレーザ光に変調し、
前記位相シフトマスクを透過した前記レーザ光を、シリンドリカルレンズ及びレンズを通過させて、照射面に照射するレーザ照射方法。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器から射出したレーザ光を、位相シフトマスクを介して長軸方向の強度分布を有するレーザ光へと変調し、
前記位相シフトマスクを透過した前記レーザ光を、非球面シリンドリカルレンズ及びレンズを通過させて、照射面に照射するレーザ照射方法。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器から射出したレーザ光を、位相シフトマスクを介して長軸方向の強度分布を有するレーザ光へと変調し、
前記位相シフトマスクを透過した前記レーザ光を、シリンドリカルレンズ及び非球面レンズを通過させて、照射面に照射するレーザ照射方法。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器から射出したレーザ光を、位相シフトマスクを介して長軸方向の強度分布を有するレーザ光へと変調し、
前記位相シフトマスクを透過した前記レーザ光を、非球面シリンドリカルレンズ及び非球面レンズを通過させて、照射面に照射するレーザ照射方法。 - 請求項7乃至請求項10のいずれか一において、
前記レーザ発振器から射出した前記レーザ光をスリットに入射させて端部を遮断し、
前記スリットを通過した前記レーザ光を前記位相シフトマスクに入射させるレーザ照射方法。 - 請求項7乃至請求項11のいずれか一において、
前記位相シフトマスクは、前記レーザ光の走査方向に対してθ度傾いて配置されており、
前記照射面におけるビームスポットの幅をφとし、前記位相シフトマスクの厚さをdとし、前記位相シフトマスクに入射したときの前記レーザ光の屈折角をθ’としたとき、前記θが、φ<4d・tanθ’・cosθを満たすレーザ照射方法。 - 請求項7乃至請求項12のいずれか一において、
前記位相シフトマスクを通過した前記レーザ光は、長軸方向に周期的に複数の強度ピークを有するレーザ照射方法。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器から射出されたレーザ光を位相シフトマスクに入射して、長軸方向の強度分布を有するレーザ光へと変調させ、
前記位相シフトマスクを透過した前記レーザ光を、シリンドリカルレンズ及びレンズを通過させて、絶縁基板上に設けられた非晶質半導体膜に照射し、
前記レーザ光を前記レーザ光の長軸方向と垂直な方向に走査して、前記非晶質半導体膜を結晶化する半導体装置の製造方法。 - 繰り返し周波数が10MHz以上のパルス発振のレーザ発振器または連続発振のレーザ発振器から射出されたレーザ光を位相シフトマスクに入射して、長軸方向の強度分布を有するレーザ光へと変調させ、
前記位相シフトマスクを透過した前記レーザ光を、シリンドリカルレンズ及びレンズを通過させて、非晶質半導体膜を介して絶縁基板上に設けられたキャップ膜に照射し、
前記レーザ光を前記レーザ光の長軸方向と垂直な方向に走査して、前記非晶質半導体膜を結晶化する半導体装置の製造方法。 - 請求項14または請求項15において、
前記結晶化に際して、結晶化を助長する元素を用いる半導体装置の製造方法。 - 請求項14乃至請求項16において、
前記レーザ発振器から射出した前記レーザ光は、スリットを通過した後に前記位相シフトマスクに入射する半導体装置の製造方法。 - 請求項14乃至請求項17において、
前記シリンドリカルレンズは、非球面シリンドリカルレンズである半導体装置の製造方法。 - 請求項14乃至請求項18のいずれか一において、
前記レンズは、非球面レンズである半導体装置の製造方法。 - 請求項14乃至請求項19のいずれか一において、
前記位相シフトマスクは、前記レーザ光の走査方向に対してθ度傾いて配置されており、
前記照射面におけるビームスポットの幅をφとし、前記位相シフトマスクの厚さをdとし、前記位相シフトマスクに入射したときの前記レーザ光の屈折角をθ’としたとき、前記θが、φ<4d・tanθ’・cosθを満たす半導体装置の製造方法。
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