JP2009062517A

JP2009062517A - 水素化脱硫法

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Publication number: JP2009062517A
Application number: JP2008188129A
Authority: JP
Inventors: Peter Kokayeff; ピーター・コカイェフ; Laura Elise Leonard; ローラ・エリーゼ・レオナルド
Original assignee: UOP LLC
Current assignee: Honeywell UOP LLC
Priority date: 2007-09-07
Filing date: 2008-07-22
Publication date: 2009-03-26
Anticipated expiration: 2028-07-22
Also published as: CN101381624A; US20090065396A1; US7749375B2; JP5547880B2; RU2008135998A; MX2008009679A; EP2033710A1; CA2639202A1; RU2480511C2; ZA200806550B

Abstract

【課題】一つの面では、オレフィン飽和を最少に抑え、また、硫黄のメルカプタンへの再結合を最少に抑えながら、炭化水素流を選択的に脱硫する水素化脱硫法を提供する。
【解決手段】もう一つの面では、本発明の方法は、炭化水素流から硫黄を連続除去する少なくとも第一および第二の連続水素化脱硫反応ゾーンを含んでいる多段階反応ゾーンを含む。更にもう一つの面では、本発明の方法は、オレフィンナフサ炭化水素流、例えばＦＣＣナフサ、蒸気分解ナフサ、コークス器ナフサ（ｃｏｋｅｒｎａｐｈｔｈａ）または他のガソリン沸点範囲炭化水素流を選択率に脱硫するのに特に適している。
【選択図】図１

Description

［０００１］
本分野は、水素化脱硫方法に関するものであり、特に、オレフィンナフサ流のための選択的水素化脱硫法に関するものである。

［０００２］
環境問題および新しく制定された規制のために、石油製品は、硫黄および窒素のような汚染に関して益々厳しさを増す制限を満たすことが期待されている。新しい規制は、液化炭化水素、例えばガソリン、ディーゼル燃料および他の輸送燃料から硫黄組成物を除去することを求めている。例えば、超低硫黄ディーゼル（ＵＬＳＤ）の要求仕様は、ガソリンにおいては、典型的には１０ｐｐｍ未満の硫黄であり、そして現在は、硫黄は３０ｐｐｍ以下に規制している。ガソリン燃料においては硫黄レベルは１０ｐｐｍ未満まで低減させることも望ましい場合がある。

［０００３］
水素化脱硫とは、供給中の硫黄を適当な触媒と接触させ硫化水素に添加させることにより、オレフィンナフサ流から硫黄を除去するためにしばしば使用される水素化処理法である。場合によっては、所望の低レベルの硫黄を得るために高温高圧が必要な場合がある。しかしながら、オレフィンナフサの高温処理では、オクタン損失を導くオレフィン飽和に起因してより低級な燃料が生じる場合がある。ガソリン製品で使用するのに適するより高品質の燃料を製造するために、低オクタンガソリンは、追加の精製、異性化、ブレンディングなどが必要となる場合がある。そのような余分な処理により、追加のコスト、出費および複雑さが増し、製品に他の望ましくない変化が結果として生じる場合がある。

［０００４］
オレフィン飽和はより高い反応温度で一般的に有利であるので、水素化脱硫の一つの形態においては、水素化処理反応ゾーンにおいて比較的穏やかな温度を使用して、オレフィン飽和を生成する反応に比べて脱硫反応をより有利にする。しかしながら、そのような条件下では、水素化処理段階中に生成される硫化水素は、これらの比較的穏やかな条件下で反応してメルカプタンを形成する。これらの反応は、しばしば、復元反応または再結合反応と呼ばれる。

［０００５］
オレフィンナフサ流における再結合硫黄の存在によって、望ましい低硫黄レベルを達成するのが難しくなる場合がある。場合によっては、硫黄の再結合は、オレフィンを飽和させることによって防止することができるが、既に考察したように、ナフサのオレフィン飽和によって望ましくないオクタン損失が結果として起こる。他の場合には、再結合された硫黄は、様々な方法、例えばいくつかを水性処理法、塩基溶液、相間移動触媒などを使用して除去することができる。しかしながら、そのような追加の処理は、精油業者にとっては原価と費用の負担が増える。更に、再結合メルカプタンは、分岐していることがあるか、または、炭化水素流から完全に除去するのを困難にする高分子量を有していることがある。

［０００６］
場合によっては、ナフサ脱硫におけるメルカプタン形成は、硫化水素の段階間除去を有するまたは有しない二段階水素化処理ユニットを使用して最少に抑えることができる。例えば、第一段階では、水素化処理ゾーンは、炭化水素流から硫黄の大部分を除去して硫化水素を形成させる。次いで、第一段階反応ゾーンからの流出物を冷却し、第二段階反応器の前に硫化水素を除去できる。次いで、硫化水素の無い液体流出物を再加熱して第二段階反応ゾーンへと供給し、そこで、別の水素化処理ゾーンによって残留硫黄を所望のレベルまて除去する。他の場合では、第一段階からの流出物は、直接に第二段階へと送る。

［０００７］
第二反応ゾーンの前に硫化水素を流出物から分離すると、一般的に、再結合する硫化水素は最少になるので、第二反応ゾーンにおけるメルカプタン形成は最少に抑えられる。多くの場合、第二段階反応器を、第一段階反応器と同じ温度範囲で運転してオレフィン飽和を抑制する。而して、硫化水素を、第二反応ゾーンの前に除去しない場合、硫黄の再結合は、そのようなより低い第二段階温度でほぼ間違いなく起こると考えられる。しかしながら、硫化水素の段階間での除去は、精製プロセスが複雑になり且つコストが増える。

［０００８］
原油、重質油、減圧軽油、ナフサおよび他のガソリン沸点範囲炭化水素流のような炭化水素流を脱硫するための触媒および被覆触媒は、しばしば、水素流から硫黄を除去するために、ビスマス、モリブデン、バナジウム、タングステン、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、鉄、およびそれらの混合物を含む。一般的な運転条件範囲は、２００℃（３９２°Ｆ）〜６００℃（１，１１２°Ｆ）である。しかしながら、上記のように、高温でオレフィンナフサまたは他のガソリン沸点範囲炭化水素を脱硫するとき、例えば３１５℃（６００°Ｆ）を超えるいくつかの場合では、触媒は、同時にオレフィンも飽和させてオクタンの損失を誘導する。上記のように、温度を下げてオレフィン飽和を最少に抑えると、メルカプタン形成が有利になる傾向があると考えられる。

［０００９］
多種多様なプロセスフロースキーム、運転条件および触媒が商業的な石油炭化水素転化プロセスで使用されているが、新しい方法およびフロースキームに対する需要は常に存在している。多くの場合、プロセスフローまたは運転条件における小さな変化でも、品質と生成物選択の両方、ならびに経済的な問題、例えば設備投資および運用上の電気料金に関して有意な影響を及ぼし得る。

概要
［００１０］
オレフィン飽和を最少に抑えることができ、また、硫黄のメルカプタンへの再結合を最少に抑えることができる、炭化水素流を脱硫する水素化脱硫法を提供する。一つの面では、本方法は、炭化水素流から硫黄を連続除去する少なくとも第一および第二の連続水素化脱硫反応ゾーンを含んでいる多段階反応ゾーンを含む。

［００１１］
この面では、本方法は、炭化水素流を脱硫して、硫化水素を形成させ、そして同時に、オレフィン飽和を抑制するように選択した条件で動作する第一反応ゾーンを含む。本方法は、第一反応ゾーンからの流出物を更に脱硫し、オレフィン飽和を抑制し、そしてメルカプタン形成を抑制するように選択した条件および触媒で動作する第二反応ゾーンを更に含む。第一反応ゾーンの一つの面では、第一反応ゾーンにおける選択条件は、第一水素化脱硫ゾーンにおいて中温〜低温、例えば２６０℃（５００°Ｆ）〜３１５℃（６００°Ｆ）を含み、また、供給から硫黄の大部分を除去するのに有効な、そして同時にオレフィン飽和を最少に抑えるのにも有効な少なくとも１種の水素化脱硫触媒を使用することを含む。前記の面では、第一反応ゾーンにおける選択条件は、硫黄分の５０％超を硫化水素へと転化し、そしてオレフィン分の３０％未満を飽和させる。

［００１２］
そのような選択条件および触媒を使用して、これらの面のプロセスは、第一反応ゾーンと第二反応ゾーンとの間で硫化水素を除去する必要性を一般的に回避している。なぜならば、炭化水素流中の硫化水素の再結合が、運転条件とその中の触媒構成に起因して最少に抑えられ、そして好ましくは阻止されるからである。第二反応ゾーンの一つの面では、第二反応ゾーンにおける選択条件は、メルカプタン形成を抑制するために、第二水素化脱硫ゾーンにおいて、より高い温度、例えば３１５℃（６００°Ｆ）〜３９８℃（７５０°Ｆ）を含み、また、炭化水素流を脱硫するのに有効な、それと同時に、オレフィン飽和を最少に抑えるのに有効な最適化された触媒構成を使用することを含む。前記の面では、第二反応ゾーンは、１０ｐｐｍ未満のメルカプタンを形成し、オレフィン分の２０％未満を飽和させ、そして硫黄分の９０％を硫化水素に転化するように構成される。

［００１３］
望ましくない硫黄を分離した後、オレフィンナフサ流は、好ましくは１０ｐｐｍ未満の硫黄分を有するが、硫黄分は、生成される生成物に従って一般的に変化する。本方法は、オレフィンナフサ炭化水素流、例えばＦＣＣナフサ、蒸気分解ナフサ、コークス器ナフサ（ｃｏｋｅｒｎａｐｈｔｈａ）または他のガソリン沸点範囲炭化水素流を脱硫するのに特に適している。

［００１４］
オクタン損失を最少に抑え且つメルカプタンへの硫黄の再結合を防止しながらオレフィンナフサにおいてより低い硫黄レベルを達成することは、精油業者には挑戦すべき課題となり得る。課題は、一般的に、ファクターの中では特に、オレフィン飽和、メルカプタン形成と、典型的な水素化脱硫条件下での反応温度との関係から見えてくる。一方、前記条件下でのより高い反応温度は、一般的にオレフィン飽和を有利にする。また一方、硫黄再結合は、メルカプタン形成がより低い温度によって一般的に有利となるような反応温度とは反比例関係にあると考えられる。また、典型的な水素化脱硫条件下では、一般的に３１５℃（６００°Ｆ）を超える反応温度では、オレフィン飽和が有利になる傾向があり、一方、３１５℃（６００°Ｆ）未満の温度では、メルカプタン形成が一般的に有利になることも考えられる。前記温度範囲は、おおよそのものであり、一般的には供給組成、圧力、および触媒系などに左右される。

［００１５］
もう一つ別の面では、第二反応ゾーンは、内部コアと薄い外層とを有する最適化された層状触媒構成を含む。薄い外層は、硫黄を除去し且つオレフィン飽和を抑制するように最適化された所定の厚さで水素化脱硫触媒を含む。一つの前記の面では、層状触媒は５〜１００ミクロンの活性層を有し、別の面では５〜５０ミクロン、そして更に別の面では５〜３０ミクロンの活性層を有する。前記の低減された触媒厚さは、活性金属触媒と炭化水素流との間に充分な接触を提供して余分な硫黄を除去するが、炭化水素流中のオレフィンを有意に飽和させるほどにはオイルと触媒との間に充分な接触時間を提供しないと考えられる（理論によって限定されない）。

［００１６］
実施例で更に詳細に示してあるように、選択的脱硫条件と組み合わされた活性材料の薄い外層を有する前記の層状脱硫触媒構成は、従来の大きさの水素処理触媒および粒状水素処理触媒に比べて選択率において予期外の階段状変化を提供する（すなわち、オレフィン飽和よりも脱硫が有利）。本発明触媒の選択率の向上は、予期外である。なぜならば、より高い温度でも、薄い活性層を有する層状触媒によって、オレフィン飽和に比べて脱硫が有利になるからであり、そしてその場合、そのようなより高い温度で従来の触媒を使用すると、典型的には、望ましくないオレフィン飽和が有利になると考えられるからである。

［００１７］
更にもう一つ別の面では、第二水素処理ゾーンの触媒は、硫黄転化／オレフィン転化の選択率は５００を超え、その場合、前記選択率は、下式Ａ：
（Ａ）＝選択率＝（１００）（Ｓ_ｆ−Ｓ_ｐ／Ｓ_ｆ）／（Ｏ_ｆ−Ｏ_ｐ／Ｏ_ｆ）
＝（１００）硫黄転化率／オレフィン転化率
（式中、Ｓ_ｆ＝第二水素化脱硫ゾーンへの供給中の硫黄分、Ｓ_ｐ＝第二水素化脱硫ゾーン流出物中の硫黄分
Ｏ_ｆ＝第二水素化脱硫ゾーンへの供給中のオレフィン分、そして、Ｏ_ｐ＝第二水素化脱硫ゾーン流出物中のオレフィン分）によって定義される。

［００１８］
他の実施態様は、好ましい供給原料、好ましい触媒、および好ましい運転条件などの更なる詳細を含む。そのような他の実施態様および詳細は、本方法の様々な面に関する以下の考察で開示する。

好ましい実施態様の詳細な説明
［００２０］
一つの面では、本明細書で説明される方法は、炭化水素流を脱硫するのに特に有用であって、それと同時に、オクタン損失が最少であり且つメルカプタンへの硫黄の再結合も最少である。前記の面では、炭化水素供給流は、少なくとも第一および第二の水素化脱硫ゾーンを含む連続多段階プロセスにおける選択条件下で脱硫される。前記の面では、第二反応ゾーンの選択条件は再結合反応を抑制するので、段階間での硫化水素の除去は一般的に不要である。而して、本明細書の方法は、好ましくは、段階間での硫黄除去の複雑さを回避し、また、第一段階反応ゾーンからの流出物を第二段階反応ゾーンへと直接供給することが可能である。

［００２１］
一つの特定の面では、オレフィンナフサ供給流を、選択条件下で第一水素処理ゾーンで脱硫して供給流から硫黄を除去し、そしてまた、オレフィン飽和を抑制して供給のオクタンレベルも一般的に維持する。次いで、第一水素処理法ゾーンからの得られた流出物を第二段階へと直接供給し、そこで、第二水素処理ゾーンによって、オレフィン飽和を抑制する選択条件下で更に脱硫し、そしてまたメルカプタンを形成する硫黄の再結合も最少にする。その結果として、第二反応ゾーンは、一般的にオクタンレベルも維持する。第一水素処理ゾーンと第二水素処理ゾーンとの間での硫化水素除去は一般的に不要である。なぜならば、硫化水素が第二水素処理ゾーンに供給されるとしても、その中の選択条件に起因して、再結合は、最少に抑えられ、好ましくは阻止されるからである。

［００２２］
好ましい炭化水素供給原料としては、オレフィンナフサ炭化水素流、例えばＦＣＣナフサ、蒸気分解ナフサ、コークス器ナフサまたは他のガソリン沸点範囲炭化水素が挙げられる。好ましい供給原料は、３２℃（９０°Ｆ）〜２３２℃（４５０°Ｆ）で沸騰するガソリン沸点範囲供給原料である。前記供給原料は、１００〜８０００ｗｐｐｍの硫黄、６０％以下のオレフィン濃度、および７５〜９５のオクタンレベルを有していてもよいが；本明細書の方法では、他の供給流、硫黄レベル、オレフィン含量、およびオクタンレベルを使用することもできる。

［００２３］
一つのアプローチによって、選択した炭化水素供給原料をまず最初に水素富化流と組み合わせ、次いで、第一水素化脱硫ゾーン、例えば第一水素処理ゾーンの中に導入して硫黄を選択的に除去する。例えば、供給原料は、まず最初に、水素処理触媒（または水素処理触媒の組み合わせ）を有する水素処理ゾーンに導入し、供給中の硫黄の大部分を硫化水素へと転化させるのに有効な且つ同時にオレフィンの飽和を最少に抑えるのに有効な選択された水素処理条件下で処理する。一般的に、前記選択条件としては、２６０℃（５００°Ｆ）〜３１５℃（６００°Ｆ）の温度、０．６９ＭＰａ（１００ｐｓｉｇ）〜３．４５ＭＰａ（５００ｐｓｉｇ）の圧力、および０．５ｈｒ^−１〜１０ｈｒ^−１の新たな炭化水素供給の液空間速度が挙げられる。処理しようとする特定の供給原料に応じて他の水素処理条件も可能である。第一水素処理ゾーンは単一または複数の反応器を含むことができ、また、各反応器は、硫黄および窒素を硫化水素およびアンモニアへと転化させるために同じかまたは異なる触媒を有する１つ以上の反応ゾーンを含むことができる。

［００２４］
第一水素処理ゾーンで使用するための適当な水素処理触媒は、任意の公知の従来の水素処理触媒であり、そして前記触媒としては、例えば、高表面積担持材上において、好ましくはアルミナ上において、少なくとも１種のＶＩＩＩ族金属（好ましくは鉄、コバルトおよびニッケル、より好ましくはコバルトおよび／またはニッケル）および少なくとも１種のＶＩ族金属（好ましくはモリブデンおよびタングステン）から成る触媒が挙げられる。他の適当な水素処理触媒としては、ゼオライト触媒、ならびに貴金属がパラジウムおよび白金から選択される貴金属触媒が挙げられる。複数のタイプの水素処理触媒を同じ反応器で使用するのは、本明細書の方法の範囲内である。典型的には、ＶＩＩＩ族金属は、０．５〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の量で存在する。典型的には、ＶＩ族金属は、１〜２５重量％、好ましくは１〜１２重量％の量で存在する。水素処理用のいくつかの例示的な触媒を説明してきたが、他の水素処理触媒および／または水素化脱硫触媒も、特定の供給原料および所望の流出物品質に応じて使用することができる。

［００２５］
このアプローチによって、この面では、第一水素処理ゾーンにおける選択条件は、炭化水素供給由来の硫黄の５０％超、好ましくは６０〜８０％を硫化水素へと転化させるの有効である。同時に、選択条件は、オレフィン飽和を抑制して一般的にオクタンレベルを維持する。例えば、第一反応ゾーンは、１５〜３０％までオレフィン飽和を最少にし、オクタン損失を最少にする。換言すれば、この面では、炭化水素供給流は、典型的には、第一反応ゾーンにおいて、オクタン価０．５〜１．５のオクタンを損失するだけである。しかしながら、これらの転化レベルは、供給組成物、運転条件および他の変数に従って変化するかもしれないことを認識すべきである。

［００２６］
別の面では、第一水素処理ゾーンからの流出物は、次に、第二水素化脱硫ゾーンへと直接供給する。前記の面では、そのプロセスは、第二水素化脱硫ゾーンの前に、硫化水素を全く除去せず、これらの追加の分離工程の費用および複雑さが最少に抑えられる。任意には、第一水素処理ゾーンからの流出物は、第二段階で要求される温度まで温度を上げるために予熱器の中に供給する。更に後述するように、第二反応ゾーンに対する供給からの硫化水素の除去は、一般的に不要である。なぜならば、第二反応ゾーンで使用される選択運転条件によって一般的にその後のメルカプタン形成が最少に抑えられるからである。

［００２７］
別の面では、次いで、第一水素処理ゾーンからの流出物流を水素富化流と組み合わせ、そして、第二水素化脱硫ゾーン、例えば第二水素処理ゾーンの中に導入して硫黄を選択的に更に除去する。一つの面では、流出物は、選択的水素処理触媒（または選択的水素処理触媒の組み合わせ）を有する第二水素処理ゾーン中に導入し、そして、硫黄レベルを低下させるのに有効な、メルカプタン形成を最少に抑えるのに有効な、そして、オレフィン飽和を最少に抑えるのに有効な選択水素処理条件下で処理する。一般的に、前記選択条件としては、最適化された触媒構成、３１５℃（６００°Ｆ）〜３９８℃（７５０°Ｆ）の温度、０．６９ＭＰａ（１００ｐｓｉｇ）〜３．４５ＭＰａ（５００ｐｓｉｇ）の圧力、および０．５ｈｒ^−１〜１５ｈｒ^−１の新鮮な炭化水素供給原料の液空間速度が挙げられる。処理しようとする特定の供給原料に応じて他の水素処理条件も可能である。第一水素処理ゾーンは単一または複数の反応器（好ましくはトリクルベッド型反応器）を含むことができ、また、各反応器は、硫黄および窒素を硫化水素およびアンモニアへと転化させるために同じかまたは異なる触媒を有する１つ以上の反応ゾーンを含むことができる。

［００２８］
別の面では、第二水素処理ゾーンにおける選択運転条件としては、好ましくは、内部コアと、活性脱硫金属を含む外層とを有する層状または卵殻構成を有する最適化された触媒構成が挙げられる。前記の面では、外核は、オレフィン飽和反応に比べて脱硫反応を有利にするように最適化された厚さを有する活性層を有する。一つの面では、オレフィン飽和反応に比べて脱硫反応を有利にするために、外層の厚さは５〜１００ミクロンであり、別の面では５〜５０ミクロンであり、そして更に別の面では５〜３０ミクロンである。前記の選択率は、３１５℃（６００°Ｆ）を超える高温でも有利である。活性層が厚くなると、オレフィン飽和がより有利になって選択率が悪くなり、一方、活性層が薄くなると、脱硫活性は不充分なものとなると考えられる。

［００２９］
下記の実施例で更に検討されるように、高温と組み合わせた前記層状触媒は、選択率において予期外の階段状変化を提供する（すなわち、オレフィン飽和反応に比べて脱硫反応が有利）。一般的には、より高い温度は、選択率を低下させることが予期されると考えられる。理論によって限定されたくないが、前記の選択率は、充分な脱硫活性を有し、また、オイルとオレフィンを飽和させる活性金属との間に不充分な接触時間を提供するのに充分に薄くもある薄層に少なくとも部分的に起因していると考えられる。

［００３０］
一つのアプローチによって、層状触媒組成物は、外層に比べて、触媒金属前駆体に関して実質的に低い吸着容量を有する、無機酸化物から成る内部コアを含む。好ましくは、内部コアは、耐火性無機酸化物であるが、非耐火性であってもよい。内部コアに適する耐火性および非耐火性の無機酸化物としては、例えば、アルファアルミナ、シータアルミナ、炭化ケイ素、金属、コージライト、ジルコニア、チタニアおよびそれらの混合物が挙げられるが、それらに限定されない。内部コアのための好ましい耐火性無機酸化物はコージライトである。適当な層状触媒は、その内容を参照により本明細書に完全に引用したものとする米国特許第６，１７７，３８１Ｂ１号で説明されているようにして形成できる。しかしながら、適当な触媒は、他の方法、材料および条件を使用して調製することもできる。

［００３１］
このアプローチによって、この面では、第二反応ゾーンにおける選択的運転条件は、硫黄レベルを１０ｐｐｍ以下まで好ましく低下させるために、８０〜９０％の硫黄を硫化水素へと転化させるのに有効である。同時に、その条件は、オレフィン飽和を１０〜２０％未満の最少に抑え、またメルカプタンの形成は１０ｐｐｍ未満である。而して、第二反応ゾーンからの流出物は、一般的にオクタン価が維持され、第二反応ゾーンにおけるオクタン価損失は０．３〜１である。

［００３２］
一つの前記方法では、内部コアは、様々な形状、例えばペレット、押出物、球体または不規則に成形された粒子へと成形することができる。しかしながら、すべての材料が任意の形状へと成形できるわけではないことが認識される。内部コアの調製は、オイルドロッピング（ｏｉｌｄｒｏｐｐｉｎｇ）法、加圧成形法、金属成形法、ペレタイジング法、粒状化法、押出法、ローリング法およびマルメライジング（ｍａｒｕｍｅｒｉｚｉｎｇ）法などによって行うことができる。球状または円筒状の内部コアが好ましい。成形内部コアを調製したら、それを、４００℃（７５２℃）〜１５００℃（２７３２°Ｆ）の温度で焼成することができる。

［００３３］
別の面では、次いで、内部コアとして使用できる無機酸化物と同じかまたは異なる非耐火性無機酸化物の外層で内部コアを被覆する。外層に適する非耐火性無機酸化物としては、例えば、シータアルミナ、炭化ケイ素、金属、ジルコニア、チタニア、ガンマアルミナ、デルタアルミナ、イータアルミナ、シリカ／アルミナ、ゼオライト、非ゼオライトモレキュラーシーブ（ＮＺＭＳ）、ハイドロタルサイトおよびそれらの混合物が挙げられるが、それらに限定されない。前記の面では、非耐火性酸化物のこの外層は、外層の重量を基準として５０〜２００ｍ^２／ｇの比較的大きな表面積を有するものであるが；他の表面積も可能である。上記のように、一つの面では、外層厚は、１〜１００ミクロンであり、別の面では５〜５０ミクロンであり、そしてもう一つ別の面では２５〜３０ミクロンである。

［００３４］
別の面では、外層は、その表面全体に分散された多くの細孔を有する。触媒の外層中の細孔は、一つの面では、６５〜７５オングストロームの平均細孔半径を有する。しかしながら、場合によっては、細孔半径サイズ分布は、２０〜２５０オングストロームで変化する。別の面では、細孔容積は、外層の厚さおよび細孔の平均半径に実質的に比例する。例えば、外層厚が約１００ミクロンである場合、総細孔容積は０．１０〜０．１５ｃｃ／ｇである。外層厚が約２００ミクロンである場合、総細孔容積は０．２０〜０．３０ｃｃ／ｇである。触媒の重量を基準として、厚さ１００ミクロンの外層を有する触媒の表面積は約３５ｍ^２／ｇであり、厚さ２００ミクロンの外層を有す触媒の表面積は約６５ｍ^２／ｇである。しかしながら、前記の表面積は、単に例示であり、触媒、供給原料および運転条件に応じて変動し得る。

［００３５］
面では、シリカ／アルミナは、一般的にシリカとアルミナの物理的混合物ではないが、一般的に共ゲル化または共沈させた酸性で非晶質の材料であることを認識すべきである。（米国特許第３，９０９，４５０Ａ号；米国特許第３，２７４，１２４Ａ号；および米国特許第４，９８８，６５９Ａ号を参照されたい）。ゼオライトとしては、例えばゼオライトＹ、ゼオライトＸ、ゼオライトＬ、ゼオライトベータ、フェリエ沸石、ＭＦＩ、モルデン沸石およびエリオン沸石が挙げられるが、それらに限定されない。非ゼオライト系モレキュラーシーブ（ＮＺＭＳ）は、アルミニウムおよびケイ素以外の元素を含み、その例としては、米国特許第４，４４０，８７１Ａ号に記載されているシリコアルミノホスフェート（ＳＡＰＯ）、米国特許第４，７９３，９８４Ａ号に記載されているＥＬＡＰＯ、米国特許第４，５６７，０２９Ａ号に記載されているＭｅＡＰＯが挙げられる。好ましい面では、外層用の無機酸化物はガンマアルミナである。

［００３６］
更に別の面では、ガンマアルミナを調製する一つの方法は、その内容を参照により本明細書に完全に引用したものとする米国特許第２，６２０，３１４Ａ号に記載されている公知のオイルドロップ法である。オイルドロップ法は、アルミニウムヒドロゾルを形成させる工程、一つの面では、アルミニウム金属と塩酸を反応させることによってアルミニウムヒドロゾルを形成させる工程；そのヒドロゾルを適当なゲル化剤、例えばヘキサメチレンテトラアミンと組み合わせる工程；そして、その得られた混合物を高温（９３℃（１９９°Ｆ）に維持した油浴中へと滴下する工程を含む。混合物の液滴は、それらが固まってヒドロゲル球を形成するまで、油浴中に残留させる。次いで、球を連続して油浴から取り出し、典型的には特異的に熟成させ、そしてオイルおよびアンモニア性溶液中で乾燥処理して、それらの物理的特性を更に向上させる。次いで、得られた熟成されゲル化された球を、洗浄し、８０℃（１７６°Ｆ）〜２６０℃（５００°Ｆ）の比較的低い温度で乾燥させ、そして４５５℃（８５１°Ｆ）〜７０５℃（１３０１°Ｆ）の温度で１〜２０時間焼成した。この処理により、ヒドロゲルは、対応する結晶性ガンマアルミナへと転化する。

［００３７］
別の面では、外層は、外部非耐火性酸化物のスラリーを形成し、次いで、そのスラリーで内部コアを被覆することによって施用することができる。無機酸化物のスラリーは、通常はペプタイザーの使用を含む。例えば、遷移アルミナのうちの任意のものを、水および酸と、例えば硝酸、塩酸、または硫酸と混合してスラリーを生成させる。あるいは、アルミニウムゾルは、例えば、塩酸中にアルミニウム金属を溶かし、次いで、アルミニウムゾルとアルミナ粉末とを混合することによって、作ることができる。

［００３８］
別の面では、スラリーは、内部コアに層材料を接着させるのに役立つ有機結合剤も含むことができる。この有機結合剤としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロースおよびカルボキシメチルセルロースが挙げられるが、それらに限定されない。スラリーに加えられる有機結合剤の量は、スラリーの重量を基準として０．１重量％〜３重量％とかなり変化する。外層が内部コアにどのくらい強く結合されるかは、摩耗試験中に失われる層材料の量（すなわち磨損）で測定できる。一つの面では、磨耗による外層の損失は、参照によりその内容を本明細書に引用したものとする米国特許第６，１７７，３８１Ｂ１号の実施例１１に記載されている方法で、触媒を撹拌し、微粉を集め、そして摩損を計算することによって測定される。前記の面では、上記の有機結合剤を使用することにより、摩損は、外層の１０重量％未満となることを見出した。

［００３９］
外部無機酸化物の粒径に応じて、別の面では、粒径を小さくし且つ同時により狭い粒径分布を得るために、スラリーを粉砕する必要があるかもしれない。これは、例えば、３０分〜５時間、好ましくは１．５〜３時間、ボールミル粉砕することによって実行できる。いくつかの面では、狭い粒径分布を有するスラリーを使用すると、内部コアに対する外層の結合が向上することを見出した。いかなる特定の理論にも束縛されることを望まないが、ＰＶＡのような結合剤は、外層材料と内部コアとの間に連結を作るのに役立つと考えられる。それが、ＰＶＡがコアの表面張力を低下させることによって、または、いくつかの他のメカニズムによって、起こるかどうかは明確ではない。明確なのは、いくつかの面では、磨耗による外層の損失がかなり減少するということである。

［００４０］
別の面では、スラリーは、アルミナ結合剤、シリカ結合剤またはそれらの混合物から選択される無機結合剤も含むことができる。シリカ結合剤としては、例えばシリカゾルおよびシリカゲルが挙げられ、アルミナ結合剤としては、例えばアルミナゾル、ベーマイトおよび硝酸アルミニウムが挙げられる。別の面では、無機結合剤は、完成組成物ではアルミナまたはシリカへと転化される。無機結合剤の量は、酸化物として、スラリーの重量を基準として２〜１５重量％で変化し得る。

［００４１］
別の面では、スラリーは、アルカリ金属、アルカリ土類金属およびそれらの混合物から成る群より選択される変性剤金属（ｍｏｄｉｆｉｅｒｍｅｔａｌ）を含むこともできる。
本発明の実行における改質用金属として使用できるアルカリ金属およびアルカリ土類金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、ルビジウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムおよびバリウムが挙げられる。好ましい変性剤金属は、リチウム、カリウム、ナトリウムおよびセシウムであり、特に好ましくはリチウムおよびナトリウムである。一つの方法は、変性剤金属または変性剤金属前駆体の分解可能な化合物の溶液（好ましくは水溶液）でスラリーを調製することを含む。分解可能とは、加熱時に、金属化合物が、副生物を放出すると共に、金属または金属酸化物へと転化することを意味している。アルカリ金属およびアルカリ土類金属の分解可能な化合物の例としては、ハライド化合物、ニトレート化合物、カーボネート化合物または水酸化物化合物、例えば水酸化カリウム、硝酸リチウムが挙げられるが、それらに限定されない。

［００４２］
別の面では、スラリーによる内部コアのコーティングは、ロール塗り、浸し塗り、吹き付け塗りなどのような手段によって達成できる。一つの好ましい技術は、内部コア粒子の固定流動床を使用すること、および、その床中にスラリーを吹き付けて粒子を均一に被覆することを含む。上記のように、層の厚さは、変えることができるが、通常は、いくつかの面では１〜１００ミクロン、他の面では５〜５０ミクロン、更に他の面では５〜３０ミクロンである。最適な層の厚さは、触媒のための使用および外部無機酸化物の選択および他の考慮事項の中でも特に所望の選択率に左右されることを認識すべきである。別の面では、外部無機酸化物の層で内部コアを被覆したら、その得られた層状担体を、１〜２４時間、１００℃（２１２°Ｆ）〜３２０℃（６０８°Ｆ）の温度で乾燥させ、次いで、４００℃ （７５２°Ｆ）〜９００℃（１６５２°Ｆ）の温度で０．５〜１０時間焼成して外層を内部コアに効果的に結合させて層状触媒担体を提供することができる。もちろん、乾燥工程および焼成工程を組み合わせて一つの工程とすることができ、また、特定の用途に応じて他の処理条件および温度を使用してもよい。

［００４３］
層状触媒担体が得られたら、触媒金属および／または触媒金属前駆体を、層状担体上に分散させることができる。一つのアプローチによって、活性金属は、任意の公知の従来の水素処理触媒を含み、そして、前記活性金属としては、少なくとも１種のＶＩＩＩ族金属（好ましくは鉄、コバルトおよびニッケル、より好ましくはコバルトおよび／またはニッケル）および／または少なくとも１種のＶＩ族金属（好ましくはモリブデンおよびタングステン）から成るものが挙げられる。他の適当な水素処理触媒としては、ゼオライト性触媒、ならびに貴金属がパラジウムおよび白金から選択される貴金属触媒が挙げられる。複数のタイプの水素処理触媒を同じ反応器で使用するのは、本明細書の方法の範囲内である。

［００４４］
一般的に、層状触媒の外層中のＶＩＩＩ族金属は、典型的には０．５〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量％の量で存在する。典型的には、ＶＩ族金属は、１〜２５重量％、好ましくは１〜１０重量％の量で存在する。一つのアプローチによって、活性金属は、０．５〜５の酸化コバルトおよび１〜１５の酸化モリブデンを含む。水素処理用のいくつかの例示的な触媒を説明してきたが、他の公知の水素処理触媒および／または水素化脱硫触媒も、特定の供給原料および所望の流出物品質に応じて使用することができる。触媒金属は、例えば、金属または金属前駆体の分解可能な化合物の溶液（好ましくは水溶液）を層状担体に含浸させることによって、層状担体上に堆積させることができる。

［００４５］
すべての金属は、１つの共通の溶液を使用して含浸させることができるか、または、任意の順序で順々に含浸させることができるが、必ずしも結果は等価ではない。一つの面では、好ましい含浸手順は、蒸気ジャケット付き回転乾燥器の使用を含む。例えば、触媒担体は、乾燥器中に含有された所望の金属化合物を含む含浸液中に浸漬させ、また、その担体を、乾燥器の回動運動によってその中で混転させる。触媒担体は、好ましくは、液相の存在下にあり、また他の面では、全液相中にある。別の面では、含浸液は、自由液体が存在するように、触媒担体の量に比べて過剰に存在する。他の面では、金属の沈殿は、一般的に、含浸液のｐＨを適当に調節することによって防止される。更に他の面では、混転している担体と接触する溶液の蒸発は、乾燥器ジャケットに蒸気を入れることによって促進される。更なる面では、得られた複合材料は、任意の適当な条件下で、例えば、周囲温度条件または８０℃（１７６°Ｆ）〜１１０℃（２３０°Ｆ）の温度で乾燥させ、次いで、４００℃（７５２°Ｆ）〜７００℃（１２９２°Ｆ）の温度で１〜４時間焼成し、それによって、金属化合物を金属または金属酸化物へと転化させる。

［００４６］
一つの調製法では、その方法は、層として内部コア上へ施用する前に、金属成分の１種以上を外部無機酸化物に加える工程を含む。例えば、ＶＩＩＩ族もしくはＶＩ族の金属のいずれか、または、両方を、スラリーに加えることができる。而して、一つのそのような方法では、内部コア上へ層として堆積させる前に、外部無機酸化物上へ触媒金属を堆積させる。触媒金属は任意の順序で外部耐火性酸化物粉末上へと堆積させることができるが、必ずしも等価の結果は得られない。

［００４７］
層状触媒組成物の調製における任意の工程として、層状触媒組成物を水熱処理することができる。水熱処理法は、一般的に、非耐火性酸化物の物理的特性を改良するために使用される。例えば、一つの方法では、水熱処理は、層状触媒組成物を、水の存在、温度１００℃（２１２°Ｆ）〜１２００℃（２１９２°Ｆ）、および圧力０ｋＰａ（０ｐｓｉｇ）〜１０，１３３ｋＰａ（１４７０ｐｓｉｇ）を含む条件に暴露する工程を含む。水熱処理の間、層状触媒組成物は、０体積％超のわずかな量、例えば５０ｖｏｌ−ｐｐｍから１００体積％で水を含む液体流または蒸気流と接触させることができる。他の面では、水熱処理の継続時間は、わずか１分から最高１０時間または２０時間、１日以上であることができる。

［００４８］
一つの水熱処理では、層状触媒組成物はオートクレーブ中に配置することができ、次いで、層状触媒組成物は、好ましくは液状水分である水含有液によって完全に被覆することができ、次に、オートクレーブを閉じ、オーブン中に配置し、そして、オーブンを、最長８〜１０時間、２００℃（３９２°Ｆ）の温度に維持する。別の水熱処理では、層状触媒組成物を、オーブンまたは炉の中に配置し、ガスをオーブンまたは炉の中に通し、次いで、オーブンを、１〜２４時間、２６０℃（５００°Ｆ）〜８１６℃（１５００°Ｆ）の温度に維持する。この水熱処理では、水は、層状触媒組成物全体に流動ガスによって運ぶことができ、オーブンまたは炉またはその両方で前記組成物が加熱される前に、水は、層状触媒組成物の中または上に存在することができる。ガスは、任意の適当なガス、例えば空気、酸素、窒素、不活性ガス成分、またはそれらの混合物を含むガスであることができる。

［００４９］
層状担体を焼成する前または後に、触媒金属および／または金属前駆体を層状担体上に分散させる前または後に、任意の水熱処理を行うことができる。層状触媒組成物の調製中に異なる工程で水熱処理すると、等価な結果を与えない場合がある。水熱処理の後に任意の工程として、水熱処理された材料を乾燥させることができ、次いで、上記のように焼成することができる。水熱処理を、層状担体上に触媒金属および／または金属前駆体を分散させた後に実行する場合は、水熱処理および任意の次の熱処理は、好ましくは、触媒組成物を還元する前に行う。水熱処理を触媒組成物を還元した後に行う場合は、追加の任意の還元工程を行うことができる。いかなる特定の理論にも束縛されることを望まないが、水熱処理は、層状触媒組成物の細孔径分布を変更するか、触媒金属および／もしくは金属前駆体が水熱処理前に層状担体上に分散された場合、層状触媒組成物上の金属クラスタの大きさを変更するか、または、その両方を変更すると考えられる。前記の変更は、性能、特に、層状触媒組成物の転化率および選択率に影響を及ぼすと考えられる。

［００５０］
一つの面では、活性金属は、外部無機酸化物の外層全体にわたって均一に分散され、また、外層にのみ実質的に存在する。好ましくは、無機酸化物の外層上におけるＶＩＩＩ族金属対ＶＩ族金属の割合は、実質的に一定である。

［００５１］
触媒粒子の形状と大きさは、多くの技術的経済的ファクターと、考慮すべき事柄、例えば、選択的水素化反応器全体の許容可能な圧力降下、触媒の量および製造コストとに左右される。一つの面では、粒子の好ましい形状は球状である。別の面では、好ましくは、触媒粒子は、０．８ｍｍ（１／３２インチ）〜６．４ｍｍ（１／４インチ）の直径を有し、もう一つ別の面では１．６ｍｍまたは１６００ミクロン（１／１６インチ）の直径を有する。

［００５２］
別の実施態様では、選択的な触媒は、活性金属を外面上に層として堆積させてある卵殻触媒（ｅｇｇｓｈｅｌｌｃａｔａｌｙｓｔ）として調製することができる。この構成では、活性材料は、一般的に、活性金属の卵殻層を形成している内部コア上へと分散または拡散される。活性金属が内部コアの外層だけへと拡散するのを制限または停止させるために、例えば、クエン酸のような金属イオン封鎖剤を使用することによって、層の厚さを調節することができる。前記の触媒では、担体は、既に記載した担持材のうちの任意のものであってよい。

図面の詳細な説明
［００５３］
図面を参照されたい。オレフィンの飽和が最少で且つ再結合体メルカプタンの形成も最少であるような、低硫黄オレフィンナフサを提供する例示的な炭化水素処理ユニットを更に詳細に説明する。上記の方法の様々な特徴、例えばポンプ、計装、熱交換および熱回収のユニット、凝縮器、圧縮機、フラッシュドラム、供給タンク、および炭化水素転化法の商業的実施態様で伝統的に使用される他の補助的または種々のプロセス装置の様々な特徴は、当業者には公知であるので、説明または図示していない。そのような付随的装置は、本明細書で説明されるフロースキームの商業的実施態様で使用できることが了解される。そのような補助的または種々のプロセス装置は、過度の実験を行わずとも、当業者は入手し設計することができる。

［００５４］
図面を説明する。好ましくは段階間で硫化水素除去を行わずに、オレフィンナフサ供給流を順次脱硫するための多段階選択的水素化脱硫法を含む統合処理ユニット１０を提供する。一つの面において、プロセス１０は、第一水素化脱硫ゾーン１２および第二水素化脱硫ゾーン１４を含む。別の面では、第二反応ゾーン１４からの得られた流出物流３２は低硫黄であり、オレフィンナフサの硫黄分は１０ｐｐｍ以下であり、オレフィンナフサが、飽和オレフィンは最少であり、また、形成されるメルカプタンも最少である。

［００５５］
一つのアプローチでは、ＦＣＣナフサのようなオレフィンナフサを好ましく含む供給流を、ライン１６を介してプロセス１０へと導入する。水素富化ガス流をライン１８を介して提供して、混合物を製造し、そしてそれを、硫黄分の５０％超を硫化水素へと転化させる少なくとも１つの水素処理ゾーン２２を含む第一水素化脱硫ゾーン１２へと移動させる。
上で検討したように、水素処理ゾーン２２は、脱硫するのに有効な、そして同時に、オレフィン飽和を３０％未満に制限するのに有効な選択条件で、例えば２６０℃（５００°Ｆ）〜３１５℃（６００°Ｆ）で動作する。前記の面では、第一反応ゾーン１２でのオクタン損失は、一般的にオクタン価０．５〜１．５に限定される。

［００５６］
第一水素処理ゾーン２２からの得られた流出物流２４を、更なる脱硫のために、第二水素化脱硫ゾーン１４に直接供給する。必要に応じて、流出物２４を予熱器２６で加熱して、第二反応ゾーンに必要な温度まで上げることができる。その流出物２４を、好ましくは硫黄レベルを１０ｐｐｍ以下へと低下させる反応器（単数または複数）を含む少なくとも１つの水素処理ゾーン２８を含む第二水素化脱硫ゾーン１４で反応させる。必要に応じて、第二脱硫ゾーンへの供給は、追加の水素が必要な場合、ライン３０によって提供される水素富化ガス流と混合することもできる。上で検討したように、水素処理ゾーン２８は、脱硫するのに有効な、そして同時に、オレフィン飽和を２０％未満且つメルカプタンの形成を１０ｐｐｍ未満に制限するのに有効な５〜１００ミクロンの薄い活性層を有する最適化された層状触媒を使用して、例えば３１５℃ （６００°Ｆ）〜３９８℃（７５０°Ｆ）のような選択条件下で動作する。一つの面では、第二反応ゾーン１４でのオクタン損失は、一般的に、オクタン価０．３〜１に限定される。

［００５７］
第二水素化脱硫ゾーンからの流出物流３２は、分離ゾーン３４へと指向することができる。分離器３６では、硫化水素を含むガス流を、低硫黄ガソリン沸点範囲流３８から分離することができる。例えば、第二水素化脱硫ゾーン流出物は、まず最初に、水性流と接触させて、あらゆるアンモニウム塩を溶解させ、次いで、部分的に凝縮させる。次いで、その流れを、０℃（３０°Ｆ）〜３２℃（９０°Ｆ）で沸騰する蒸気炭化水素流と、低減された硫黄濃度を有し且つ蒸気炭化水素流に比べてより高い温度範囲で沸騰する液体炭化水素流を生成するように典型的に動作する気液分離器３４の中に導入することができる。一つのアプローチでは、分離器は、温度４℃（４０°Ｆ）〜１２１℃（２５０°Ｆ）および圧力０．６９ＭＰａ（１００ｐｓｉｇ）〜３．４５ＭＰａ（５００ｐｓｉｇ）で動作して、前記の流れを分離する。分離器３４からの液体流出物３８は、硫黄１０ｐｐｍ以下および両方の反応ゾーンに由来する総オクタン損失０．８〜２．５を好ましく有する所望の低硫黄ガソリンである。

［００５８］
図面に関する前記の説明は、本明細書で説明される方法によって包含される利点と、その方法を使用することによってもたらされる利益を明確に例示している。更に、図面は、本明細書で説明される方法に関するわずかに一つの例示的フロースキームを図示することを意図しているだけであるので、他の方法およびフロースキームも可能である。本発明方法の本質を説明するために本明細書で説明され且つ図示されている細部、材料、および構成における様々な変更は、添付の特許請求の範囲で示されている本発明の原理内および範囲内において、当業者によって実施され得ることが更に了解される。本明細書で開示されるすべての特許、刊行物および引例は、参照によりその内容を本明細書に引用したものとする。

［００５９］
更に、本明細書において記載される方法および触媒の利点および実施態様を以下の実施例で更に例示するが；以下の実施例で記載される特定の条件、フロースキーム、材料およびその量、ならびに他の条件および詳細によって本発明が不当に制限されると解釈するべきではない。特に指定しない限り、全てのパーセンテージは重量基準である。

［００６０］
２２００ｐｐｍ超える硫黄および２４％のオレフィン（ＰＩＯＮＡを使用して測定した）を含むＦＣＣナフサ供給原料を、表１に記載した３つの分離触媒を使用した３つの分離実験において水素化脱硫した。

［００６１］
分離ＦＣＣナフサ供給原料を触媒Ａ、Ｂ、およびＣのそれぞれと接触させて硫黄レベルを低下させることによって、水素１５００ＳＣＦ／Ｂで３ｈ^−１の液空間速度、そして１．７２ＭＰａ（２５０ｐｓｉｇ）、２７３℃ （５２５°Ｆ）〜２９６℃（５６５°Ｆ）で前記供給原料を脱硫した。各実験の条件および結果の概要は、下記の表２に示してある。

［００６２］
いずれの場合も、脱硫反応のオレフィン飽和反応に対する選択率を求めた。
各触媒の選択率は、下式：
選択率＝（１００）（硫黄転化率／オレフィン転化率）
（式中、硫黄転化率＝（Ｓ_ｆ−Ｓ_ｐ）／Ｓ_ｆ；
オレフィン転化率＝（Ｏ_ｆ−Ｏ_ｐ）／Ｏ_ｆ；
Ｓ_ｆ＝供給中の硫黄分；
Ｓ_ｐ＝水素化脱硫ゾーン流出物中の硫黄分；
Ｏ_ｆ＝供給中のオレフィン分；および
Ｏ_ｐ＝水素化脱硫ゾーン流出物中のオレフィン分）に基づいて、硫黄転化率をオレフィン転化率と比較することによって求めた。各触媒の転化率および選択率は下記の表３に要約してある。

［００６３］
１００ミクロンの活性層を有する場合、層状触媒Ｃは少なくとも６１０の選択率を提供した。従来の触媒Ａおよび粒状化された従来の触媒Ｂは、それぞれ３５２および４８９の最大選択率を提供しただけである。層状触媒Ｃは、粉砕された触媒のサイズの小ささに起因する触媒床における予期される高い圧力降下に因る実際的な限界を有すると考えられる粒状化された従来の触媒Ｂを含む従来の水素処理触媒の双方に比べて、有意により良好な選択率を提供した。より高い温度で反応させた触媒Ｃも、依然として、触媒Ａを少なくとも７３％超える触媒選択率の増加および粒状化触媒Ｂを少なくとも２５％超える触媒選択率の増加を提供した。いずれの場合でも、供給は２７０〜３２０ｐｐｍまで脱硫されたことから、触媒Ｃの高い選択率は、活性材料の１００ミクロンの外層を有する層状触媒が一般的に市販の触媒ＡおよびＢと同じレベルまで供給を脱硫したことを示しているが、またそれと同時に、オレフィン飽和はより少なく抑えられ、それにより流出物におけるオクタン損失もより少なく抑えられたことも示している。

［００６４］
本発明方法の本質を説明するために本明細書で説明され且つ図示されている細部、材料、および構成における様々な変更は、添付の特許請求の範囲で示されている原理内および範囲内で当業者によって実施できることが了解される。また、本明細書に記載したいずれの引例も、参照によりその内容を本明細書に完全に引用したものとする。

オレフィンナフサ流を選択的に脱硫する例示的方法を示した図である。

Claims

オレフィン分と硫黄分とを有するオレフィンナフサ流（１６）を提供する工程；
硫黄分の一部を硫化水素へと転化させて第一水素化脱硫ゾーン流出物（２４）を生成させるのに有効な第一反応温度で第一水素化脱硫ゾーン（１２）において該オレフィンナフサ流を反応させる工程；
第二のより高い反応温度で、且つ、脱硫して第二水素化脱硫ゾーン流出物（３２）を形成させるのに有効な触媒を使用して、第二水素化脱硫ゾーンにおいて、該第一水素化脱硫ゾーン流出物（２４）を反応させる工程；および、
内部コアと、該内部コアを取り囲んでいる厚さ５〜１００ミクロンの薄くて且つ水素化脱硫触媒を含む外層とを含む該第二水素化脱硫ゾーン触媒
を含む水素化脱硫法（１０）。
３０％未満の該オレフィン分が、第一水素化脱硫ゾーン（１２）で飽和される請求項１記載の方法。
２０％未満の該オレフィン分が、第二水素化脱硫ゾーン（１４）で飽和される請求項１記載の方法。
該第二水素化脱硫ゾーン（１４）における水素化脱硫触媒の下式
選択率＝（１００）（硫黄転化率／オレフィン転化率）
［硫黄転化率＝（Ｓ_ｆ−Ｓ_ｐ）／Ｓ_ｆ；
オレフィン転化率＝（Ｏ_ｆ−Ｏ_ｐ）／Ｏ_ｆ；
Ｓ_ｆ＝第一水素化脱硫ゾーン流出物中の硫黄分；
Ｓ_ｐ＝第二水素化脱硫ゾーン流出物中の硫黄分；
Ｏ_ｆ＝第一水素化脱硫ゾーン流出物中のオレフィン分；
Ｏ_ｐ＝該第二水素化脱硫ゾーン流出物中のオレフィン分］
で表される選択率が５００超である請求項１記載の方法。
該第一水素化脱硫反応ゾーン流出物（２４）を、該第一水素化脱硫反応ゾーン（１２）で形成される硫化水素の有意量を除去せずに、該第二水素化脱硫反応ゾーン（１４）に供給する請求項１記載の方法。
該第一水素化脱硫ゾーン流出物（２４）が、０．５〜１．５のオクタン価の損失を有する請求項１記載の方法。
該第二水素化脱硫ゾーン流出物（３２）が、１０ｐｐｍ以下の硫黄および０．３〜１のオクタン価損失を有する請求項６記載の方法。
該第一水素化脱硫ゾーン（１２）の第一温度が２６０℃（５００°Ｆ）〜３１５℃（６００°Ｆ）である請求項１記載の方法。
該第二水素化脱硫ゾーン（１４）の第二温度が３１５℃（６００°Ｆ）〜３９８℃（７５０°Ｆ）である請求項１記載の方法。
該水素化脱硫触媒が０．５〜５％のコバルトおよび０．５〜２０％のモリブデンを含む請求項１記載の方法。