JP2009033333A - 圧電部品 - Google Patents

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Abstract

【課題】 圧電部品を構成する圧電素子の液状樹脂による樹脂封止時における、気密空間への液状樹脂の浸入による正常なSAWの伝搬の妨害である。
【解決手段】 セラミックを数枚積層して形成したセラミック基板5a,5bと、該セラミック基板5bの上面に導体バンプ3を介して実装された電極パターン2をもつ圧電素子1と、該圧電素子1を液状樹脂で樹脂封止した樹脂封止部8a,8bとからなる圧電部品Dにおいて、前記圧電素子1の主面に設けた環状ダム4と、最上層の前記セラミック基板6bに前記環状ダム4より内側に位置するように形成した環状溝6と、を有することを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、圧電部品、例えば、弾性表面波(SAW)チップを実装基板上にバンプを用いてフェイスダウンに搭載した後、SAWチップを液状樹脂により気密空間を形成するように封止したSAWデバイスにおいて、気密空間への液状樹脂の浸入による不良品の発生を防止した、圧電部品に関する。
弾性表面波デバイス(SAWデバイス)は、水晶、タンタル酸リチウム等の圧電基板上に櫛歯状電極(IDT電極)、及び接続パッド等の電極パターンを配置した構成を備え、例えばIDT電極に高周波電界を印加することによって、弾性表面波を励起し、弾性表面波を圧電作用によって高周波電界に変換し、フィルタ特性を得る携帯電話機などに搭載される。
このSAWデバイスでは、その櫛歯電極部の周囲に所定の空隙(気密空間)が必要である。そのため、従来は、セラミック基板にSAWチップをフェースアップでダイ・ボンディングし、ワイヤ・ボンディングで電気接続後、金属キャップを被せてシーム溶接または半田封止してパッケージングしていた。
最近では、SAWデバイスの小型化を図るため、SAWチップをAu(金)バンプまたは半田バンプで配線基板にフリップチップ・ボンディング(フェースダウン・ボンディング)し、樹脂等で封止して小型パッケージデバイスを構成している。
さらにSAWデバイスの小型、低背化を図るため、集合基板に実装した櫛歯電極部の周囲に空隙(気密空間)を形成し、該空隙を保ったまま櫛歯電極側の圧電ウエハ全体を液状樹脂で封止し、外部接続電極を形成した後、実装集合基板をダイシングにより個別デバイスに分離してなる超小型のチップ・サイズ・パッケージ(Chip Size Package:略称CSP)のSAWデバイスが提案されている。
SAWデバイスに関するCSP関連技術のうち、とくに、気密空間への液状樹脂の浸入を防止したものは、例えば、特許2004−135192号公報及び特開2006−211612号公報に、それぞれ記載されている。
従来例1
まず、特開2004−135192号公報(特許文献1)では、図3に示すように、配線基板202と、圧電基板218の下面に形成されたIDT電極217及びIDT電極217を包囲するように圧電基板218の下面に配置され、かつ各ランド205上に導体バンプ210を介してフリップチップ実装される複数の接続パッド216、を備えたSAWチップ215と、SAWチップ215の下面と配線基板202の上面との間に気密空間Sを形成するように配線基板202とSAWチップ215の裾部との間に環状に充填される封止樹脂220と、で表面実装型SAWデバイス201を構成し、さらに絶縁基板203の上面には、各ランド205を包囲する樹脂捕捉環状溝225が形成されている。
従来例1の表面実装型SAWデバイス201によれば、SAWチップ215の裾部と配線基板202の上面との間の気密空間Sを封止する樹脂の一部を受け入れ、余剰の液体樹脂が気密空間S側へ流動することを防止するための樹脂捕捉環状溝225を絶縁基板203の上に形成したので、液体樹脂がIDT電極217に付着することを防止できる。
しかしながら、従来例1の表面実装型SAWデバイス201では、図3に示すように絶縁基板203の上面に樹脂捕捉環状溝225のみを形成しただけなので、余剰の液体樹脂が気密空間S内へ浸入してしまうおそれがあった。
従来例2
次に、特開2006−211612号公報(特許文献2)では、図4に示すように、SAWデバイス301の圧電基板303の表面に、IDT電極304aと反射器電極304bを含む表面弾性波の振動部分304を囲むように、ポリイミド等の樹脂でできた壁310を設ける。このポリイミド等の樹脂でできた壁310は、SAW圧電体素子302と配線基板309との間に形成された、上記表面弾性波の振動部分304を含む気密空間Sを、SAW圧電体素子302の天井高さを超えないように封止して、液状の封止樹脂311の浸入を堰き止める、ように構成してある。
しかしながら、従来例2のSAW圧電体素子302では、圧電基板303の表面に、図4に示すように、樹脂で出来た壁310を振動部分304を囲むように形成しただけなので、従来例1のものと同様に、余剰の液体樹脂が気密空間S内に浸入してしまうおそれがあった。
このため振動部分(IDT電極)に、浸入した液状樹脂が付着して、正常なSAW(表面弾性波)の伝搬を妨げる要因となっていた。
特開2004−135192号公報 特開2006−211612号公報
本発明が解決しようとする課題は、圧電部品を構成する圧電素子の液状樹脂による樹脂封止時における、気密空間への液状樹脂の浸入による正常なSAWの伝搬の妨害である。
上記した課題を解決するため本発明は、セラミックを数枚積層して形成したセラミック基板と、該セラミック基板の上面に導体バンプを介して実装された電極パターンをもつ圧電素子と、該圧電素子を液状樹脂で気密空間を有するように樹脂封止した樹脂封止部とからなる圧電部品において、前記圧電素子の主面に設けた環状ダムと、最上層の前記セラミック基板に前記環状ダムより内側に位置するように形成した環状溝と、を有することを特徴とする。
これにより、液状樹脂による圧電素子の樹脂封止時における液状樹脂の気密空間への浸入を十分に阻止できる。
液状樹脂による樹脂封止時における気密空間への液状樹脂の浸入が有効に阻止され、正常なSAWの伝搬が維持される。
以下、本発明の圧電部品を、表面実装型弾性表面波デバイス(以下、“SAWデバイス”という)の実施例について詳細に説明する。
図1は、本発明の実施例であるSAWデバイスDの縦断面図を示す。
このSAWデバイス(圧電部品)Dは、セラミックを数枚(たとえば2枚)積層して形成したセラミック基板(絶縁基板)5a,5b(例えば、寸法1.6mm×2.0mm)と、このセラミック基板5bの上面に金(Au)バンプ3を介して実装された、例えば、タンタル酸リチウム(LiTaO3)からなるSAWチップ1と、このSAWチップ1の主面に形成した電極パターン(IDT電極)2と、SAWAチップ1の主面に形成された電極パターン2と最上層のセラミック基板5bの上面との間に気密空間Sを形成するように、例えばエポキシ系液状樹脂により、封止された封止樹脂部8a,8bと、から構成されている。
とくに、本発明の実施例であるSAWデバイスDでは、図2(a),(b)に示すように、セラミック基板5a,5bのうち最上層に位置するセラミック基板5bにバンプ3の外周辺を囲むように環状の開口部を形成してセラミック基板5aと5bを積層した時に、セラミック基板5bに有底の環状溝6が形成されるようにする。
さらに、SAWチップ1の電極パターン2が形成された主面に、例えば感光性エポキシ系樹脂を用い、フォトリソグラフィにより電極パターン2を囲むようにして、凸型断面形状の巾が35μm程の環状ダム4を、環状ダム4の頂面とセラミック基板5bとの間の隙間gが5μm以下になるように形成し、この環状ダム4の上端面にフォトマスクによりパターニングした微細加工技術により多数の直径が20μm、深さが10μm程度の有底の微細孔7を千鳥状に穿設する。
そして、液状樹脂による樹脂封止時には、まず、ディスペンサにより液状樹脂を充填して立設した樹脂封止部8aを形成し、次いでスクリーン印刷等によって液状樹脂を樹脂封止部8aの頂部に所定厚の樹脂封止部8bを形成して、SAWチップ1の外面の樹脂封止を完了する。量産の場合には、実装集合基板にSAWチップ1を多数個並列して樹脂封止してから、ダイシングマークに沿って実装集合基板をダイシングして、個々のSAWデバイスDを得るようにする。
とくに、本発明の実施例のSAWデバイスDでは、最上層のセラミック基板5bに有底の環状溝6とSAWチップ1の主面に多数の微細孔7をもつ環状ダム4が電極パターン2を囲むようにして形成されているので、液状樹脂により樹脂封止時にその流動性を毛細管現象等により、液状樹脂が電極パターン2が形成された気密空間S内に浸入しようとしても、まず、環状ダム4によりその浸入が阻止されるとともに、環状ダム4の端面に穿設した多数の微細孔7に吸い込まれ、また、環状ダム4の頂面とセラミック基板5bとの間の隙間が5μm以下に形成されているので、浸入がさらに阻まれる。
また、仮に、液状樹脂が環状ダム4を乗り越えて、さらに気密空間S内に浸入してきた場合でも、セラミック基板5bに形成した有底の環状溝6に余分な液状樹脂が溜まることになる。このような2重の浸入阻止手段により、液状樹脂の気密空間S内に浸入が十分に阻止されるようになる。
本発明の圧電部品は、SAWデバイス、FBAR(エフバー;Film Bulk Acoustic Resonator)、MEMS(メムス;Micro Electro Mechanical Systems)等に広範に利用できる。
本発明の圧電部品の実施例であるSAWデバイスの完成品の縦断面図である。 本発明の圧電部品の実施例であるSAWデバイスの樹脂封止前を示し、図2(a)は、その縦断面図、図2(b)は、SAWチップの電極パターン面を下から見た平面図である。 従来例1の絶縁基板に樹脂捕捉環状溝を形成したSAWデバイスの縦断面図である。 従来例2の圧電基板と配線基板の間に液状樹脂の浸入防止用の壁を設けたSAWデバイスの縦断面図である。
符号の説明
1 SAWチップ
2 電極パターン(IDT電極)
3 バンプ
4 環状ダム
5 セラミック基板
6 環状溝
7 微細孔
8a,8b 封止樹脂部

Claims (7)

  1. セラミックを数枚積層して形成したセラミック基板と、該セラミック基板の上面に導体バンプを介して実装された電極パターンをもつ圧電素子と、該圧電素子を液状樹脂で気密空間を有するように樹脂封止した樹脂封止部とからなる圧電部品において、前記圧電素子の主面に設けた環状ダムと、最上層の前記セラミック基板に前記環状ダムより内側に位置するように形成した環状溝と、を有することを特徴とする圧電部品。
  2. 前記環状ダムの先端面に前記環状ダムの巾よりも直径が小さく、かつ有底の微細孔を多数設けたことを特徴とする請求項1に記載の圧電部品。
  3. 前記環状ダムの頂面と最上層の前記セラミック基板の上面との間の隙間が5μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の圧電部品。
  4. 前記圧電部品が、SAWデバイスであることを特徴とする請求項1に記載の圧電部品。
  5. 前記圧電部品が、圧電薄膜フィルタであることを特徴とする請求項1に記載の圧電部品。
  6. 前記圧電部品が、MEMSであることを特徴とする請求項1に記載の圧電部品。
  7. 前記圧電部品が、FBARであることを特徴とする請求項1に記載の圧電部品。
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