JP2014099781A - 圧電部品 - Google Patents

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Abstract

【課題】空隙破壊を回避する耐圧、かつ耐熱衝撃性を持ち、良好な気密性を有する高信頼性の圧電部品を低コストで提供する。
【解決手段】主面に櫛歯電極2aとその入出力電極2bを形成した圧電板1と、櫛歯電極の上方に設けたカバー層8と、櫛歯電極とカバー層との間に空隙を形成するためのリブ7と、リブの圧電板側に設けたアンダーバンプメタル膜2cと、カバー層を覆って空隙を気密封止する金属薄膜9と、カバー層の外側端部に配置されて入出力電極と電気的に接続する導通接続部材23と、導通接続部材と電気的に接続するパッド12を有して圧電板とで当該圧電板の前記主面を挟持するプリント基板11とを有し、カバー層8は、感光性熱硬化性樹脂8aに透光性フィラーとして白色マイカの微片(微小マイカ片:フィラー)8bを混入した樹脂フィルムで構成され、少なくとも圧電板とプリント基板の接合した側周部を樹脂封止した。
【選択図】図1

Description

本発明は、移動通信の基地局など、高度な動作安定性が要求される設備に使用される圧電部品に関する。
携帯電話機等の移動通信基地局の機器に使用されるフィルタ等に用いられる弾性表面波デバイス(SAWデバイス)や圧電薄膜フィルタ等の圧電部品は、櫛歯電極部(IDT電極部)の周囲に所定の空隙(振動空間部、中空構造、キャビティー)を確保してチップサイズに気密封止される。なお、圧電部品にはさまざまなものがあるが、一般的に広く知られているのはSAWデバイスであるので、以下の説明では、主としてSAWデバイスを例とする。
従来のSAWデバイスでは、空隙構造をもつセラミックス基板に、SAW素子チップをフェースアップでダイボンディングし、配線基板との間をワイヤボンディングで電気的に接続した後、SAWチップの上から金属キャップを被せて接合部をシーム溶接または半田で封止してパッケージングしていた。
このようなSAWデバイス等の小型化を図るため、最近では、SAW素子のチップを金(Au)バンプあるいは半田バンプを用いて配線基板にフリップチップボンディング(フェースダウンボンディング)し、樹脂等で全体を樹脂封止したものもある(特許文献1)。
また、SAWデバイスの小型化・低背化を図るため、櫛歯電極部(IDT電極部)の周囲に所定の空隙を形成し、この空隙を保持したまま、櫛歯電極側の集合圧電基板(ウエハ)全体を樹脂で封止し、外部接続電極(実装端子)を形成した後、所定のマーキングに沿ってダイシングにより個々のSAWデバイスに分割してなる超小型化されたチップサイズ・パッケージSAWデバイスが提案されている(特許文献2)。
さらに、櫛歯電極部の上方に上記の空隙の高さを小さくするためのシートを設置し、このシートを固定すると共に圧電基板とSAW素子を密封する絶縁基板を固着する封止樹脂に圧電基板とシートの間隔より平均粒径の大きなフィラーを混入して空隙を確保するものが特許文献3に記載がある。
特開2009−135635号公報 特開2010−10812号公報 特開2007−28172号公報
従来のSAWデバイス等の圧電部品では、アルミナを主成分とするセラミックス材で形成したパッケージ(セラミックパッケージ)に圧電素子を収容固定した後、凹部の開放端に金属リングを介して金属板(蓋体)を溶接することで、空隙を確保していた。しかしながら、容器本体にセラミックスを用い、金属蓋体で気密封止するものでは、製造は容易であるが、材料費が割高である。また、空隙を構成する凹部をもつ容器本体、SAW素子等を構成する圧電板、および金属蓋体間の熱膨張係数が異なるため、外部雰囲気からの熱衝撃で空隙の圧壊、気密破壊の懼れがあった。
本発明の目的は、低価格の材料で十分な空隙を確保する構造とすると共に、空隙破壊を回避する十分な耐圧、かつ耐熱衝撃性を持ち、良好な気密性を有する高信頼性の圧電部品を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明に係る圧電部品は、主面にIDTを構成する櫛歯電極とその入出力電極、配線等の必要なパターンを形成した圧電板と、前記IDTの上方に設けたカバー層と、前記IDTと前記カバー層との間に前記空隙を形成するためのリブと、リブの下層に設けたアンダーバンプメタル(UBM)膜と、前記カバー層を覆って前記空隙を気密封止する金属薄膜(蒸着等で形成されるハーメチックシール膜)と、前記カバー層の外側に配置されて前記入出力電極と電気的に接続する半田等の金属バンプ、あるいは半田ボール(銅コア半田ボールを含む)や銅ボールなどの導通接続部材と、前記導通接続部材と電気的に接続するパッドを有して前記圧電板とで当該圧電板の前記主面を挟持する配線基板とで構成される本発明に係る圧電素子(典型例では、SAW素子)を、少なくとも前記圧電板と前記プリント基板の接合した側周部を樹脂注入により封止し、あるいはモールドして構成される。なお、本明細書では、圧電素子を具体的にSAW素子と称する場合もある。
前記カバー層は、感光性熱硬化性樹脂に透光性フィラーを混入した樹脂フィルムで構成される。樹脂フィルムには、ガス放出の少ないポリイミド樹脂を好適な主剤とし、これに感光剤、カップリング剤、その他の改質剤等を添加した感光性熱硬化性樹脂とし、透光性フィラーとして微小片とした白色マイカ片(以下、マイカフィラー又は単にフィラーとも称する)を混入する。このフィラーは紫外線等の露光光を遮ることなく樹脂フィルム内を透過させるため、精度のよいテンティング処理が可能となる。
マイカフィラーは鱗片状の薄片であり、感光性熱硬化性樹脂への混入では、このマイカフィラーの面が感光性熱硬化性樹脂フィルムの平面方向に略一致するように、かつ、近接する複数のフィラーが当該フィルムの厚み方向に互いに重畳して平面方向にも順次重畳配置するようにすることで、カバー層の機械的強度が向上させることができる。なお、感光性熱硬化性樹脂に混入するフィラーは白色マイカ片に限るものではなく、これと同等の透光性をもち、かつ感光性熱硬化性樹脂に機械的強度を付与できるものであれば、それを使用できる。
フィラーの混入量が少ないと機械的強度、特に撓み抑制効果が低下して空隙保持が困難になり、混入量が過大になると脆弱性が増加し、割れやすくなる。たとえば、圧電板は水晶やLiTaO3で構成される。例えば、LiTaO3の圧電板を用いた場合、その熱膨張率にカバー層の熱膨張率を近似させることで熱歪によるカバー層の剥離や空隙の破壊を回避する。そのためには10GPa以上の耐圧とすることが要求される。このことを考慮し、実験的に得られた混入量(重量パーセント:wt%)とこのフィラーの混入した樹脂と耐圧力との関係から、白色マイカ片の混入量は45〜55wt%とするのが好ましい(例えば、リブ間距離5〜10μm、カバー層厚み25〜35μmとしたとき)。
なお、上記の導通接続部材は、半田ボール(ポリマーコア入り半田ボール、銅コア入り半田ボールを含む)、銅ボール、半田バンプ、金バンプなどをカバー層の外側端部に配置して構成される。銅ボールはトーチを用いた放電溶解で銅ワイヤー、あるいはパラジウム(Pd)被覆銅ワイヤーをボール状としてアンダーバンプメタル等に突起状接続電極を形成するもので、半導体の3次元実装用に最適な接合部材である。この銅ボールにニッケルメッキを施した後に半田ペーストを塗布してリフロー処理する。また、所謂C4接続(Controlled Collapse Chip Connection)として用いることもできる。なお、ニッケルメッキは必須ではなく、パラジウム被覆銅ワイヤーを用いた場合は無くてもよい。銅ボールは、銅コア半田ボール接続よりも耐熱疲労特性に優れている。本発明の一つの実施例で用いられる。
このSAW素子を上記の導通接続部材を介して配線基板と接続する際、導通接続部材の表面の酸化膜を除去するためのフラックスを塗布した後、N2リフロー炉中で半田付けする。フラックスを用いない場合はギ酸(HCOOH)雰囲気中で処理する。フラックスは、その後に適宜の洗浄剤で洗浄して除去する。ギ酸を用いた場合はリフローにより消散して製品には残留しない場合もある。
フィラーを混入した感光性熱硬化性樹脂フィルムを用いたカバー層の形成は、所謂テンティングにより行う。テンティングは、フィラー入りの感光性熱硬化性樹脂フィルムをウエハ状の段階にある複数のSAW素子のIDT部分を覆い、各SAW素子のIDT部分の周囲に設けたリブにより所定の間隙を確保して展張する。このフィルムに露光マスクを介して紫外光等を照射し、現像してカバー層形成部分を残し、その他の部分は除去する。残ったフィルムはリフロー処理時に加熱硬化されて所要の硬度のカバー層となる。
本発明の実施例の他の一つでは、カバー層を設けたSAW素子の主面(圧電板のIDT部分の形成面)とは反対面(背面)を配線基板にダイボンディングし、この配線基板の電極端子とSAW素子の入出力電極をワイヤーボンディングで電気的に接続する。
ウエハの状態でSAW素子の主要部を組み上げた後、個々のSAW素子に分離し、少なくとも前記圧電板と前記プリント基板の接合した側周部をアンダーフィル樹脂で封止し、あるいは個々のSAW素子に分離する前に回路基板の実装端子を避けた全体を樹脂モールドしてから分離することで、個々の電子部品とし、検査工程を経て出荷される。なお、樹脂モールドには、コンプレッション成形、トランスファー成形、インジェクション成形などを用いることができる。
圧電板に多数形成されたSAW素子のIDT振動空間である空隙(中空構造、キャビティーとも称する)をウエハ状態において樹脂フィルムを用いたテンティングによるカバー層で形成し、その上面を金属薄膜で被覆することで封止する構造としたことで、空隙は良好に気密保持される。カバー層を構成する樹脂フィルムはガスの発生が少ないポリイミド樹脂を主剤とするのが好適であり、この樹脂に透光性のフィラーとして白色マイカ片を所要量混入することにより、熱膨張係数を圧電板のそれに近似させると共に、空隙を圧縮や圧壊から保護する高強度のカバー層を得ることができる。
上記のSAW素子は、個々の素子に分離後に配線基板に搭載し、IDTの電極と配線基板の端子電極とを半田ボールや銅ボール、などの導電接続部材を用いて半田等で一体に接合される。回路基板には、セラミックス基板やガラスエポキシ樹脂板の基板を用いることができるが、本発明では、セラミックス基板に比べて安価なガラスエポキシ樹脂板を用いる。その後、回路基板をデバイス毎に分離する。分離した個々のデバイスの所要部分(SAW素子と配線基板との接続側面、カバー層と配線基板の間を含めた隙間)にアンダーフィル樹脂を注入し、あるいは全体を樹脂モールドして圧電部品(SAWデバイス)を得る。回路基板の上記SAW素子の搭載面とは反対面には、適用機器に実装するための実装端子が形成されている。樹脂モールドする場合は、この実装端子の形成面を避けて樹脂モールドする。
本発明によれば、熱衝撃性に優れ、高精度の気密封止したキャビティーを備えた信頼性の高い圧電部品を比較的低コストで提供することができる。
本発明の実施例1を説明するSAWデバイスの構造を説明する断面図である。 カバー層を構成するポリイミド樹脂に混入する微小マイカ片の適量を説明する図である。 本発明の実施例1に係るSAWデバイスの製造方法を説明する工程図である。 本発明の実施例1に係るSAWデバイスの製造方法を説明する図3に続く工程図である。 本発明の実施例1に係るSAWデバイスの製造方法を説明する図4に続く工程図である。 本発明の実施例1の変形例に係るSAWデバイスの製造方法を説明する図5に続く工程図である。 図3乃至図5のプロセスにおける主要部の拡大図である。 図3乃至図5のプロセスにおける他の主要部の拡大図である。 図3乃至図5のプロセスにおける他の主要部の拡大図である。 図3乃至図5のプロセスにおける他の主要部の拡大図である。 図3乃至図5のプロセスにおける他の主要部の拡大図である。 本発明の実施例2を説明するSAWデバイスの構造を説明する断面図である。 本発明の実施例2に係るSAWデバイスの製造方法を説明する工程図である。 本発明の実施例2の変形例に係るSAWデバイスの製造方法を説明する工程図である。 本発明の実施例3のSAWデバイスの構造を説明する図である。 本発明の実施例3に係るSAWデバイスの製造方法を説明する要部工程図である。
以下、本発明圧電部品の実施の形態につき、本発明をSAWデバイスに適用した実施例を、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明の実施例1を説明するSAWデバイスの構造を説明する断面図であって、図1(a)は主要部の断面を、図1(b)は図1(a)のキャビティーを形成するカバー層の拡大断面を示す。本実施例のSAWデバイス100は、タンタル酸リチウム(LiTaO3)からなる圧電板1の主面にIDT2を形成してなるSAW素子を用いている。本実施例では、IDT2はアルミニウム薄膜のパターニングで形成し、櫛歯電極2aと入出力電極2bからなる。
入出力電極2bにはアンダーバンプメタル(UBM)膜2cが接続され、その上方に樹脂のリブ7が設けられている。リブ7はカバー層8と共にIDTの櫛歯電極2aの振動空間(空隙)21を確保するための側壁となる。UBM膜2cは空隙21の外部に延在し、半田ボール23を介して配線基板11の内面に有する電極パッド12と電気的に接続している。配線基板11はガラスエポキシシートで形成されており、この配線基板11の底面には適用機器の電極端子と接続する実装端子13が複数個設けてある。SAW素子の圧電板1と配線基板11の接合側面には封止樹脂14が設けられている。本実施例では、この封止樹脂14はアンダーフィル樹脂の注入で構成される。なお、この封止樹脂14はカバー層8と配線基板11の間にも注入するのが望ましい。
カバー層8は図1(b)に厚み方向の断面で示したように、発ガスが少ないポリイミド樹脂8aを主剤とし、この中にフィラー8bを混入したもので構成される。フィラー8bには光透過性の微小マイカ片が用いられる。この微小マイカ片は鱗片状の薄片であり、感光性熱硬化性樹脂への混入では、白色マイカ片の面がフィルムの平面方向に略一致するように、かつ、近接する複数の白色マイカ片がフィルムの厚み方向に互いに重畳して平面方向にも重畳配置するようにする。これにより、外力に対しても高耐衝撃性で撓みの少ないカバー層が構成される。
図2は、カバー層を構成するポリイミド樹脂に混入するフィラー(微小マイカ片)の量(重量パーセント:wt%)の適量を説明する図であり、横軸に微小マイカ片の混入量(wt%)を、縦軸にカバー層の強度(GPa)を取って示す。信頼性の観点から、カバー層の強度は10GPaを下回らないことが必要とされる。また、前記したように、混入量が過大になると脆性が増し、耐衝撃性は低下する。本願の発明者は、実験により図2に示したような関連を見出した。この関係から、微小マイカ片の混入量は45wt%から55wt%の範囲とするのが好適であることが分かった。このことから、本実施例では、微小マイカ片の混入量を50wt%とした。
図3乃至図5は本発明の実施例1に係るSAWデバイスの製造方法を説明する工程図であり、図3乃至図5を通して付番した(A)乃至(P)の順で図1で説明したSAWデバイス100が得られる。なお、図6はアンダーフィルに代えて樹脂モールドで封止した実施例1の変形例である。また、図7乃至図11は図3乃至図5のプロセスにおける主要部の拡大図である。
図3(A)は、タンタル酸リチウムの圧電ウエハ1Aの主面にアルミニウム薄膜をスパッタリングなどの手段で性膜し、これをホトリソグラフィー法(以下、単にホトリソと略称する)でパターニングしてIDTの電極(櫛歯電極2aと入出力電極2b)2を形成した状態を示す。IDTの電極2の部分を図7に拡大して示す。図示されたように、本実施例では、IDT2は中央部分に櫛歯電極2aが、その両側に入出力電極2bが配置されている。
図3(B)では、アルミニウムのIDT2を後段のホトリソ工程におけるエッチング薬液から保護するための保護膜3としてシリカ(SiO2)を成膜する。IDT2の電極上に保護膜3が成膜された状態を図8に示す。
図3(C)は、IDT2の全面を覆ってホトレジスト4を塗布した状態を示す。このホトレジスト4に露光マスク5aを介して紫外線露光し(図3(D))、現像して入出力電極2bの部分のホトレジストを除去する(図3(E))。エッチング処理して入出力電極2bの部分の保護膜3を除去し、然る後に剥離剤でホトレジストを剥離し、全体を洗浄する(図3(F))・・図9参照。
図4(G)では、入出力電極2bの部分にアンダーバンプメタル(UBM)膜2cを形成する・・図10参照。UBM膜2cの形成もホトリソを用いる。このとき、入出力電極2bの部分は保護膜3で保護されているので、エッチング薬液では侵食されず、設計された形状と厚みが維持される。
図4(H)は、UBM膜2cを形成した圧電ウエハの当該UBM膜2c及びIDT2の全面を覆ってリブ用ポリマーフィルム7aを添付した状態を示す。リブ用ポリマーフィルム7aはホトレジストであり、ホトマスク5bを介して紫外線露光を施し(図4(I)参照)、UBM膜2cの上にリブ7を形成する(図4(J)参照)。リブ7を形成した状態を図11に示す。
圧電板ウエハ1Aの上に、複数のリブ7を柱としてフィラーを混入したポリイミドフィルムを展張し、ホトマスクを介して露光し、現像して、IDT2の上方を覆うカバー層8を形成する。この段階のカバー層8は光硬化しただけで十分な硬さにはなっていないが、後段の熱処理工程で完全に硬化される。カバー層8を形成した後、金属薄膜9を少なくとも3μm以上の厚みに蒸着してハーメチックシールし、空隙内を気密封止する(図4(K))。この気密封止で、より広い温度範囲で十分な気密性を保持することができ、高い信頼性を得ることができる。
次に、ホトレジストの塗布とホトマスクを用いたホトリソによりIDTの端子部である入出力電極2bの部分にレジスト開口を形成し、不要な金属薄膜を除去する。カバー層8の上面と側面にはレジストが残留するので、下記で説明する導電接続部材(本実施例では、半田ボール)と金属薄膜9とは電気的に絶縁された状態となる。このプロセスは図示を省略した。
図5(L)はカバー層8の側面で、IDTの端子部である入出力電極2bの上に半田ボール23を形成した状態を示す。この半田ボール23は既知の半田ボール供給装置を用いて入出力電極2b上に供給するが、これに代えて、半田ペーストを印刷し、リフローして、半田バンプを導電接続部材としてもよい。
図5(M)に示したように、半田ボール23を形成した多数のSAW素子を搭載したウエハ1Aを切断線10で分離し、個々のSAW素子とする。分離したSAW素子は、実装機によりガラスエポキシシートの配線基板11に搭載される(図5(N)参照)。配線基板11の主面にはSAW素子の半田ボール23と接合する電極パッド12が形成されている。また、配線基板11の反対面(背面)には実装端子13が形成されており、図示しないビアホールなどで電極パッド12と電気的に接続している。
SAW素子を搭載した配線基板11は、リフロー炉に通され、半田ボール23を電極パッド12に接合する。その後、プラズマ等による洗浄を施す(図5(O)参照)。
洗浄した後、各SAW素子と配線基板11の間に、封止樹脂14としてアンダーフィル樹脂を注入して封止する。注入した樹脂は後段のリフロー工程で熱硬化する。この封止樹脂14としては、エポキシ樹脂が好適である。なお、エポキシ樹脂は熱膨張、熱収縮が大きいので、このエポキシ樹脂にシリカ(酸化珪素)の微粉末を適宜量含有させてコンポジットレジンとすることで、温度変化による接合部の破壊を抑制することができる。封止樹脂で封止した後、切断線10で個々のSAWデバイス100に分離する(図5(P)参照)。
図6は、本実施例の変形例の説明図である。この変形例は、図5(P)で説明したアンダーフィル樹脂14による封止に代えて樹脂モールドのデバイス形状としたものである。樹脂モールドの樹脂としては、各種のエポキシ系樹脂が好適である。図6(P’)に示したように、図5(O)のプロセスの次に、配線基板11に搭載したSAW素子全体を樹脂モールドする。樹脂モールドには、コンプレッション成形、トランスファー成形、インジェクション成形などを用いる。その後切断線10で個々のSAWデバイス200に分離する
本実施例によれば、IDTの振動空間(中空、キャビティー)を樹脂で形成したリブと、フィラー含有の樹脂で形成した高強度のカバー層で構成し、配線基板に安価なガラスエポキシシートを用いたことで、比較的低コストの製造工程によって信頼性の高いSAWデバイス等の圧電部品を提供することができる。
図12は、本発明の実施例2を説明するSAWデバイスの構造を説明する断面図であって、図12(a)は主要部の断面を、図12(b)は図12(a)のキャビティーを形成するカバー層の拡大断面を示す。本実施例のSAWデバイス300は、タンタル酸リチウム(LiTaO3)からなる圧電板1の主面にIDT2を形成してなるSAW素子を用いている。本実施例では、IDT2はアルミニウム薄膜のパターニングで形成した櫛歯電極2aと入出力電極2bからなる。
本実施例が先に説明した実施例1と異なる点は、SAW素子と配線基板11とを接合する導電接続部材を銅ボールとした点である。図12に示したSAWデバイス300は、導電接続部材を銅ボール24とした点を除いて前記図6に示した実施例1の変形例と同様である。したがって、以下では実施例1(及びその変形例)とは異なる事項のみ説明する。
図13〜図14は、本発明の実施例2に係るSAWデバイスの製造方法を説明する工程図であり、図13乃至図14を通して付番した(L’)乃至(P’)、(P”)は図5の(L)乃至(P)、図6(P’)のプロセスに対応する。なお、図14は樹脂モールドに変えてアンダーフィルで封止した実施例2の変形例である。
図13(L’)において、導電接続部材としての銅ボール24は、トーチを用いた放電溶解で銅ワイヤー、あるいはパラジウム(Pd)被覆銅ワイヤーをボール状としてアンダーバンプメタル等に突起状接続電極を形成するものである。この銅ボールにニッケルメッキを施した後に半田ペーストを塗布してリフロー処理する。図13(M’)乃至(O’)は、導電接続部材が銅ボール24であることを除いて図5(M)乃至(O)と同様のプロセスである。
図13(P’)は、図6(P’)のプロセスに対応し、樹脂モールド140で封止してSAWデバイス300としたものである。
図14は、図5のプロセス(P)に対応し、対応していることを(P”)で示した。図5(P)に示したものと異なるのは導電接続部材が銅ボール24であるSAWデバイス400とした点で、樹脂モールドに変えてアンダーフィルで封止した実施例2の変形例である。
本実施例によっても、IDTの振動空間(中空、キャビティー)を樹脂で形成したリブと、フィラー含有の樹脂で形成した高強度のカバー層で構成し、配線基板に安価なガラスエポキシ基板を用いたことで、比較的低コストの製造工程によって信頼性の高いSAWデバイス等の圧電部品を提供することができる。
図15は、本発明の実施例3のSAWデバイスの構造を説明する図であって、図15(a)は主要部の断面を、図15(b)は図15(a)のキャビティーを形成するカバー層を透視した上面面、図15(c)は図15(a)の背面図を示す。図15(a)は図15(c)のX−X線に沿った断面に相当する。本実施例のSAWデバイス500は、タンタル酸リチウム(LiTaO3)からなる圧電板1の主面にIDT2を形成してなるSAW素子を用いている。本実施例では、IDT2はアルミニウム薄膜のパターニングで形成し、前記の各実施例と同様に櫛歯電極と入出力電極からなる。
本実施例は、図15に示したように、SAW素子を前記の各実施例とは上下反対向きで配線基板11に搭載する。本実施例では、配線基板11と接合するための導電接続部材(半田ボール等)は不要となる。すなわち、SAW素子を構成する圧電板1のIDT2の形成面を上面とし、背面を接着剤15で配線基板11に固定する。その後、IDT2の入出力電極に接続するUBM膜2cと配線基板側電極端子18をワイヤー16で接続する。なお、符号17は配線基板の実装端子13を形成するための切り欠き(キャスターレーション)である。
図16は、本発明の実施例3に係るSAWデバイスの製造方法を説明する要部工程図であり、図16の(N”)、(O”)、(P”)は、図13の(N’)、(O’)、(P’)に対応する。図16に示したように、SAW素子を構成する圧電板1はカバー層8が配線基板11とは反対側に向いて搭載される。SAW素子と配線基板11との接続はワイヤー16で行われ、樹脂モールドにて封止される。その他の構成は前記の各実施例と同様である。
本実施例によれば、IDTの振動空間(中空、キャビティー)を樹脂で形成したリブと、フィラー含有の樹脂で形成した高強度のカバー層で構成し、配線基板に安価なガラスエポキシシートを用いたこと、及びSAW素子と配線基板の電気的接続をワイヤーを用いて行っていることで、前記の各実施例に比べ、耐衝撃性に優れている。また、本実施例は、ワイヤーを用いていることから、より低コストの製造工程によって信頼性の高いSAWデバイス等の圧電部品を提供することができる。
本発明の圧電部品は、極めて高い耐衝撃性、高信頼性が要求されるSAWデバイス、圧電薄膜フィルタ、FBAR(エフバー;Film Bulk Acoustic Resonator)、MEMS(メムス;Micro Electro Mechanical Systems)等の圧電素子・部品及びそれらの製造に広く利用できる。また、所謂フィルタバンク、複数フィルタモジュールなどにも適用でき、あるいは一個の部品に動作特性の異なる圧電素子を複数搭載するものにも適用できる。
1・・圧電板、1A・・圧電ウエハ、2・・IDT、2A・・Al(アルミニウム)薄膜、2a・・櫛歯電極、2b・・入出力電極、2c・・UBM、21・・空隙(中空構造、キャビティー)、23・・半田ボール、24・・銅ボール、3・・保護膜(SiO2)、4・・ホトレジスト層、4a−4n・・レジストパターン、41・・感光性絶縁材膜、41a・・感光性絶縁パターン、5(5a−5n)・・ホトマスク、6・・UBM膜、7・・リブ、8・・カバー層、8a・・樹脂、8b・・フィラー(微小マイカ片)、9・・金属薄膜(ハーメチックシール)、10・・切断線、11・・配線基板(ガラスエポキシシ−ト)、12・・パッド、13・・実装端子、14・・封止樹脂)、140・・モールド樹脂、15・・接着剤、16・・ワイヤー、17・・切り欠き、18・・基板側電極端子。

Claims (7)

  1. 主面に櫛歯電極とその入出力電極パターンを形成した圧電板と、前記櫛歯電極の上方に設けたカバー層と、前記櫛歯電極と前記カバー層との間に前記空隙を形成するためのリブと、前記リブの前記圧電板側に設けたアンダーバンプメタル膜と、前記カバー層を覆って前記空隙を気密封止する金属薄膜とからなる圧電素子と、
    前記圧電素子と一体に接合され、前記圧電素子の前記入出力電極と電気的に接続する電極端子と外部機器への実装端子を備えた配線基板とからなる圧電部品であって、
    前記カバー層は、感光性熱硬化性樹脂に透光性フィラーを混入した樹脂フィルムで構成され、
    少なくとも前記圧電板と前記配線基板を樹脂封止してなることを特徴とする圧電部品。
  2. 請求項1において、
    前記透光性フィラーは、白色マイカの微片であり、前記白色マイカの微片を樹脂フィルムの主剤に対して45乃至55重量パーセント含有してなることを特徴とする圧電部品。
  3. 請求項1又は2において、
    前記圧電素子の前記入出力電極と前記配線基板の電極端子は、前記カバー層の外側端部に配置された導通接続部材を介して電気的に接続されることを特徴とする圧電部品。
  4. 請求項3において、
    前記入出力電極と配線基板とを電気的に接続する導通接続部材は半田ボールであることを特徴とする圧電部品。
  5. 請求項3において、
    前記入出力電極と配線基板とを電気的に接続する導通接続部材は銅ボールであることを特徴とする圧電部品。
  6. 請求項1又は2において、
    前記圧電素子の前記入出力電極と前記配線基板の電極端子は、ワイヤーにより電気的に接続してなることを特徴とする圧電部品。
  7. 請求項1乃至6の何れかにおいて、
    前記圧電素子は、一個のデバイスに複数搭載されていることを特徴とする圧電部品。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016042928A1 (ja) * 2014-09-19 2016-03-24 日本電波工業株式会社 圧電デバイスとその製造方法
JP2016066989A (ja) * 2014-09-19 2016-04-28 日本電波工業株式会社 圧電デバイスとその製造方法
JP2016063937A (ja) * 2014-09-24 2016-04-28 株式会社アドバンテスト 脈波センサユニット
WO2016121453A1 (ja) * 2015-01-26 2016-08-04 日立オートモティブシステムズ株式会社 半導体センサ装置
CN113612461A (zh) * 2021-07-20 2021-11-05 北京航天微电科技有限公司 一种saw滤波器的芯片级气密性封装工艺
WO2023248751A1 (ja) * 2022-06-23 2023-12-28 京セラ株式会社 弾性波装置、弾性波装置の製造方法、および通信装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10270975A (ja) * 1996-03-08 1998-10-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品とその製造方法
JP2002232260A (ja) * 2001-02-06 2002-08-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 弾性表面波装置とその製造方法
JP2002290183A (ja) * 2001-03-28 2002-10-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Sawデバイスの製造方法
JP2011023930A (ja) * 2009-07-15 2011-02-03 Panasonic Corp 弾性波素子とこれを用いた電子機器
JP2011147097A (ja) * 2009-05-26 2011-07-28 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 圧電部品及びその製造方法
JPWO2012144370A1 (ja) * 2011-04-19 2014-07-28 京セラ株式会社 電子部品および弾性波装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10270975A (ja) * 1996-03-08 1998-10-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品とその製造方法
JP2002232260A (ja) * 2001-02-06 2002-08-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 弾性表面波装置とその製造方法
JP2002290183A (ja) * 2001-03-28 2002-10-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Sawデバイスの製造方法
JP2011147097A (ja) * 2009-05-26 2011-07-28 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 圧電部品及びその製造方法
JP2011023930A (ja) * 2009-07-15 2011-02-03 Panasonic Corp 弾性波素子とこれを用いた電子機器
JPWO2012144370A1 (ja) * 2011-04-19 2014-07-28 京セラ株式会社 電子部品および弾性波装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016042928A1 (ja) * 2014-09-19 2016-03-24 日本電波工業株式会社 圧電デバイスとその製造方法
JP2016066989A (ja) * 2014-09-19 2016-04-28 日本電波工業株式会社 圧電デバイスとその製造方法
US20170288123A1 (en) * 2014-09-19 2017-10-05 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Piezoelectric device and method for manufacturing the same
JP2016063937A (ja) * 2014-09-24 2016-04-28 株式会社アドバンテスト 脈波センサユニット
WO2016121453A1 (ja) * 2015-01-26 2016-08-04 日立オートモティブシステムズ株式会社 半導体センサ装置
JPWO2016121453A1 (ja) * 2015-01-26 2017-06-22 日立オートモティブシステムズ株式会社 半導体センサ装置
CN113612461A (zh) * 2021-07-20 2021-11-05 北京航天微电科技有限公司 一种saw滤波器的芯片级气密性封装工艺
CN113612461B (zh) * 2021-07-20 2024-02-09 北京航天微电科技有限公司 一种saw滤波器的芯片级气密性封装工艺
WO2023248751A1 (ja) * 2022-06-23 2023-12-28 京セラ株式会社 弾性波装置、弾性波装置の製造方法、および通信装置

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