JP2009033176A - 半導体素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】複数の半導体チップを電気的に接続させる配線及びコンタクト部を削除することで、半導体素子の製造効率を高めるとともに、製造費用を節減させることができる半導体素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】内部回路が構成され、互いに対向してボンディングされる第1半導体チップ110及び第2半導体チップ120を備え、第1及び第2半導体チップ110、120は、互いに対応するように形成されたトレンチと、トレンチの内部下面に形成されたメタル電極122と、前記トレンチの内部に充填された液相伝導性物質130と、表面に互いに対応するように形成され、前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップを互いにボンディングするボンディング部140と、を含み、液相伝導性物質130は、第1半導体チップ110及び第2半導体チップ120のトレンチがボンディングされることで形成されるトレンチスペースの内部に充填される。
【選択図】図4
【解決手段】内部回路が構成され、互いに対向してボンディングされる第1半導体チップ110及び第2半導体チップ120を備え、第1及び第2半導体チップ110、120は、互いに対応するように形成されたトレンチと、トレンチの内部下面に形成されたメタル電極122と、前記トレンチの内部に充填された液相伝導性物質130と、表面に互いに対応するように形成され、前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップを互いにボンディングするボンディング部140と、を含み、液相伝導性物質130は、第1半導体チップ110及び第2半導体チップ120のトレンチがボンディングされることで形成されるトレンチスペースの内部に充填される。
【選択図】図4
Description
本発明は、半導体素子の製造方法に関するもので、特に、システムインパッケージ半導体素子及びその製造方法に関するものである。
半導体素子は、既存には限定された分野のみで使用されてきたが、最近になって、インターネット及び通信技術の発達とともに急速に情報化社会に進行されながら、その適用の幅が徐々に広くなっている。
このような半導体素子は、携帯電話、PDAを始めとするモバイル製品群から、ディスプレイ装置、携帯用映像・音源再生装置及び家庭で使用される多様な電気・電子製品にまで適用されている。
上述したように、半導体素子が多様な製品に適用されるためには、多様な機能を備えた素子が要求されており、特に、携帯用通信、映像・音源再生装置などのモバイル製品では小型、多機能、高速の特性が要求されている。
上記のような要求に対応して、同一の種類または多様な種類の半導体素子を一つのチップまたはウェハーに垂直に積層し、このような複数の半導体素子を電気的に互いに連結することで一つのパッケージとして製造する、いわゆる、システムインパッケージ(System In Package:SIP)が開発された。
このようなシステムインパッケージは、既存の単一チップパッケージと異なって垂直に複数のチップを積むようになり、同種チップの積層構造で保存密度を高めるか、情報保存機能のチップまたは論理演算機能のチップを複層構造で積んで複合機能のパッケージを提供することで、複数の素子を同一の面積に配置する既存の半導体素子に比べて小型化、軽量化及び多機能化を可能にする。
図1は、従来のシステムインパッケージ半導体素子を示した断面図である。
図1を参照すると、従来のシステムインパッケージ半導体素子10には、印刷回路基板(printed circuit board:PCB)11の上部及び下部側に複数の同種または異種の半導体チップ12a,12b,12c,12dが配置される。
印刷回路基板11の上部側に配置された複数の半導体チップ12a,12b,12cは、ボンディングワイヤー13によって印刷回路基板11とそれぞれ電気的に接続され、印刷回路基板11の下部側に配置された半導体チップ12dは、コンタクト部14によって印刷回路基板11と電気的に接続される。ここで、複数の半導体チップ12a,12b,12cの間に接着層15を介在することで、垂直の積層構造を形成する。
モルディング樹脂16は、印刷回路基板11の上部側に形成され、複数の半導体チップ12a,12b,12c及びボンディングワイヤー13を密封する。また、アンダーフィル樹脂(underfill resin)17は、印刷回路基板11の下部とチップ12dとの間に形成され、印刷回路基板11の下部及びコンタクト部14を密封する。
また、ソルダー部18は、印刷回路基板11の下部側に形成され、システムインパッケージ半導体素子10を外部と接続させる。
上記のような構造を有する従来のシステムインパッケージ半導体素子10においては、複数のチップ12a,12b,12c,12dがボンディングワイヤー13またはコンタクト部14を通して印刷回路基板11と接続される。したがって、相互間を接続させるための接続手段が相対的に長く、その結果、システムの性能向上に限界がある。また、ボンディングワイヤー13を用いて相互接続する構造においては、システムインパッケージ半導体素子10の大きさ縮小に制約がある。
一方、チップの内部に貫通ビアを用いて複数のチップを接続させる構造があるが、このような貫通ビアを用いる構造においては、貫通ビアを形成するための付随的な工程が追加されるとともに、複数の配線配置によって素子の構造が複雑になるという短所がある。また、素子の大きさが減少する場合、構造が不安定になるという短所がある。
従来のシステムインパッケージ半導体素子は、複数のチップがボンディングワイヤーまたはコンタクト部を通して印刷回路基板と接続されることで、相互間を接続させるための接続手段が相対的に長くなる。その結果、システムの性能向上に限界があり、素子の大きさ縮小に制約がある。
チップの内部に貫通ビアを用いて複数のチップを接続させる構造においても、貫通ビアを形成するための付随的な工程が追加されるとともに、複数の配線配置によって素子の構造が複雑になるという短所がある。また、素子の大きさが減少する場合、構造が不安定になるという短所がある。
上記のような問題点を解決するために、本発明の実施例に係る半導体素子及びその製造方法の目的は、複数の半導体チップを電気的に接続させる配線及びコンタクト部を削除することで、半導体素子の製造効率を高めるとともに、製造費用を節減させることができる半導体素子及びその製造方法を提供することにある。
上記のような課題を達成するための本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子は、内部に一定の回路が構成され、互いに対向して締結される複数の第1及び第2半導体チップからなるシステムインパッケージ半導体素子において、内部に一定の回路が構成され、互いに対向して締結される複数の第1及び第2半導体チップを備えており、前記第1及び第2半導体チップは、中央部に所定の深さを有するトレンチと、前記各トレンチの内部下面に形成され、前記第1及び第2半導体チップの内部回路に電流を印加させる第1及び第2メタル電極と、前記トレンチの内部に所定の体積で充填され、前記第1及び第2メタル電極を選択的に導通させる液相の伝導性物質と、前記第1及び第2半導体チップの表面に互いに対応するように形成され、前記第1及び前記第2半導体チップを締結させる複数のボンディング部と、を備えることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子は、前記液相の伝導性物質が水銀であることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子は、前記ボンディング部に金属のソルディング物質または非金属の接着物質がギャップフィルされることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子は、前記ボンディング部の内壁に金属膜が形成されることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子は、前記システムインパッケージ半導体素子が第1方向に位置づけられるとき、前記液相の伝導性物質が前記第1及び第2メタル電極を浸し、第1及び第2メタル電極を電気的に接続させることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子は、前記システムインパッケージ半導体素子が第2方向に位置づけられるとき、前記液相の伝導性物質が重力によって前記トレンチの下部に移動し、前記第1及び第2メタル電極を電気的に短絡させることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子の製造方法は、内部に一定の回路を有する第1及び第2半導体チップを用意する段階と、前記第1及び前記第2半導体チップの中央部に10μm乃至100mmの深さを有する第1及び第2トレンチをそれぞれ形成する段階と、前記各トレンチの下面で前記各一定の回路に電流を印加させる第1及び第2メタル電極を形成する段階と、前記複数の第1及び第2トレンチのうち少なくとも一つのトレンチ内に所定の体積を有するように液相の伝導性物質を充填する段階と、前記第1及び第2半導体チップを互いに対向するように積層させる段階と、前記第1及び前記第2半導体チップの表面に互いに対応するように形成された複数のボンディング部に接着物質をギャップフィルし、前記第1及び第2半導体チップを締結させる段階と、を含んで構成されることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子の製造方法は、前記液相の伝導性物質が水銀であることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子の製造方法は、前記ボンディング部に金属のソルディング物質または非金属の接着物質がギャップフィルされることを特徴とする。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子の製造方法は、前記ボンディング部の内壁に金属膜を形成する段階を追加的に含むことを特徴とする。
本発明の実施例に係る半導体素子及びその製造方法は、複数の半導体チップの内部にトレンチを形成し、このトレンチの内部に一定の体積で充填された液相の伝導性物質を用いて複数の半導体チップを電気的に接続させ、従来のように複数の半導体チップを電気的に接続させるために別途の伝導性ラインまたはコンタクト部を形成する構成及び製造工程を減少し、半導体素子の製造効率を向上させることができる。また、複数の半導体チップをボンディング部を用いて締結させ、従来の複数の接着層を削除することで、製造効率を向上させるとともに、製造費用を節減させることができる。
本発明の技術的課題及び特徴は、添付された図面及び実施例に対する説明を通して明白に表れるだろう。本発明を具体的に説明すると、次の通りである。
図2は、本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子を示した断面図である。
図2を参照すると、本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子100においては、印刷回路基板(printed circuit board:PCB)(図示せず)上に同種または異種の複数の半導体チップ110,120が配置され、これら複数の半導体チップ110,120は互いに対向して積層される。
複数の半導体チップ110,120には、図4に示すように、互いに対応するボンディング部141-1,141-2がそれぞれ形成される。このように対応するボンディング部141-1,141-2には接着物質がギャップフィルされ、接着物質がギャップフィルされた対応する各ボンディング部141-1,141-2を互いにボンディングすることで、ボンディング部140を形成する。前記ボンディング部140によって前記複数の半導体チップ110,120が結合される。
複数の半導体チップ110,120の内部には、それぞれ10μm乃至100mmの深さを有するトレンチ114,124が形成され、各トレンチ114,124には、各半導体チップ110,120の内部回路に電流を印加させるためのメタル電極112,122が形成される。
また、各半導体チップ110,120に形成されたトレンチ114,124には、図3及び図4に示すように、複数のメタル電極112,122を電気的に接続させるための液相伝導性物質130が充填される。このとき、複数のトレンチ114,124に充填される液相伝導性物質130は、トレンチ114,124に完全に充填されるものでなく、余分の空間をおいてトレンチ114,124の一定高さにまで充填される。
このような複数の半導体チップ110,120は、ボンディングワイヤー(図示せず)またはコンタクト部(図示せず)を通して印刷回路基板とそれぞれ電気的に接続される。
図3及び図4は、本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子の製造過程を示した工程断面図である。
以下、図2乃至図4を参照して、本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子100の製造方法を説明する。ここで、本発明の主要部分は、複数の半導体チップ110,120の間の接続構造及び複数の半導体チップ110,120のボンディングに関するものであるので、本発明の核心部分でないシステムインパッケージ半導体素子の一般的な構造及び製造方法に対する説明は省略する。
まず、ウェハー上に、半導体製造工程を通してメモリまたは非メモリ回路が形成された第1半導体チップ120を準備する。
第1半導体チップ120の中央部には、上述したように、10μm乃至100mmの深さを有するトレンチ124が形成され、このトレンチ124の内部下面には、第1半導体チップ120の内部に形成された回路に電流を印加させるためのメタル電極122が形成される。
以後、第1半導体チップ120のトレンチ124に液相伝導性物質130を充填する。このとき、液相伝導性物質130としては、電流を導通可能な液相の全ての物質が適用される。例えば、前記液相の伝導性物質は水銀(Hg)である。液相伝導性物質130として水銀を使用する場合、水銀は、常温で液体である性質を有する非揮発性の物質であり、優れた展性・延性を有するので、製造工程に容易に適用される。また、水銀は、温度の変化による物質の膨張率がほぼ一定であり、水銀をトレンチ124に充填した後、素子の動作によって発生する熱による水銀の体積変化が予測可能であり、充填可能な量の範囲が容易に算出される。これを通して、充填後の素子の安定的な動作が保障される。
以後、図2及び図4に示すように、第1半導体チップ120と対向するように第2半導体チップ110を積層する。ここで、第2半導体チップ110には、第1半導体チップ120と同様に、中央部に10μm乃至100mmの深さを有するトレンチ114が形成されており、このトレンチ114の内部下面には、第2半導体チップ110の内部に形成された回路に電流を印加させるためのメタル電極112が形成されている。
以後、前記第1半導体チップ120及び前記第2半導体チップ110は、複数のボンディング部140を通して連結される。まず、前記第1半導体チップ120に第1ボンディング部(141-1を形成し、前記第2半導体チップ110に第2ボンディング部141-2を形成する。このとき、ここで、第1ボンディング部141−1および第2ボンディング部142−1はビアホールの形態であってもよく、前記第1ボンディング部141-1と前記第2ボンディング部141-2は、互いに対応するように形成される。
前記第1ボンディング部141-1と前記第2ボンディング部141-2には接着物質をギャップフィルし、接着物質がギャップフィルされた第1ボンディング部141-1と第2ボンディング部141-2をボンディングすることで前記ボンディング部140を形成し、前記ボンディング部140によって、前記第1半導体チップ120上に第2半導体チップ110が締結されて積層される。前記第1ボンディング部141-1及び前記第2ボンディング部141-2の結合によって、前記トレンチ114,124の内部に充填された液相伝導性物質130が漏洩されることを防止することができる。
ここで、接着物質としては、一般的な金属のソルディング物質が全て適用可能であり、金属のソルディング物質のみならず、金属及び非金属を接合可能な接着材料は全て適用可能である。金属のソルディング物質を用いて複数の半導体チップ110,120を締結させる場合、接着力を向上させるために前記各ボンディング部141-1,141-2の内壁に薄い金属膜を形成することもできる。
図5及び図6は、本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子の動作方法を示した図である。
本発明の実施例に係るシステムインパッケージ半導体素子100は、その内部に充填された液相伝導性物質130を用いて選択的に複数の半導体チップ、例えば、第1半導体チップ120と第2半導体チップ110とを電気的に接続させることができる。
前記システムインパッケージ半導体素子100には、第1半導体チップ120及び第2半導体チップ110のボンディングによって、液相伝導性物質130が充填されたトレンチスペース150が形成される。前記トレンチスペース150の内部には、前記第1半導体チップ120のメタル電極122(以下、“第1メタル電極”という。)と前記第2半導体チップ110のメタル電極112(以下、“第2メタル電極”という。)が形成される。前記液相伝導性物質130は、流動性を有しており、第1メタル電極122及び前記第2メタル電極112が形成されたトレンチスペース150の一定部分の空間を充填する。
まず、図5に示すように、システムインパッケージ半導体素子100を第1方向に位置づける場合を説明する。
前記第1方向への位置づけによって、前記トレンチスペース150内部の液相伝導性物質130は、前記第1メタル電極122及び前記第2メタル電極112を浸すように流動し、これによって、前記第1半導体チップ120及び前記第2半導体チップ110が電気的に接続される。
次に、図6に示すように、システムインパッケージ半導体素子100を第2方向に位置づける場合を説明する。このとき、AからBに向かう方向は、重力が作用する方向である。
前記第2方向への位置づけによって、前記第1及び第2メタル電極112,122は、前記トレンチスペース150上部のエア層150-1に位置し、前記液相伝導性物質130は、重力によって前記トレンチスペース150の下部に位置する。したがって、二つのメタル電極112,122の間に電流を導通可能な伝導性物質が形成されていないので、二つのメタル電極112,122は電気的に接続されない。
以上説明した本発明は、上述した実施例及び添付された図面に限定されるものでなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で多様に置換、変形及び変更可能であることが、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者にとって明白であろう。
10,100 システムインパッケージ半導体素子、11 印刷回路基板、12a〜12d 半導体チップ、13 ボンディングワイヤー、14 コンタクト部、15 接着層、16 モルディング樹脂、17 アンダーフィル樹脂、18 ソルダー部、110,120 半導体チップ、112 メタル電極、114 トレンチ、130 液相伝導性物質、140 ボンディング部、150 エア層
Claims (16)
- 内部回路が構成され、互いに対向してボンディングされる第1半導体チップ及び第2半導体チップを備えており、
前記第1及び第2半導体チップは、
互いに対応するように形成されたトレンチと、
前記トレンチの内部下面に形成されたメタル電極と、
前記トレンチの内部に充填された液相の伝導性物質と、
表面に互いに対応するように形成され、前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップを互いにボンディングするボンディング部と、を含み、
前記液相の伝導性物質は、前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップのトレンチがボンディングされることで形成されるトレンチスペースの内部に充填されることを特徴とするシステムインパッケージ半導体素子。 - 前記互いに対応するように形成されたトレンチは、
前記第1半導体チップ及び第2半導体チップの中央部に10μm乃至100mmの深さを有するように形成されることを特徴とする請求項1に記載のシステムインパッケージ半導体素子。 - 前記液相の伝導性物質は、水銀であることを特徴とする請求項1に記載のシステムインパッケージ半導体素子。
- 前記ボンディング部は、金属のソルディング物質または非金属の接着物質であることを特徴とする請求項1に記載のシステムインパッケージ半導体素子。
- 前記ボンディング部には、接着力強化のために内壁に金属膜が形成されることを特徴とする請求項4に記載のシステムインパッケージ半導体素子。
- 前記液相の伝導性物質は、流動性を有することを特徴とする請求項1に記載のシステムインパッケージ半導体素子。
- 前記液相の伝導性物質は、前記トレンチスペース内部の一部分を占めるように充填されることを特徴とする請求項1に記載のシステムインパッケージ半導体素子。
- 前記システムインパッケージ半導体素子は、第1方向に位置づけられるとき、前記トレンチスペースに充填された液相の伝導性物質が前記第1半導体チップのメタル電極と前記第2半導体チップのメタル電極を全て浸すように流動することを特徴とする請求項1に記載のシステムインパッケージ半導体素子。
- 前記システムインパッケージ半導体素子は、第2方向に位置づけられるとき、前記トレンチスペースに充填された液相の伝導性物質が前記第1半導体チップのメタル電極と前記第2半導体チップのメタル電極を全て浸さないように流動することを特徴とする請求項1に記載のシステムインパッケージ半導体素子。
- 内部回路を有する第1半導体チップ及び第2半導体チップを用意する段階と、
前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップに互いに対応するトレンチをそれぞれ形成する段階と、
前記各トレンチの下部面上に互いに対応するメタル電極を形成する段階と、
前記各トレンチのうち少なくとも一つのトレンチ内に液相の伝導性物質を充填する段階と、
前記それぞれのトレンチ及びメタル電極が互いに対応するように前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップをボンディングする段階と、を含むことを特徴とするシステムインパッケージ半導体素子の製造方法。 - 互いに対応するトレンチを形成する段階は、
前記第1半導体チップ及び第2半導体チップの中央部に10μm乃至100mmのトレンチ深さを有するように形成することを特徴とする請求項10に記載のシステムインパッケージ半導体素子の製造方法。 - 前記メタル電極を形成する段階は、前記内部回路と連結されるように前記メタル電極を形成することを特徴とする請求項10に記載のシステムインパッケージ半導体素子の製造方法。
- 前記液相の伝導性物質を充填する段階は、前記各トレンチのうち少なくとも一つのトレンチ内に水銀を充填することを特徴とする請求項10に記載のシステムインパッケージ半導体素子の製造方法。
- 前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップをボンディングする段階は、金属のソルディング物質または非金属の接着物質を用いて前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップをボンディングすることを特徴とする請求項10に記載のシステムインパッケージ半導体素子の製造方法。
- 前記液相の伝導性物質を充填する段階は、前記それぞれのトレンチ及びメタル電極が互いに対応するようにボンディングされることで形成されるトレンチスペースの一部分を占めるように、流動性を有する伝導性物質を充填することを特徴とする請求項10に記載のシステムインパッケージ半導体素子の製造方法。
- 前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップをボンディングする段階は、前記金属のソルディング物質または前記非金属の接着物質を用いて前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップをボンディングする前に、前記第1半導体チップと前記第2半導体チップがボンディングされるボンディング面に金属膜を形成することを特徴とする請求項14に記載のシステムインパッケージ半導体素子の製造方法。
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JPS50138355A (ja) * | 1974-04-23 | 1975-11-04 | ||
JPH06333978A (ja) * | 1993-05-20 | 1994-12-02 | Fujitsu Ltd | 基板構造及びその製造方法 |
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