JP2009030109A - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 高い成膜速度と基材上の段差に対して十分なカバレッジ性を有する成膜方法及び装置構成が簡素で低コストな成膜装置を提供する。
【解決手段】 チャンバ内に、その周面に基材を配置することができるように構成された回転可能な回転ドラムと、前記基材に対向して配置されるマグネトロン磁気回路とを備え、前記マグネトロン磁気回路は、前記回転ドラムの接線方向に移動可能に構成されたことを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、チャンバ内に配置されたターゲットをマグネトロンスパッタすることにより、基材上に薄膜を形成する成膜装置及び成膜方法に関するものである。
従来、基材上にスパッタリングされた金属を酸化することにより形成された金属酸化膜を交互に積層して高品位な光学薄膜を形成する方法が実用化されている。そして、成膜速度を高めるために、特許文献1に開示されるように回転自在のドラム上に基材を配置して、その周方向に沿って設けられた成膜ゾーンと酸化ゾーンにより金属膜の成膜と、酸化とを別々に行うことが行われている。
一方、前記基材Aに配線B等を設けてアスペクト比が1程度の段差があるものに成膜Cを行う際に、図3に示すように段差の底側の周面に成膜されない部位Dがあることが問題となっていた。これは、スパッタされた粒子が基材に対して比較的狭い角度で入射することが原因である。
この問題に対して、特許文献2において開示されるように、基板ホルダを傾斜可能に構成して、基板へのスパッタ粒子の入射角度を広げるようにすることができる。
しかしながら、上述したように成膜速度を高めるために回転自在のドラムを採用した構成では、ドラム自体を傾斜可能に構成することは困難であり、装置構成が複雑で、且つ、コストがかかるという問題があった。
特開2005−206875号公報 特開平10−121237号公報(図1)
そこで、本発明は、高い成膜速度を有するとともに基材上の段差に対して十分なカバレッジ性を有する成膜方法と、同方法を簡素且つ低コストで実現可能な成膜装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明者等は鋭意検討の結果、ターゲットに対向する位置に配置される基材を回転可能な回転ドラムによって搬送させ、マグネトロン磁気回路を回転ドラムの接線方向に移動可能にすることにより、比較的簡素な構成により、高い成膜速度と優れたカバレッジ性が得られるという知見に基づき、下記の解決手段を見出した。
即ち、本発明の成膜装置は、請求項1に記載の通り、チャンバ内に、その周面に基材を配置することができるように構成された回転可能な回転ドラムと、前記基材に対向して配置されるマグネトロン磁気回路とを備え、前記マグネトロン磁気回路は、前記回転ドラムの接線方向に移動可能に構成されたことを特徴とする。
また、請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載の成膜装置において、前記マグネトロン磁気回路は、前記回転ドラムの軸方向に移動可能に構成されたことを特徴とする。
また、請求項3に記載の本発明は、請求項1又は2に記載の成膜装置において、前記マグネトロン磁気回路の移動面と、前記回転ドラム上の1点とを結ぶ線が最短となるものを基準線として、前記マグネトロン磁気回路を、前記基準線から±30°以上の範囲まで移動可能に構成されたことを特徴とする。
また、請求項4に記載の本発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の成膜装置において、前記チャンバ内において、前記マグネトロン磁気回路を備えた成膜装置を、前記回転ドラムの回転方向に沿って少なくとも2個設け、更に、イオンビーム源を設けたことを特徴とする。
また、本発明の成膜方法は、請求項5に記載の通り、チャンバ内において、回転可能な回転ドラムの周面に配置された基材に対して、マグネトロンスパッタにより前記基材に薄膜を形成する成膜方法であって、前記マグネトロンスパッタを行うためのマグネトロン磁気回路を、前記回転ドラムの接線方向に移動させることを特徴とする。
また、請求項6に記載の本発明は、請求項5に記載の成膜方法において、前記マグネトロン磁気回路は、前記回転ドラムの軸方向に移動させることを特徴とする。
また、請求項7に記載の本発明は、請求項5又は6に記載の成膜方法において、前記マグネトロン磁気回路の移動面と、前記回転ドラム上の1点とを結ぶ線が最短となるものを基準線として、前記マグネトロン磁気回路を、前記基準線から±30°以上の範囲まで移動させることを特徴とする。
本発明によれば、段差形状を有する薄膜に対して、カバレッジ性に優れた成膜を高速に行うことができる。
次に、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。
図1に成膜装置の概略構成図を示す。
真空チャンバ1の略中央部には、基材支持手段を備えた回転ドラム2が配置され、その回転方向に順に、第1成膜ゾーン3、第2成膜ゾーン4及び酸化ゾーン5が配置される。
スパッタリングを行う第1成膜ゾーン3は、2台の電極からなるスパッタカソード6と、Ta、Nb、TiやAl等から構成され、前記スパッタカソード6の回転ドラム2側に配置されるターゲット7と、前記スパッタカソード6に交流電圧を印加するためのAC電源8と、Arガス等を導入するためのArガス導入系9から構成される。同様にスパッタリングを行う第2成膜ゾーン4は、2台の電極からなるスパッタカソード10と、Si等から構成されるターゲット11と、前記スパッタカソード10に交流電圧を印加するためのAC電源12と、第2成膜ゾーン4においてArガス等を導入するためのガス導入系13から構成される。尚、第1成膜ゾーン3と第2成膜ゾーン4において、ターゲット7,11と回転ドラム2との間には、開閉自在のシャッター17,18が設けられる。また、酸化ゾーン5を構成するために、酸化プラズマ源14が設置される。また、第1成膜ゾーン3と酸化ゾーン5の間には、アシスト源又はエッチング源として使用されるイオンビーム源15及びそのための電源16が配置される。
前記スパッタカソード6,10は、図2に示すように、マグネトロン磁気回路19,19を備えており、このマグネトロン磁気回路19,19は、モーター等の駆動源により駆動されるギヤやリンク等の移動機構により、回転ドラム2の接線方向(x方向)に移動可能となっている。
上記構成により、基材20を保持した回転ドラム2を回転させ、第1の成膜ゾーン3によりAl等の金属薄膜を成膜し、酸化ゾーン5により酸化して金属酸化膜とし、その後、イオンビーム源15によりエッチングを行う。次に、第2の成膜ゾーン4においてSi等の金属薄膜を積層し、酸化ゾーン5により酸化して金属酸化膜とする。これらの工程を繰り返すことにより、所望の光学薄膜を基材上に形成する。
前記第1の成膜ゾーン3における成膜、或いは、第2の成膜ゾーン4における成膜の際に、マグネトロン磁気回路19,19を回転ドラム2の接線方向に移動させることにより、回転ドラム2に保持された基材17への原子の入射角を広げることが可能となるため段差形状基板に対して成膜のカバレッジ性を高めることが可能となる。また、ターゲット7や11を効率的に使用することができるため経済的となる。
前記マグネトロン磁気回路19,19は、回転ドラム2の接線方向(x方向)のみに移動できるように構成しているが、回転ドラム2の軸方向(y方向:図示せず)にも移動できるようにすることが好ましい。原子の基材20への入射方向を1次元方向だけでなく、2次元方向においても広げることができ、しかも、ターゲット7や11を有効利用できるからである。更にマグネトロン磁気回路19を、図2に示すように回転ドラム2の方向(z方向)にも移動できるように構成してもよい。尚、本明細書において、接線方向及び軸方向は、厳密にその方向のみに限定するものでなく、ある程度の幅をもって規定される。
前記マグネトロン磁気回路19,19の移動範囲は、ターゲット7及び11の背面となる範囲内であれば特に制限するものではないが、図2に示すように、マグネトロン磁気回路19,19の移動面Sと、回転ドラム2上の1点とを結ぶ線が最短距離となる線を基準線Vとして、この基準線Vから±30°以上の範囲にマグネトロン磁気回路19,19の一部が入ることができるように構成することが好ましい。基材20へのスパッタリングされた原子の入射角度が60°以上確保され、段差部への成膜性が優れるからである。尚、段差部の例としては、例えば、基材20上に形成された配線を貫通する孔等が挙げられ、その孔径は10〜100μm程度、深さは100μm程度、アスペクト比としては、1〜10程度のものがある。また、図示した例はダブルカソードであるが、シングルカソードの場合であっても同様の範囲とすることができる。
また、マグネトロン磁気回路19の回転ドラム2の接線方向への移動速度については、回転ドラム2の回転速度よりも十分に遅いことがが好ましい。
また、本発明において成膜に使用する原子としては、上記例示した以外に、Mg,Sb、Zr,Zn、Sn、Ca、Ce等を使用することができる。
また、本発明における成膜速度は、特に制限するものではないが、SiOでは3〜7Å/sec程度、Nbでは1〜5Å/sec程度とすることができる。
本発明は、光学薄膜の分野をはじめとして、広く成膜の分野において利用可能である。
本発明の一実施の形態の成膜装置の概略説明図 同実施の形態におけるマグネトロン磁気回路についての説明図 背景技術についての説明図
符号の説明
1 真空チャンバ
2 回転ドラム
3 第1成膜ゾーン
4 第2成膜ゾーン
5 酸化ゾーン
6 スパッタカソード
7 ターゲット
8 AC電源
9 ガス導入系
10 スパッタカソード
11 ターゲット
12 AC電源
13 ガス導入系
14 酸化プラズマ源
15 イオンビーム源
17 シャッター
18 シャッター
19 マグネトロン磁気回路
20 基材

Claims (7)

  1. チャンバ内に、その周面に基材を配置することができるように構成された回転可能な回転ドラムと、前記基材に対向して配置されるマグネトロン磁気回路とを備え、前記マグネトロン磁気回路は、前記回転ドラムの接線方向に移動可能に構成されたことを特徴とする成膜装置。
  2. 前記マグネトロン磁気回路は、前記回転ドラムの軸方向に移動可能に構成されたことを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
  3. 前記マグネトロン磁気回路の移動面と、前記回転ドラム上の1点とを結ぶ線が最短となるものを基準線として、前記マグネトロン磁気回路を、前記基準線から±30°以上の範囲まで移動可能に構成されたことを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜装置。
  4. 前記チャンバ内において、前記マグネトロン磁気回路を備えた成膜装置を、前記回転ドラムの回転方向に沿って少なくとも2個設け、更に、イオンビーム源を設けたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の成膜装置。
  5. チャンバ内において、回転可能な回転ドラムの周面に配置された基材に対して、マグネトロンスパッタにより前記基材に薄膜を形成する成膜方法であって、前記マグネトロンスパッタを行うためのマグネトロン磁気回路を、前記回転ドラムの接線方向に移動させることを特徴とする成膜方法。
  6. 前記マグネトロン磁気回路は、前記回転ドラムの軸方向に移動させることを特徴とする請求項5に記載の成膜方法。
  7. 前記マグネトロン磁気回路の移動面と、前記回転ドラム上の1点とを結ぶ線が最短となるものを基準線として、前記マグネトロン磁気回路を、前記基準線から±30°以上の範囲まで移動させることを特徴とする請求項5又は6に記載の成膜方法。
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