JPH05507765A - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

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JPH05507765A
JPH05507765A JP91510569A JP51056991A JPH05507765A JP H05507765 A JPH05507765 A JP H05507765A JP 91510569 A JP91510569 A JP 91510569A JP 51056991 A JP51056991 A JP 51056991A JP H05507765 A JPH05507765 A JP H05507765A
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rotatable
magnets
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JP91510569A
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ケイスィ　フランク
ダウニング　ポール　アレクサンダー
エリス　グラハム　ハロルド
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ゼネラル　ヴァキュウム　イクイップメント　リミテッド
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 回転可能な円筒形ドラム３を備え、細長い可撓性ウェブの材料上に原子及び分子 を蒸着させる装置であって、前記ドラムの円筒形表面の一部周囲を前記ウェブが 供給リール４から捲取リール５へ通過する。ウェブ６上に原子及び分子をスパッ タするターゲット１ｏはドラム３に隣接して配置されている。ターゲット１ｏは 曲面に形成され、ドラム３と同心状に配置されている。該ターゲットのための複 数の磁石が該ターゲットの真下に配置されている。これらの磁石は曲面に形成さ れ、前記ターゲット及び前記ドラムと同心状の配置をなし、前記ドラムの縦軸方 向に揺動するように配置されている。前記装置は原子及び分子の均一な蒸着を促 進し、且つターゲットの侵食を均等になす。
補正書の翻訳文提出書（特許法第１８４条の８）、；５ｉＡ平成４年１２月１６ 日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １　チャンバー、そのチャンバーを減圧する手段、及び材料を基材上にスパッタ する手段を備え、前記スパッタする手段が細長いターゲット及び該ターゲットに 隣接して配置された磁石装置を具備し、該磁石装置がターゲットの長軸方向に延 びる磁力線を生成するように配置された複数の磁石を具備している、基材上に原 子及び分子を蒸着させる装置。 ２　チャンバー、そのチャンバーを減圧する手段、可撓性ウェブを支持する回転 可能な曲面、及び材料をウェブ上にスパッタする手段を備え、前記スパッタする 手段が、前記曲面とほぼ同心の曲面を有するターゲットと、該ターゲットに付随 する１つ以上の磁石を具備している、細長い可撓性ウェブの材料からなる基材上 に原子及び分子を蒸着させる装置。 ３　前記基材が細長い可撓性ウェブの形態とされ、回転可能な曲面が前記ウェブ を保持するために設けられ、前記ターゲットが、前記回転可能な曲面と同心で配 置されている曲面を有している請求項１記載の装置。 ４　前記ターゲットの磁石は、発せられる磁界の磁力線が前記回転可能な面の縦 軸に平行になるように配置されている請求項２記載の装置。 ５　前記各磁石を移動し、発生する磁界を移動させて、均一な蒸着を促進し且つ ターゲットの侵食を均等にする手段が設けられた請求項１〜４の何れかに記載の 装置。 ６　前記磁石を移動させる手段が、磁石を、実質的に前記回転可能な面の縦軸の 方向に移動させるように作動する請求項２に従属する場合の請求項５に記載の装 置。 ７　曲面が、回転可能な円筒ドラムの一部を形成する請求項２、３、４及び６の 何れかに記載の装置。 ８　前記ドラムが冷却される請求項７記載の装置。 ９　ターゲットの前記各磁石が、湾曲し、且つターゲットと同心で配置され、そ の磁気軸が前記曲面の回転軸と同軸である請求項２記載の装置。 １０　前記の磁石を移動させる手段が、スライド上に摺動可能に配設され、且つ 流体圧力の作用によってスライド上を往復して作動する支持体を備えている請求 項５又は６に記載の装置。
JP91510569A 1990-06-16 1991-06-13 真空蒸着装置 Pending JPH05507765A (ja)

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GB909018624A GB9018624D0 (en) 1990-08-24 1990-08-24 Mettalizing apparatus
GB9018624.8 1990-08-24
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EP (1) EP0535054A1 (ja)
JP (1) JPH05507765A (ja)
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