JP2009015216A - 干渉縞パターン形成方法、及び干渉縞パターン形成装置 - Google Patents
干渉縞パターン形成方法、及び干渉縞パターン形成装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】2つの光束を用いた干渉露光方式により基板の表面に干渉縞パターンを露光し、基板に干渉縞パターンを形成する方法において、干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直な方向の光強度の分布形状が非対称になるように光源からの光束の光軸に垂直な方向の断面形状を規制する工程と、断面形状が規制された光束をその光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる帯状光束を形成する工程と、帯状光束を2つに分岐させると同時に分岐された2つの光束を重ね合わせて干渉縞パターンを形成する工程と、基板に干渉縞パターンを露光する際に、干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に基板と干渉縞パターンとを相対的に移動させながら露光する工程と、を有する。
【選択図】図3
Description
前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直な方向の光強度の分布形状が非対称になるように光源からの光束の光軸に垂直な方向の断面形状を規制する光束規制工程と、
前記断面形状が規制された光束を該光束の光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる帯状光束を形成する帯状光束形成工程と、
前記帯状光束を2つに分岐させると同時に分岐された2つの光束を重ね合わせて干渉縞パターンを形成する光束干渉工程と、
前記基板に前記干渉縞パターンを露光する際に、前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に前記基板と前記干渉縞パターンとを相対的に移動させながら露光する露光工程と、
を有することを特徴とする干渉縞パターン形成方法。
光束となる光を発生する光源と、
前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直な方向の光強度の分布形状が非対称になるように前記光源からの光束の光軸に垂直な方向の断面形状を規制する光束規制手段と、
前記断面形状が規制された光束を該光束の光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる帯状光束を形成する帯状光束形成手段と、
前記帯状光束を2つに分岐させると同時に分岐された2つの光束を重ね合わせて干渉縞パターンを形成する光束干渉手段と、
前記基板に前記干渉縞パターンを露光する際に、前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に前記基板と前記干渉縞パターンとを相対的に移動させる移動手段と、
を有することを特徴とする干渉縞パターン形成装置。
ビーム幅が160μmのガウシアンビームのうち、中心から片側を光束規制部325により遮光しビーム幅を80μmとして露光に用いた場合の、感光性基板317に照射されるビーム形状、ビーム強度の分布形状、及びずれ角度Θに対するビーム強度の最大値、最小値との関係をそれぞれ図5(a)乃至図5(c)に示す。(実施例1)
ビーム幅が80μmのガウシアンビームを露光に用いた場合の、感光性基板317に照射されるビーム形状、ビーム強度の分布形状、及びずれ角度Θに対するビーム強度の最大値、最小値との関係をそれぞれ図6(a)乃至図6(c)に示す。(比較例1)
また、図5(c)と図6(c)のグラフを重ね合わせたものを図7に示す。
ビーム幅が80μmのガウシアンビームを中心に対して対称に40μmずつとして計80μmを露光に用いた場合の、感光性基板317に照射されるビーム形状、ビーム強度の分布形状、及びずれ角度Θに対するビーム強度の最大値、最小値との関係をそれぞれ図9(a)乃至図9(c)に示す。(比較例2)
また、図8(c)と図9(c)のグラフを重ね合わせたものを図10に示す。
301 レーザ光源
303 ビームエキスパンダ
305 対物レンズ
307 ピンホール
309 平凸レンズ
311 円筒レンズ
313 平凸レンズ
315 回折格子
317 感光性基板
319 移動テーブル
321 架台
323 規制枠
325 光束規制部
Claims (7)
- 2つの光束を用いた干渉露光方式により基板の表面に干渉縞パターンを露光し、該基板に干渉縞パターンを形成する干渉縞パターン形成方法において、
前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直な方向の光強度の分布形状が非対称になるように光源からの光束の光軸に垂直な方向の断面形状を規制する光束規制工程と、
前記断面形状が規制された光束を該光束の光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる帯状光束を形成する帯状光束形成工程と、
前記帯状光束を2つに分岐させると同時に分岐された2つの光束を重ね合わせて干渉縞パターンを形成する光束干渉工程と、
前記基板に前記干渉縞パターンを露光する際に、前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に前記基板と前記干渉縞パターンとを相対的に移動させながら露光する露光工程と、
を有することを特徴とする干渉縞パターン形成方法。 - 前記光束規制工程は、前記光源からの光束の光軸と該光束を導く光学系の光路の光軸とを偏心させて前記光源からの光束の一部を遮断し前記光強度の分布形状を非対称にすることを特徴とする請求項1に記載の干渉縞パターン形成方法。
- 前記光束規制工程は、ホログラム素子を用いて前記光強度の分布形状を非対称にすることを特徴とする請求項1に記載の干渉縞パターン形成方法。
- 前記光束規制工程は、回折光学素子を用いて前記光強度の分布形状を非対称にすることを特徴とする請求項1に記載の干渉縞パターン形成方法。
- 前記光束規制工程は、前記光源からの光束の一部を遮光し前記光強度の分布形状を非対称にすることを特徴とする請求項1に記載の干渉縞パターン形成方法。
- 前記光束干渉工程は、反射型回折格子を用いて前記干渉縞パターンを形成することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の干渉縞パターン形成方法。
- 2つの光束を用いた干渉露光方式により基板の表面に干渉縞パターンを露光し、該基板に干渉縞パターンを形成する干渉縞パターン形成装置において、
光束となる光を発生する光源と、
前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直な方向の光強度の分布形状が非対称になるように前記光源からの光束の光軸に垂直な方向の断面形状を規制する光束規制手段と、
前記断面形状が規制された光束を該光束の光軸に垂直な方向の光束幅が互いに異なる帯状光束を形成する帯状光束形成手段と、
前記帯状光束を2つに分岐させると同時に分岐された2つの光束を重ね合わせて干渉縞パターンを形成する光束干渉手段と、
前記基板に前記干渉縞パターンを露光する際に、前記干渉縞パターンが周期を有する方向に対して垂直の方向に前記基板と前記干渉縞パターンとを相対的に移動させる移動手段と、
を有することを特徴とする干渉縞パターン形成装置。
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JP2007179530A JP5012266B2 (ja) | 2007-07-09 | 2007-07-09 | 干渉縞パターン形成方法、及び干渉縞パターン形成装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018518702A (ja) * | 2015-05-13 | 2018-07-12 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影装置の照明系及びそのような系内の照射分布を調節する方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60156004A (ja) * | 1984-01-12 | 1985-08-16 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子露光装置 |
JPH03271788A (ja) * | 1989-12-26 | 1991-12-03 | Physical Opt Corp | リップマンホログラフミラーを作るため被覆ホログラフ材料を露光するための方法及び装置 |
JPH0477702A (ja) * | 1990-07-19 | 1992-03-11 | Sony Magnescale Inc | ホログラムスケール、その作製装置およびホログラムスケール付き移動体 |
JPH05241007A (ja) * | 1992-02-28 | 1993-09-21 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子プロッター |
JPH0659614A (ja) * | 1992-08-10 | 1994-03-04 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラムの作製方法 |
JP2006098489A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 微細パターンを有する光学素子の製造方法 |
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- 2007-07-09 JP JP2007179530A patent/JP5012266B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60156004A (ja) * | 1984-01-12 | 1985-08-16 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子露光装置 |
JPH03271788A (ja) * | 1989-12-26 | 1991-12-03 | Physical Opt Corp | リップマンホログラフミラーを作るため被覆ホログラフ材料を露光するための方法及び装置 |
JPH0477702A (ja) * | 1990-07-19 | 1992-03-11 | Sony Magnescale Inc | ホログラムスケール、その作製装置およびホログラムスケール付き移動体 |
JPH05241007A (ja) * | 1992-02-28 | 1993-09-21 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子プロッター |
JPH0659614A (ja) * | 1992-08-10 | 1994-03-04 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラムの作製方法 |
JP2006098489A (ja) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Sanyo Electric Co Ltd | 微細パターンを有する光学素子の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018518702A (ja) * | 2015-05-13 | 2018-07-12 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | マイクロリソグラフィ投影装置の照明系及びそのような系内の照射分布を調節する方法 |
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