JPH05241007A - 回折格子プロッター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、装置構成が極めて簡単で、装置の調
整も極めて簡便で、しかも回折格子を精度よく連続して
作製できることを最も主要な目的としている。 【構成】回折格子を形成するための感光材料を塗布した
乾板が載置され、乾板を移動させるＸ−Ｙステージと、
レーザービームを発生するレーザー光源と、レーザー光
源からのレーザービームを受け、その開閉によって露
光，非露光を行なうシャッターと、回折格子が形成さ
れ、シャッターからのレーザービームを回折して３本以
上のレーザービームに分岐する回折格子形成体と、回折
格子形成体で分岐されたレーザービームのうち、選択さ
れた所定の２本のレーザービームを通過させるビーム選
択手段と、ビーム選択手段で選択された２本のレーザー
ビームを乾板上に集光する集光手段と、読み取られたデ
ータに基づいて、Ｘ−Ｙステージの移動、シャッターの
開閉を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光を用い、そ
の２光束干渉によってドット状の回折格子を作製する装
置に係り、特に装置構成が極めて簡単で、かつ装置の調
整も極めて簡便で、しかも回折格子を精度よく連続して
作製し得るようにした回折格子プロッターに関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】一般的に、レーザー光源のようなコヒー
レントな光源を用いて、これからのレーザービームを一
度２光束に分けたものを、再び感光材料上で同時に露光
すると、干渉縞が記録される。

【０００３】この干渉縞は、感光材料に入射する２光束
の角度の差によって、そのピッチ（空間周波数の逆数）
が変わり、その方向は２光束の入射する方向によって変
わり、その記録される濃さは光強度によって変わる。す
なわち、観察時には、干渉縞のピッチは見える色に、干
渉縞の方向は見える方向に、干渉縞の濃さは見える色の
輝度にそれぞれ関係する。

【０００４】さて、このように、２光束干渉によって回
折格子を形成して、回折格子パターンを有するディスプ
レイを作製する方法としては、例えば“特開昭６０−１
５６００４号公報”、“特願昭６３−２２２４７７号”
等の方法が提案されてきている。

【０００５】すなわち、まず前者の方法は、回折格子露
光ヘッドを用い、この回折格子露光ヘッドを移動するこ
とによって、２光束干渉による微小な干渉縞（以下、回
折格子と称する）を、そのピッチ、方向、および光強度
を変化させて、感光材料に対して次々と露光し、任意の
位置に任意の回折格子を作製する方法である。

【０００６】この方法を用いることにより、平面状の感
光材料と、その表面に形成された回折格子パターンとか
らなるディスプレイが得られる。そして、この回折格子
パターンは、回折格子により形成された複数の微小なド
ットから構成されているため、各ドットがそれぞれの色
にそれぞれの方向にそれぞれの強さで光って様々な模様
が描かれる。

【０００７】一方、後者の方法は、計算機から読み出し
た画像データにしたがって、Ｘ−Ｙステージ上の乾板
（感光材料を塗布したガラス等からなる）の対応位置
に、回折格子からなるドットを作製していく方法であ
る。

【０００８】この方法を用いることにより、ほぼ完全に
均一な回折格子のパターンを有するディスプレイが得ら
れる。

【０００９】しかしながら、まず前者の作製方法におい
ては、次のような問題がある。

【００１０】すなわち、回折格子のピッチ、方向、光強
度を変化させる場合に、その都度回折格子露光ヘッドの
光学系を移動する必要がある。そして、このように光学
系を固定させることができないことから、振動に対して
弱く、外部からの振動の影響を受け易い。

【００１１】従って、振動を十分に減衰させるために長
い待ち時間が必要となるばかりでなく、回折格子作製の
安定性も悪く、均一な（精度がよい）回折格子を作製す
ることができないという問題がある。

【００１２】一方、後者の作製方法においては、次のよ
うな問題がある。

【００１３】すなわち、レーザービームをいくつかに分
岐し、その中の一つを選択することによって、作製する
回折格子の空間周波数を決めていることから、光の利用
効率が非常に低いというという問題がある。

【００１４】また、分岐されるビームの数も、光学系の
空間的な配置や光強度が弱くなることから、３本程度が
限界である。

【００１５】そのため、３種類程度の空間周波数を持っ
た回折格子しか作製することができない（回折格子の空
間周波数が３種類程度に限定されてしまっている）とい
う問題がある。

【００１６】そこで、最近では、上記のような問題を解
消するための装置として、回折格子プロッター（例えば
“特願平３−２３１９５６号”）が、本出願人によって
提案されてきている。

【００１７】しかしながら、この種の回折格子プロッタ
ーにおいては、平面内を自由に移動可能なＸ−Ｙ（−
θ）ステージに対して、２本のレーザービームが所定の
装置構成を介して入射するような構成となっている。そ
して、これらのほとんどの場合、入射する側を移動、あ
るいは回転させ得る可能性はなく、小型化を図ることが
非常に困難である。

【００１８】また、必要とするレーザービームを１本ず
つ乾板の表面で交わるように調整しなければならないば
かりでなく、θステージの回転中心とレーザービームの
交差位置とが同位置でなければならず、これら光学系の
調整も非常に困難である。

【００１９】さらに、移動・回転可能とされる装置構成
の場合でも、回折格子露光装置（特開昭６０−１５６０
０４号公報）のように、比較的大きく複雑な構成であ
り、乾板上での２光束の位置合わせ等の調整は、非常に
困難である。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
装置においては、回折格子を形成する位置の精度がよ
く、乾板上での２光束の望ましくないズレのないような
回折格子を作製することが困難であるという問題があっ
た。

【００２１】本発明は上述のような問題を解決するため
に成されたもので、装置構成が極めて簡単で、かつ装置
の調整も極めて簡便で、しかも回折格子を精度よく連続
して作製することが可能な極めて信頼性の高い回折格子
プロッターを提供することを目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明では、レーザー光を用い、その２光束干渉に
よってドット状の回折格子を作製する装置において、回
折格子を形成するための感光材料を塗布した乾板が載置
され、当該乾板を移動させるＸ−Ｙステージと、レーザ
ービームを発生するレーザー光源と、レーザー光源から
のレーザービームを受け、その開閉によって露光，非露
光を行なうシャッターと、回折格子が形成され、シャッ
ターからのレーザービームを回折して３本以上のレーザ
ービームに分岐する回折格子形成体と、回折格子形成体
により分岐されたレーザービームのうち、選択された所
定の２本のレーザービームを通過させるビーム選択手段
と、ビーム選択手段により選択された２本のレーザービ
ームを乾板上に集光する集光手段と、読み取られたデー
タに基づいて、Ｘ−Ｙステージの移動、シャッターの開
閉をそれぞれ制御する制御手段とを備えて構成してい
る。

【００２３】ここで、特に上記回折格子形成体を、入射
するレーザービームの光軸に対して垂直な面内で、上記
読み取られたデータに基づいて回転させるようにしてい
る。

【００２４】また、上記集光手段としては、結像手段で
あるレンズを用いるようにしている。

【００２５】さらに、上記集光手段としては、結像手段
であるホログラフィック・オプティカル・エレメントを
用いるようにしている。

【００２６】さらにまた、上記集光手段としては、ミラ
ーを用いるようにしている。

【００２７】一方、上記制御手段としては、Ｘ−Ｙステ
ージをＺ方向に移動制御するようにしている。

【００２８】また、上記制御手段としては、集光手段の
集光位置を移動制御し、かつＸ−ＹステージをＺ方向に
移動制御するようにしている。

【００２９】さらに、上記制御手段としては、シャッタ
ーの開いている時間を制御するようにしている。

【００３０】さらにまた、上記回折格子形成体を、レー
ザービームの光軸に対して傾斜させるようにしている。

【００３１】

【作用】従って、本発明による回折格子プロッターにお
いては、回折格子が形成された回折格子形成体をビーム
スプリッターとして用い、レーザービームを回折して３
本以上のレーザービームに分岐し、分岐されたレーザー
ビームのうち所定の２本のレーザービームを、集光手段
によって感光材料を塗布した乾板上で常に１点に集光す
るようにすることが可能となる。

【００３２】これにより、装置構成が極めて簡単で、か
つ装置の調整も極めて簡便で、感光材料上に精度よく回
折格子を連続作製することができる。

【００３３】

【実施例】本発明は、２光束干渉を利用して、ドット状
の回折格子を次々に作製する回折格子プロッターにおい
て、あらかじめ用意した、回折格子が形成された回折格
子形成体をビームスプリッターとして用い、レーザービ
ームを回折して３本以上のレーザービームに分岐し、分
岐されたレーザービームのうち所定の２本のレーザービ
ームを、結像系等の集光手段によって、感光材料を塗布
した乾板上で常に１点に集光するようにしたものであ
る。

【００３４】以下、上記のような考え方に基づいた本発
明の一実施例について、図面を参照して詳細に説明す
る。

【００３５】図１は、本発明による回折格子プロッター
の構成例を示す概要図である。

【００３６】すなわち、本実施例の回折格子プロッター
は、図１に示すように、回折格子を形成するための感光
材料を塗布した乾板１が載置され、当該乾板１を移動さ
せるＸ−Ｙステージ２と、レーザービーム３を発生する
レーザー光源４と、レーザー光源４からのレーザービー
ム３を受け、その開閉によって露光，非露光を行なうシ
ャッター５と、シャッター５からのレーザービーム３を
反射するミラー６と、回折格子が形成され、ミラー６か
らのレーザービーム３を回折して３本以上（本例では３
本）のレーザービームに分岐する平面状の回折格子形成
体７と、回折格子形成体７により分岐されたレーザービ
ームのうち、選択された所定の２本のレーザービームを
通過させるビーム選択手段であるストッパー８と、スト
ッパー８により選択された２本のレーザービームを乾板
１上に集光する集光手段である結像系９と、読み取られ
た画像データに基づいて、Ｘ−Ｙステージ２の移動、シ
ャッター５の開閉をそれぞれ制御する制御手段であるコ
ントローラ１０とから構成している。

【００３７】ここで、結像系９としては、例えば２枚の
レンズを用い、その結像（焦点）位置が乾板１の感光材
料の表面上に存在するように配置している。

【００３８】次に、以上のように構成した本実施例の回
折格子プロッターの作用について説明する。

【００３９】まず最初に、画像入力手段であるスキャナ
―から取り込んだ画像データを読取り、計算機で色情報
の分解や調整等から画像データを補正し、視域の設定や
観察の方向の設定等を含む回折格子パターンのデータ
（ドットデータ）を作る。

【００４０】次に、コントローラ１０により、このデー
タの対応する位置、方向にＸ−Ｙステージ２を移動さ
せ、またこのデータにしたがった回折格子の明るさとな
るようにシャッター５の開閉時間を制御して、感光材料
が塗布された乾板１上に露光を行なう。

【００４１】すなわち、レーザー光源４からのレーザー
ビーム３が、シャッター５を通してミラー６で反射さ
れ、さらに回折格子が形成された回折格子形成体７によ
り、レーザービーム３が回折されて３本のレーザービー
ムに分岐される。そして、この分岐されたレーザービー
ムのうち、選択された所定の２本のレーザービームがス
トッパー８により選択され、この２本のレーザービーム
が、結像系９によって乾板１上に集光せられる。

【００４２】この段階で、一つのドットに対応した回折
格子の形成工程が完了する。

【００４３】次に、データの露光が全てについて終了し
たかどうかを判定する。

【００４４】その結果、まだ露光が全てのデータについ
て終了していなければ、上記の各処理を、全データの露
光が終了するまで繰り返して行ない、露光が全てのデー
タについて終了した時点で終了する。

【００４５】このようにして、複数ドット状の回折格子
パターンが完成（感光材料現像後）する。

【００４６】すなわち、本実施例の回折格子プロッター
では、乾板１上で２本のレーザービームを交わらせ、そ
の時にできた回折格子からなるドットを記録し、ドット
の集まりによって画像が作製される。

【００４７】次に、本実施例の回折格子プロッターの要
部の作用について、図２ないし図５を用いてより具体的
に説明する。

【００４８】なお、ここでは、結像系９として２枚のレ
ンズ９１，９２を用い、±１次の回折光を用いて回折格
子を作製する場合について述べる。

【００４９】また、図２ないし図５において、図１と同
一部分には同一符号を付して示している。

【００５０】さらに、図２においては、ストッパー８を
結像系９である２枚のレンズ９１，９２の間に配置して
おり、図１と異なっているが、回折格子形成体７と乾板
１との間であれば、どこに配置してもよいものである。

【００５１】まず、第１ステップとして、図２および図
３に示すように、ビームスプリッターとなる回折格子形
成体７に対して、垂直にレーザービーム（波長λ）３が
入射すると、±１次以外の回折光は、レーザービーム３
の光軸に対して角度βで出射する。

【００５２】その後、±１次以外の回折光（０次光であ
る透過光を含む）をマスク等（本例ではストッパー８）
を設けてカットする。

【００５３】sin β＝λ／ｄ₀ ここで、ｄ₀ はビームスプリッターとなる回折格子形成
体７の回折格子のピッチである。

【００５４】次に、第２ステップとして、図２および図
４に示すように、結像系９のレンズ９１の前側焦点位置
から入射したレーザービーム３は、レンズ９１の後方で
は、光軸（図示１点鎖線）に平行に進むレーザービーム
となる。

【００５５】また、光軸に平行に進むレーザービーム
は、レンズ９１に入射すると、レンズ９２の後ろ側焦点
位置に集束するレーザービームとなる。

【００５６】なお、以上の系は、レンズ９１の前側焦点
面にある像を、レンズ９２の後ろ側焦点面に結像するも
のである。

【００５７】この時、レンズ９１にβの角度で入射した
レーザービーム３は、レンズ９２をθの角度で出射す
る。

【００５８】tan θ＝（ｆ₁ ／ｆ₂ ）tan β ここで、ｆ₁ はレンズ９１の焦点距離、ｆ₂ はレンズ９
２の焦点距離であり、回折格子形成体７とレンズ９１と
の距離はレンズ９１の焦点距離ｆ₁ に等しく、レンズ９
２と乾板１との距離はレンズ９２の焦点距離ｆ₂ に等し
いとする。

【００５９】次に、第３ステップとして、図２および図
５に示すように、乾板１に対して２光束が、それぞれ乾
板１の垂線に対してθの角度で入射すると、乾板１表面
に現われる干渉縞のピッチｄは、以下のように表わされ
る。

【００６０】ｄ＝λ／２sin θ 上述したように、本実施例の回折格子プロッターは、回
折格子を形成するための感光材料を塗布した乾板１が載
置され、当該乾板１を移動させるＸ−Ｙステージ２と、
レーザービーム３を発生するレーザー光源４と、レーザ
ー光源４からのレーザービーム３を受け、その開閉によ
って露光，非露光を行なうシャッター５と、シャッター
５からのレーザービーム３を反射するミラー６と、回折
格子が形成され、ミラー６からのレーザービーム３を回
折して３本のレーザービームに分岐する平面状の回折格
子形成体７と、回折格子形成体７により分岐されたレー
ザービームのうち、選択された所定の２本のレーザービ
ームを通過させるビーム選択手段であるストッパー８
と、ストッパー８により選択された２本のレーザービー
ムを乾板１上に集光する集光手段である２枚のレンズ９
１，９２よりなる結像系９と、読み取られた画像データ
に基づいて、Ｘ−Ｙステージ２の移動、シャッター５の
開閉をそれぞれ制御する制御手段であるコントローラ１
０とから構成し、２本のレーザービームを干渉させるこ
とにより、回析格子を作製するようにしたものである。

【００６１】従って、次のような種々の作用効果が得ら
れるものである。

【００６２】（ａ）レーザー光源４からのレーザービー
ム３をそのまま使用しているため、光の利用効率が極め
て高く、また露光時間も短くなるため、外部からの振動
に対して強くすることが可能となる。

【００６３】（ｂ）レーザービーム３を、ビームスプリ
ッターとなる回折格子形成体７に対して垂直に入射し、
集光手段として結像系（レンズ）９を使用しているた
め、光学系の歪み、動きに対する許容度が大きい。

【００６４】（ｃ）装置のセッティングは、結像系９の
結像位置に、ビームスプリッターとなる回折格子形成体
７と乾板１（およびＸ−Ｙステージ２）を設置するだけ
でよいため、装置の調整が極めて簡便である。

【００６５】（ｄ）装置の調整が簡単で、装置の歪み等
による変動に対する許容度が大きいため、回折格子を形
成する位置精度を著しく向上させることが可能となる。

【００６６】（ｅ）装置の小型化、および自動化を図る
ことが可能となる。

【００６７】（ｆ）シャッター５の開いている時間を制
御することにより、乾板１に入射しているレーザービー
ム３の乾板１への露光時間を可変できるため、形成する
回折格子の深さ（あるいは回折格子の濃淡）を変化させ
ることが可能となる。

【００６８】（ｇ）集光手段として、種類が豊富でかつ
入手が容易、しかもコストも易いレンズからなる結像系
９を使用しているため、極めて容易に実施することが可
能となる。

【００６９】尚、本発明は上述した実施例に限定される
ものではなく、次のようにしても同様に実施することが
できるものである。

【００７０】（ａ）上記実施例では、露光を行なう場合
に、シャッター５の開いている時間を制御する場合につ
いて述べたが、これに限らず露光を行なう場合に、あら
かじめ設定した時間だけシャッター５を開くようにして
もよい。

【００７１】（ｂ）上記実施例では、集光手段である結
像系９として２個のレンズ９１，９２を備え、この結像
系９の焦点位置が乾板１の表面上に存在するように配置
する場合について述べたが、これに限らず結像系９とし
て１個、あるいは３個以上の複数個のレンズを備えるよ
うにしてもよい。

【００７２】（ｃ）上記実施例において、回折格子形成
体７を、入射するレーザービームの光軸に対して垂直な
面内で回転する回転ステージに取り付け、読み取られた
画像データに基づいてコントローラ１０によって回転さ
せることにより、回折光の方向も回転し、したがって作
成される回折格子の角度も変化するため、任意の方向の
回折格子を精度よく、簡便に、連続して作成することが
可能となる。

【００７３】特に、回転の中心とレーザービームの入射
位置が合っている必要がない、回転時にビームスプリッ
ターとなる回折格子形成体７のどの位置に入射してもよ
い、等許容度が広いという利点が得られる。

【００７４】すなわち、必要条件は、ビームスプリッタ
ーとなる回折格子形成体７が回転してもレーザービーム
３が入射している、また回転はレーザービーム３の光軸
に対して垂直である、ということだけである。

【００７５】図６は、回折格子形成体７の回転の様子を
示した図であり、回折格子形成体７とその回折格子形成
体７に垂直な面（この面内に、全ての回折光が存在す
る）は常に同じ関係を保ち、回折格子形成体７が回転す
れば、当該面も同じだけ回転する。

【００７６】（ｄ）上記実施例では、集光手段である結
像系９としてレンズ９１，９２を用いる場合について述
べたが、これに限らず結像系９としてホログラフィック
・オプティカル・エレメント（ＨＯＥ）を用いるように
してもよい。

【００７７】この場合には、ホログラフィック・オプテ
ィカル・エレメントは、通常のレンズ等に比べて小型で
軽く、かつレンズ等と同様の結像機能を実現することが
できるため、装置の小型化、軽量化を図ることが可能と
なる。

【００７８】（ｅ）上記実施例では、集光手段として結
像系を用いる場合について述べたが、これに限らず集光
手段としてミラーを用いるようにしてもよい。

【００７９】この場合には、ミラーは非常にコストが安
いため、実施が極めて容易となる。

【００８０】（ｆ）上記実施例において、制御手段であ
るコントローラ１０によって、Ｘ−Ｙステージ２すなわ
ち乾板１をＺ方向に移動制御することにより、集光位置
をずらして、２光束が干渉する面積を制御できるため、
形成される回折格子の面積を極めて簡便に変化させるこ
とが可能となる。

【００８１】（ｇ）上記実施例において、制御手段であ
るコントローラ１０によって、集光手段の集光位置、す
なわち結像系９の結像位置を移動制御し、かつＸ−Ｙス
テージ２すなわち乾板１をＺ方向に移動制御することに
より、形成される回折格子の面積を極めて簡便に変化さ
せることが可能となる他、乾板１表面への２つのレーザ
ービームの入射角度θを制御できるため、任意の空間周
波数の回折格子を形成することが可能となる。

【００８２】（ｈ）上記実施例において、回折格子形成
体７を、傾斜（あおり）制御機構（例えば、光軸を含む
面に平行な面内で回転する回転ステージでもよい）に取
り付け、制御手段であるコントローラ１０によって、回
折格子形成体７をレーザービーム３の光軸に対して傾斜
させるように制御することにより、回折角を変化させる
ことができるため、任意の空間周波数の回折格子を形成
することが可能となる。

【００８３】この場合には、＋１次と−１次の回折角度
が異なり、これらをそれぞれβ₊ ，β_- とし、回折格子
の傾斜角をΩとすると、以下のような式が成り立つ。

【００８４】sin β₊₁＝sin Ω−（λ／ｄ） sin β_-1＝sin Ω＋（λ／ｄ） ｄ＝λ／｛sin Ω（cos β₊₁−cos β_-1）−cos Ω（si
n β₊₁−sin β_-1）｝

【００８５】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、レ
ーザー光を用い、その２光束干渉によってドット状の回
折格子を作製する装置において、回折格子を形成するた
めの感光材料を塗布した乾板が載置され、当該乾板を移
動させるＸ−Ｙステージと、レーザービームを発生する
レーザー光源と、レーザー光源からのレーザービームを
受け、その開閉によって露光，非露光を行なうシャッタ
ーと、回折格子が形成され、シャッターからのレーザー
ビームを回折して３本以上のレーザービームに分岐する
回折格子形成体と、回折格子形成体により分岐されたレ
ーザービームのうち、選択された所定の２本のレーザー
ビームを通過させるビーム選択手段と、ビーム選択手段
により選択された２本のレーザービームを乾板上に集光
する集光手段と、読み取られたデータに基づいて、Ｘ−
Ｙステージの移動、シャッターの開閉をそれぞれ制御す
る制御手段とを備えて構成するようにしたので、装置構
成が極めて簡単で、かつ装置の調整も極めて簡便で、し
かも回折格子を精度よく連続して作製することが可能な
極めて信頼性の高い回折格子プロッターが提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による回折格子プロッターの一実施例を
示す全体構成図。

【図２】同実施例における作用を説明するための要部
図。

【図３】同実施例における作用を説明するための概要
図。

【図４】同実施例における作用を説明するための概要
図。

【図５】同実施例における作用を説明するための概要
図。

【図６】本発明の他の実施例を示す概要図。

【符号の説明】

１…乾板、２…Ｘ−Ｙステージ、３…レーザービーム、
４…レーザー光源、５…シャッター、６…ミラー、７…
回折格子形成体、８…ストッパー、９…結像系、９１，
９２…レンズ、１０…コントローラ。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザー光を用い、その２光束干渉によ
   ってドット状の回折格子を作製する装置において、 回折格子を形成するための感光材料を塗布した乾板が載
   置され、当該乾板を移動させるＸ−Ｙステージと、 レーザービームを発生するレーザー光源と、 前記レーザー光源からのレーザービームを受け、その開
   閉によって露光，非露光を行なうシャッターと、 回折格子が形成され、前記シャッターからのレーザービ
   ームを回折して３本以上のレーザービームに分岐する回
   折格子形成体と、 前記回折格子形成体により分岐されたレーザービームの
   うち、選択された所定の２本のレーザービームを通過さ
   せるビーム選択手段と、 前記ビーム選択手段により選択された２本のレーザービ
   ームを前記乾板上に集光する集光手段と、 読み取られたデータに基づいて、前記Ｘ−Ｙステージの
   移動、前記シャッターの開閉をそれぞれ制御する制御手
   段と、 を備えて成ることを特徴とする回折格子プロッター。
2. 【請求項２】 前記回折格子形成体を、入射するレーザ
   ービームの光軸に対して垂直な面内で、前記読み取られ
   たデータに基づいて回転させるようにしたことを特徴と
   する請求項１に記載の回折格子プロッター。
3. 【請求項３】 前記集光手段としては、結像手段である
   レンズを用いるようにしたことを特徴とする請求項１に
   記載の回折格子プロッター。
4. 【請求項４】 前記集光手段としては、結像手段である
   ホログラフィック・オプティカル・エレメントを用いる
   ようにしたことを特徴とする請求項１に記載の回折格子
   プロッター。
5. 【請求項５】 前記集光手段としては、ミラーを用いる
   ようにしたことを特徴とする請求項１に記載の回折格子
   プロッター。
6. 【請求項６】 前記制御手段としては、前記Ｘ−Ｙステ
   ージをＺ方向に移動制御するようにしたことを特徴とす
   る請求項１に記載の回折格子プロッター。
7. 【請求項７】 前記制御手段としては、前記集光手段の
   集光位置を移動制御し、かつ前記Ｘ−ＹステージをＺ方
   向に移動制御するようにしたことを特徴とする請求項１
   に記載の回折格子プロッター。
8. 【請求項８】 前記制御手段としては、前記シャッター
   の開いている時間を制御するようにしたことを特徴とす
   る請求項１に記載の回折格子プロッター。
9. 【請求項９】 前記回折格子形成体を、レーザービーム
   の光軸に対して傾斜させるようにしたことを特徴とする
   請求項１に記載の回折格子プロッター。