JP2008544485A5 - - Google Patents

Claims (12)

1. 真空コンベヤシステムにおいて、
   複数の基板を収容するように構成された第１の真空スリーブを有する第１のコンベヤモジュールと、
   前記第１の真空スリーブに密閉可能に結合した複数の処理チャンバと、
   前記第１の真空スリーブ内に配置され、前記第１の真空スリーブと少なくとも１つの前記処理チャンバの間で、基板を運搬するように構成された第１の基板運搬部とを含む真空コンベヤシステム。
2. 前記複数の処理チャンバの２番目に近接配置され、前記第１の真空スリーブと前記第２の処理チャンバの間で基板を運搬するように構成された第２の基板運搬部を含む請求項１記載のシステム。
3. ロードロックにより前記第１の真空コンベヤモジュールに結合された第２の真空コンベヤモジュールを含み、前記第１の真空コンベヤモジュールが、第１の真空圧力に維持され、前記第２の真空コンベヤモジュールが、前記第１の真空圧力と異なる第２の真空圧力に維持されている請求項１記載のシステム。
4. 前記第１のコンベヤモジュールが、第１の領域を画定する第１の複数のローラと、前記第１の複数のローラに対して独立して駆動される第２の複数のローラとを含む請求項１記載のシステム。
5. 前記第１のコンベヤモジュールが、前記ローラの中心に対してオフセットな軸周囲で偏心的に回転するように構成された少なくとも第１のローラと第２のローラとを含み、前記第１および第２のローラが、互いに回転位相不一致である請求項１記載のシステム。
6. 前記第１のコンベヤモジュールが、互いに回転位相不一致である複数の偏心形状ローラを含む請求項１記載のシステム。
7. 前記第１の基板運搬部が、内側基板運搬部と、独立に制御可能な外側基板運搬部とを含む請求項１記載のシステム。
8. 前記第１の真空スリーブに平行に配置された第２の真空スリーブを含み、その間に結合された複数のプロセスチャンバを有し、
   前記第１の真空スリーブと前記第２の真空スリーブに実質的に垂直に配置されたコネクタスリーブを含み、前記コネクタスリーブが、前記第１の真空スリーブと前記第２の真空スリーブを結合している請求項１記載のシステム。
9. 前記第１の真空スリーブと前記コネクタスリーブの間の界面近傍に配置された第２の基板運搬部を含む請求項８記載のシステム。
10. 基板を処理する方法において、
    （ａ）真空コンベヤシステムを提供する工程であって、前記真空コンベヤシステムが、第１の真空スリーブであって、前記第１の真空スリーブを第１のプロセスチャンバに密閉可能に結合するためのポートを有する前記第１の真空スリーブと、前記第１の真空スリーブを通して、基板をサポート及び移動する複数の基板サポートと、前記ポート近傍の前記第１の真空スリーブ内に配置された第１の基板運搬部とを有する、工程と、
    （ｂ）前記第１の真空スリーブを通して、第１の基板を、前記第１の基板運搬部の上の位置に搬送する工程と、
    （ｃ）前記第１の基板運搬部を垂直作動して、前記第１の基板を、前記複数の基板サポートからリフトする工程と、
    （ｄ）前記第１の基板運搬部を、水平作動させて、前記第１の真空スリーブに結合されたコネクタスリーブに配置された複数のリフトピン上に前記第１の基板を移動する工程をを含む基板を処理する方法。
11. 基板を運搬するための装置において、
    少なくとも第１の方向に基板を搬送するよう構成されたコンベヤと、
    基板運搬部とを含み、前記基板運搬部が、
    前記コンベヤの基板サポート上昇位置の下に配置された待機位置と、前記コンベヤの上に配置された第１の移動位置と、前記第１の移動位置の側部の第２の移動位置との間で可動する、基板を運搬するための装置。
12. 前記基板運搬部が、前記第１と第２の移動位置間で、前記第１の方向に実質的に垂直な方向に、前記基板運搬部を動かすように適合された第１の水平運動アセンブリを含み、
    前記基板運搬部が、前記第１のブラケットと前記第１の水平運動アセンブリの間に配置された第１の垂直運動アセンブリを含み、
    前記基板運搬部が移動位置にある時、前記第１の垂直運動アセンブリが、前記コンベヤの基板サポート間を動く請求項１１記載の装置。