JP2008202146A - 縦型化学気相成長装置及び該装置を用いた成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】略直立した状態の基板8に対して成膜を行う縦型化学気相成長装置を、第1成膜室3内に、全面に亘って所定間隔でエアフロー孔20a、20b、20cを配設した縦型搬送ベースプレート11を、搬送ベースプレート下端部の基板搬送方向の軸線21回りに回動可能に設け、搬送ベースプレート下端部の基板搬送方向に沿って基板8の下端縁を支持して基板搬送を行う複数の搬送ローラ23を取り付けて構成する。そして、縦型搬送ベースプレート11の基板支持面11sが上面となるように搬送ベースプレート11を軸線21回りに傾倒させると共に、エアフロー孔20a、20b、20cにより搬送ベースプレート11の基板支持面11s方向にエアフローを行った状態で基板支持面11s上に基板8を搬入する。
【選択図】 図2
Description
4 第2成膜室
8a、8b 基板
11a、11b、13a、13b、17、18
搬送ベースプレート(真空下仕様)
10c、16c 搬送ベースプレート(大気圧下仕様)
11s 基板支持面
20a〜20c、30a〜30c エアフロー孔
21a、21b 軸線
22a、22b 回転機構
23a、23b 搬送ローラ
Claims (6)
- 略直立した状態の基板に対して成膜を行う縦型化学気相成長装置において、真空室内に、全面に亘って所定間隔で複数のエアフロー孔を配設した縦型搬送ベースプレートを、該プレートの基板支持面が上面となる傾倒姿勢で配置し、前記プレート下端部の基板搬送方向に沿って前記基板の下端縁を支持して基板搬送を行う複数の搬送ローラを取り付けたことを特徴とする縦型化学気相成長装置。
- 前記搬送ベースプレートを、
該プレート下端部の基板搬送方向の軸線回りに傾動可能としたことを特徴とする
請求項1に記載の縦型化学気相成長装置。 - 請求項2に記載の縦型化学気相成長装置を用いる成膜方法において、
最初に、前記縦型搬送ベースプレートの基板支持面が上面となるように該搬送ベースプレートを前記軸線回りに傾倒させると共に前記複数のエアフロー孔により前記搬送ベースプレートの基板支持面方向にエアフローを行った状態で、前記搬送ベースプレートの基板支持面上に前記基板を搬入する第1工程と、次に、前記エアフローを停止した後に、前記基板を支持したまま前記搬送ベースプレートを前記軸線回りに傾動して前記基板を直立させ、該直立状態の基板に対して成膜を行う第2工程とから成ることを特徴とする成膜方法。 - 前記第1工程のエアフローは、配設位置が上側のエアフロー孔より下側のエアフロー孔において小流量であることを特徴とする請求項3に記載の成膜方法。
- 前記第2工程における搬送ベースプレートの直立時に、
前記エアフロー孔を動作停止から吸引動作に切り換え、
前記複数のエアフロー孔により、前記基板を前記搬送ベースプレート方向に吸引することを特徴とする請求項3または4に記載の成膜方法。 - 請求項1または2に記載の縦型化学気相成長装置を用いる成膜方法において、前記傾倒姿勢とした搬送ベースプレートの基板支持面方向に、前記複数のエアフロー孔によりエアフローを行った状態で、前記基板支持面上を通過する基板に対して成膜を行うことを特徴とする成膜方法。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011024853A1 (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | 成膜装置 |
JP2011201697A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス板の振り分け装置 |
JP2012504084A (ja) * | 2008-09-26 | 2012-02-16 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスシートを搬送するための液体噴出ベアリング |
KR20130009554A (ko) * | 2011-07-13 | 2013-01-23 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판 트레이 핸들링 장치와 이를 포함한 증착 장치, 및 기판 트레이 핸들링 방법 |
CN116479406A (zh) * | 2023-06-20 | 2023-07-25 | 长鑫存储技术有限公司 | 化学气相沉积设备与方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118906A (ja) * | 1999-10-22 | 2001-04-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 分割型トレイレス斜め基板搬送システム |
JP2002308422A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Takehide Hayashi | フラットパネル搬送システム |
JP2004083997A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Ulvac Japan Ltd | 縦型化学気相成長装置及び該装置を用いた成膜方法 |
-
2008
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001118906A (ja) * | 1999-10-22 | 2001-04-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 分割型トレイレス斜め基板搬送システム |
JP2002308422A (ja) * | 2001-04-13 | 2002-10-23 | Takehide Hayashi | フラットパネル搬送システム |
JP2004083997A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Ulvac Japan Ltd | 縦型化学気相成長装置及び該装置を用いた成膜方法 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012504084A (ja) * | 2008-09-26 | 2012-02-16 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスシートを搬送するための液体噴出ベアリング |
JP2014193773A (ja) * | 2008-09-26 | 2014-10-09 | Corning Inc | ガラスシートを搬送するための液体噴出ベアリング |
US9708136B2 (en) | 2008-09-26 | 2017-07-18 | Corning Incorporated | Liquid-ejecting bearings for transport of glass sheets |
WO2011024853A1 (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-03 | キヤノンアネルバ株式会社 | 成膜装置 |
JP2011201697A (ja) * | 2010-03-26 | 2011-10-13 | Nippon Electric Glass Co Ltd | ガラス板の振り分け装置 |
KR20130009554A (ko) * | 2011-07-13 | 2013-01-23 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판 트레이 핸들링 장치와 이를 포함한 증착 장치, 및 기판 트레이 핸들링 방법 |
KR101688199B1 (ko) | 2011-07-13 | 2016-12-21 | 주식회사 원익아이피에스 | 기판 트레이 핸들링 장치와 이를 포함한 증착 장치, 및 기판 트레이 핸들링 방법 |
CN116479406A (zh) * | 2023-06-20 | 2023-07-25 | 长鑫存储技术有限公司 | 化学气相沉积设备与方法 |
CN116479406B (zh) * | 2023-06-20 | 2023-11-10 | 长鑫存储技术有限公司 | 化学气相沉积设备与方法 |
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