JP2008534775A - コーティング材料を蒸発若しくは昇華させるための加熱装置とコーティング装置と方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (25)
- 特にコーティング装置(100)での使用のために、コーティング材料を気相に変えることが可能な加熱装置(10)において、
中空のスペースと内面とを有し、これら中空のスペースには、前記コーティング材料が装填可能である少なくとも1つの加熱ユニット(11)と、
前記加熱ユニット(11)中に分散状態で位置された複数の加熱素子(12)とを具備していることを特徴とする加熱装置。 - 前記複数の加熱素子(12)は、前記加熱ユニット(11)中に埋設されている請求項1の加熱装置。
- 前記複数の加熱素子(12)は、前記加熱ユニット(11)の複数の内壁により形成されている請求項1又は2の加熱装置。
- 前記複数の加熱素子(12)は、少なくとも2W/mKの熱伝導性を有している前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 前記複数の加熱素子(12)は、電気エネルギーを熱エネルギーに迅速に変換するように設定されている前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 前記加熱素子(12)は、少なくとも1つの熱源(40)に接続されている前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 前記加熱ユニット(11)は、孔構造、薄層構造、蜂の巣状の構造、発泡構造、並びに繊維構造のグループから選択された少なくとも1つの内部構造を有している前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 前記加熱ユニット(11)は、金属、セラミック材料、若しくは、金属とセラミックとの合成材で形成されている前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 加熱素子(12)がそれぞれ設けられ、コーティング材料が装填可能な幾つかの加熱ユニット(11.1、11.2、11.3)を有している前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 前記加熱ユニット(11.1、11.2、11.3)の少なくとも1つの加熱素子は、いずれの場合においても、他の加熱ユニットの加熱素子から選択的に動作されることが可能である請求項9の加熱装置。
- 気相に変えられる前記コーティング材料のビーム特性を果たすようにガイド装置(15)を有している前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 前記加熱ユニット(11)の少なくとも1つ若しくは前記ガイド装置(15)の放出面(13)は、気相に変えられる前記コーティング材料のビーム特性を果たすように形成されている前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 前記中空のスペースは、少なくとも1つのディメンションにおいて、1mmないし5cmの範囲の特徴的なサイズを有している前記全ての請求項のいずれか1の加熱装置。
- 前記中空のスペースは、少なくとも1つのディメンションにおいて、1μmないし1mmの範囲の特徴的なサイズを有している請求項1ないし12のいずれか1の加熱装置。
- 前記全ての請求項のいずれか1つに従った少なくとも1つの加熱装置(10)が装備されているコーティング装置(100)。
- コーティングされる基板(31)を所定の参照面に沿って位置付けるための基板ホルダ(30)を具備している請求項15のコーティング装置。
- 前記加熱装置(10)は、気相に変えられるコーティング材料のビーム特性を果たすように、少なくとも1つの加熱ユニット(11)若しくはガイド装置(15)の所定の放出面を有し、前記放出面は、前記基板ホルダ(30)の参照面に沿って延びている請求項16のコーティング装置。
- 特にコーティング装置(100)でコーティング材料を気相に変えるための方法であって、
請求項1ないし15のいずれか1つに従った加熱装置(10)の少なくとも1つの加熱ユニット(1)にコーティング材料を装填する工程と、
前記少なくとも1つの加熱ユニットの加熱素子(12)を動作させる工程とを具備する方法。 - 前記加熱素子(12)を動作させる工程は、前記加熱素子(12)に電流若しくは熱流を供給することを含む請求項18の方法。
- 前記加熱素子(12)は、少なくとも2W/mKの熱伝導性を有し、前記加熱素子を動作させることは、前記加熱素子に熱流を供給することを含む請求項19の方法。
- 前記加熱装置(10)は、加熱素子が設けられた幾つかの加熱ユニット(11.1、11.2、11.3)を有し、これら加熱素子を動作させることは、所定の動作方法に従って果たされる請求項18ないし20のいずれか1の方法。
- 前記幾つかの加熱ユニット(11.1、11.2、11.3)の加熱素子の各々を、別々にシーケンスで動作させる請求項21の方法。
- 気相に変えられるコーティング材料の放射特性の形成が与えられる請求項18ないし22のいずれか1の方法。
- 前記気相に変えられるコーティング材料の蒸着は、基板に与えられる請求項18ないし23の少なくとも1つの方法。
- 有機材料から層を形成するための請求項1ないし17のいずれか1つに従った加熱装置若しくはコーティング装置の使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102005013875A DE102005013875A1 (de) | 2005-03-24 | 2005-03-24 | Heizeinrichtung, Beschichtungsanlage und Verfahren zur Verdampfung oder Sublimation von Beschichtungsmaterialien |
DE102005013875.6 | 2005-03-24 | ||
PCT/EP2006/002632 WO2006100058A2 (de) | 2005-03-24 | 2006-03-22 | Heizeinrichtung, beschichtungsanlage und verfahren zur verdampfung oder sublimation von beschichtungsmaterialien |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008534775A true JP2008534775A (ja) | 2008-08-28 |
JP5362346B2 JP5362346B2 (ja) | 2013-12-11 |
Family
ID=36869945
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008502318A Expired - Fee Related JP5362346B2 (ja) | 2005-03-24 | 2006-03-22 | コーティング材料を蒸発若しくは昇華させるための加熱装置とコーティング装置と方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8082877B2 (ja) |
EP (1) | EP1874976B1 (ja) |
JP (1) | JP5362346B2 (ja) |
KR (1) | KR101256101B1 (ja) |
DE (1) | DE102005013875A1 (ja) |
TW (1) | TWI335940B (ja) |
WO (1) | WO2006100058A2 (ja) |
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US20080193644A1 (en) | 2008-08-14 |
EP1874976A2 (de) | 2008-01-09 |
WO2006100058A3 (de) | 2006-12-07 |
EP1874976B1 (de) | 2013-03-13 |
JP5362346B2 (ja) | 2013-12-11 |
TW200639264A (en) | 2006-11-16 |
KR101256101B1 (ko) | 2013-04-23 |
DE102005013875A1 (de) | 2006-11-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090205 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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