TWI335940B - Heizeinrichtung, beschichtungsanlage und verfahren zur verdampfung oder sublimation von beschichtungsmaterialien - Google Patents

Heizeinrichtung, beschichtungsanlage und verfahren zur verdampfung oder sublimation von beschichtungsmaterialien Download PDF

Info

Publication number
TWI335940B
TWI335940B TW095110207A TW95110207A TWI335940B TW I335940 B TWI335940 B TW I335940B TW 095110207 A TW095110207 A TW 095110207A TW 95110207 A TW95110207 A TW 95110207A TW I335940 B TWI335940 B TW I335940B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
heating
coating
heating body
heating elements
elements
Prior art date
Application number
TW095110207A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200639264A (en
Inventor
Froeb Hartmut
Drechsel Jens
Original Assignee
Creaphys Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Creaphys Gmbh filed Critical Creaphys Gmbh
Publication of TW200639264A publication Critical patent/TW200639264A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI335940B publication Critical patent/TWI335940B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation

Description

1335940 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】
此項發明包含-種可將m或昇麵加齡置,該加熱 袈置可應祕錄設備是作為汽化裝置上的㈣體,本發
明此外也包含-種至少具有以上加餘置的塗奴備,以及塗料 汽化或昇華的方法。 【先前技術】 • 般說來,彻加熱汽化的方法來作塗震已行之多年,加熱 汽化這個方法之所以廣泛地被使用在表面塗裝處理上,特別是在 有機光電領域上的生產過程,例如,使用有機發光二極體(〇led) 的顯示器,其重要因素之-就是它的單純性。 加熱以化綠就是把補放置於—個汽化裝置内加熱,使得 這些汽態分子根觀化或料_轉變域態,絲藉助於它 參們所得到的動能’或是經由擴散作用(例如在某種媒介氣體中), 著凝結到我們所規劃的標的表面上,典型的汽化過程必須在真 '空中進行’但是如果讀性氣體作域子的話,在健環境,甚 ’至於大氣壓力下的汽化都是可能的。 實務上’已知把原料轉變為汽態的方法有很多種,其簡化的 形式就是把航化捕放置在—侧龜繞著加齡件(燈絲) 的掛堝裡面’當與被加熱時,經由熱輻射或是/以及熱傳導,放 置於賴裡頭的原料就可以獲得所須的能量而轉變為汽態。 妓要讓儘可能 的原料’可以在最h的時啊,發生相變,但必須要是在原 ϋ穩定的條件下’也就是說,汽化裝置的溫度爾得愈低就愈不 谷易使得這些待汽化原料受到過熱的鎌,這制要求在有機原 科场別㈣,因為有機物暴露在高能量下時,容祕生變化甚 ’又]破:¾原料的穩定性即使是在無機化合物上也是需要注音 的課題。 〜 為了滿足以上所述的要求,有人建議對待汽化原料均勾地進 行能量輸送,在歐洲專利書EP 1 132 493 A2裡,對用於基材塗 佈的有機分子汽化健所作㈣_是,在職她待汽化原料 跟具有高度熱導能力的金屬或陶竟粒子混合,但是雖然以金屬或 陶餘子作為添加物的確改善了熱量傳導的行為,缺點仍然存 在,那就是能量輸送到職的方式還是間接的,添加粒子的能量 傳輸還是*足_ ’因為添加粒子之_細還是受到待汽化原 料的阻隔,另-個缺狀,職中散㈣配置可能會使得汽化裝 置的射出特性將要隨著剩餘原料的多寡而改變,這會對塗佈的均 勻度以及流程控制有不良影響’此外_的形狀,進而分子流束 的形狀也會受到限制。 由歐洲專利書第EP 〇 561 016 A1號可知,例如由虫鼠或是氨 基鉀酸S旨(Urethan)所形成的有機塗層,魏把—渗透性載體^ 漬於有機補或其溶液中,然後再把這個載體置人汽化I置中加 1335940 修正 ίϊ? 汽化’在_料^^於該載體的容 _物術娜權嘛任務,但是 足上述的要求。rf種缺點,使得這種傳統技術仍無法完全滿 加m L 缺點就在於浸潰過的載體在掛禍中的間接 進〇而導纟/麵源能量輸送的不均勻會導致汽化的不均勻,並 術運用果的不均勻,為了防止這個問題發生,傳統的技 的缺點好妓薄料域體,好具树述不良熱導 體則對於可汽化原料的數量以及/或是汽化裝置 為守、主㈣—了不必要的限制’再另—個缺點是,附著於這種 為次》貝取料而設計的傳統裁俨 用h H、 載體上的溶劑無法完全去除。在許多應 Μ可、、/x^過私中’溶劑的存在S报有問題的,這是因為溶 以視為-種雜質’而且對於塗層的形成以及其特性會產生 :擾,這樣触象特別是在有機光電元件的生產上,容轉致效 率的降低或者是生命期的縮短。 【發明内容】 因此這個發_使命就是,發展出—種改良式的,尤 塗裝設備應用上的汽化或是昇華技術,這個新的技術不僅是要克 服以上傳統式汽化技術的諸多缺點,而且要使這個新的技術具有 更廣泛的應雜圍,_是也要可以翻在有機塗層的加工势造 上,這個新的技術尤其應該要達到高功率(每單位時間高度的 料輸送量)η糊崎姆,糾㈣基材的塗 裝作業上也-樣’加溫姐巾,—賴於塗料不至於造成傷害的 4-3 1335940 修正 精確溫度調冑妓這個發赃務的^~~ /這個任務可以透過具有專利中請範圍第卜15或17項所述 特徵的種加熱裝置、一種塗裂設備,以及一種塗佈方法來達成。 本毛月之申#專她圍的其它附屬項目則舒塗裝賴在形態以 及應用上的諸多優越性。 由本發月的第-個觀點來看,此任務首先是由一種可以使原 參;( '下簡稱塗料)升溫以至汽化的加熱裝置來達成。此加熱裝 ,寺徵&個具有内腔的加熱體。這個内腔的功能是要容納塗 料並包含分散佈置的多個加熱元件。相對於傳統式的汽化技術, 卷月所提出的加熱裝置可以使得塗料跟加熱體形成緊密直接的 接觸’故耐鱗_的直接能量輸送。 恤裡〃祕置加熱讀的方摘可以大量提升塗料跟多 =加熱元件之_有效接觸面積。這個時候我們對於塗料的能量 所有位置同時進行。這種加熱方式的優點是 出佈狀態,例如均勾分佈。本發明所提 戶、:,,、體具有_個重要的優點,那就是加熱腔裡面的溫度均衡 ^中^過恤的加熱元件喊方法,我們可以避㈣統加执方 =胃「熱點一)」的局卿 =伽問題也因此得到解決。由於本發明― 所具有的—親蝴,目峨了_麵 1335940 修正丨
. 旦μ aa 口丄a —___補充I 里的巨大負擔。這樣的設計降低了特定塗佈速率所需的汽化溫 ,度而且普遍提高了汽化效率。 &於腔㈣待汽化原料不斷地在進行附著跟散開的作用,加 熱體的内部結構可贿得其表面上補的流量保持穩定,也因而 •為塗佈的均勻度建立了必要的基礎。再者,汽化特性即使是在原 料存量的最大幅度變化之下仍可保持不變,或者僅只有可以忽略 的極小改變。 '由於本發騎提出的加歸置對於待汽化塗料_類不會造 制所以在貫際的應用上,無論原料的初始狀態是流質還是 - 。都可以原子、分子,或聚合的型態被轉化為汽相。雖秋典 型的相變是賊化料華’但是我·本專利申細^使用的 概念「汽化」是指所有可能種類的相變。 我們在這裡所使關概念「加熱元件」所指涉的是任何可以 鲁使用於加熱體的,適合於直接加熱相鄰分佈塗料的元件。每一個 •加減_近的塗料溫度都可喊猶加氣件所職的孰源直 .接調節。在這個用途上,加熱元件就是_或是熱源的一部份。 基於特殊魏的需求,如果輕把多數加熱元件嵌入到加執 體内’本發明具有足夠的彈性可以允許預定的加熱元件分佈。例 如,當我們想得到均勾放射特性的時候,可將加熱元件以均勾的 樣式配置於加熱體内腔。隨著各式各樣在應用上的具體需求,也 5 1335940 置’以便在加熱體上 可以變化—下把加熱元件用^^的標 的不同的局部區域形成不同的汽化速率 於減Γ言,根據本發明所製作的多個加熱元件可以單獨配置 :相、^作為獨立的稱。但是這些加熱元件跟加熱體最好是 =相_質。加熱體的内壁可作為加熱元件使用。本發明如 現的話,其優點是,在這種情形下,加熱元件可 1二繼犧,處祕了細傳輸,以及 ㈣了額外的載體材料。這些額外的載體材料可能會使得本發明 所指涉的加熱裝置對於溫度的快速反應產生負面的影響。 加熱元件所使用的材料最好具有每公尺克耳文至少2瓦特 (2 W/rnK)的導熱能力。其好處是可以整個加熱體對外界溫度調 祕有快速的反應。蝴元件不雜収«的、導熱度在每公 尺克耳文1G瓦特(1GW/roK)以上的材料。 本專利所提出的-個具有特別優勢的發明,就是使用了對塗 料作直接加熱的加熱树。在這樣的組態上,我們用電流直接驅 動加熱兀件,以便使電能直接轉變為熱能。本發明的這種加执形 式的特別㈣是讓加_置具錄義溫度反應。這些加熱 元件可以直接跟至少-個電觀接,也可叹由元件外部電磁場 驅動’而在元件内部感應出電流的感應式主動發熱元件。 6 12 - ^ 12 - ^1335940 本發明的加熱裝置的第二種㈣是與至少—個熱源作直接接 觸的被動加熱7C件設計。這馳態的優點是加熱裝置簡化的構造 以及在具體汽餘務上的雜跟適應性。錢麵動式加熱元件 的、、且態上,為了保持快速的溫度調節反應,我們則選擇使用導熱 度更高’至少每公尺克耳文50瓦特(50 W/m Κ)以上的加敎元 件。 *、’、 一般來說,本發明所運用的加熱體在幾何上具有三度空間的 内部結構。這樣在三度空間幾何上就構成了複數個空腔以及一個 内壁。方便的是其内部的結構在形狀上並沒有任何的限制。加熱 體幾何構造的_可靖著塗料是存在於_或是絲的相位以 及/戈疋有無特別的形狀要求的各種不同狀況而變化。比較具有 優越性的是由具有小孔(Poren)(空腔)、薄層(Lamellen,相互 平行的隔片,也可以有蓋)、蜂巢(Waben)、具有滲透性的起泡材 料(offenporigerSchaum)以及/或是纖維(Faser)組合製成的 内部空腔。 加熱體本身在材質上最好選用至少一種導電材料。例如至少 一種金屬以及或者一種陶瓷材料。使用這種材料的好處是基於它 們在力學與熱力學特性上的穩定性,以及加熱體本身外形的可加 工性。金屬材料可以選擇鎮鋼(Wolfram)、组、翻、銅、金、銀、 不銹鋼(例如鋼泡〔Edelstahlschaum〕)。比較適合的陶竟材料我 們列舉碳化矽(Siliziumkarbid)、硼氮化合物(Bornitrit)、氧 7 1335940 _—_ ΓΪ1| lflfZj 一 I 補 化鋁 (Aluminiumoxid )、 硼氮-鈦乙硼 ’ (Bormtrit-Titandiborit)、氮化銘(Aluminiumnitrit)或是 這些材料的混合物。如果一個加熱體要由金屬跟陶瓷混合構成的 - 話’可以考慮在陶瓷上作金屬塗佈。再者,加熱體的材質裡也可 $有石墨,或者完全由石墨製成。在前者的情況下、無論是在 陶瓷材料上塗佈石墨或者是在陶瓷材料裡面嵌入石墨,都是可行 的例子。
本發明所可以衍生的另一種有利的製造形式是含有多個加熱 體的加熱裝置。這些加健可以填m是錄不同的塗料。 因應各種具_塗裝作#,這些填裝了不_料以及/或是具有不 同内部結構的加鋪可喊汽化裝置減列佈置。把這些加熱體 以上下堆方式佈置於汽化|置中的話也可以有其方便 性。為了便概化作業流㈣控制,可讓屬於至少—個加熱體的 加熱元件跟其它的加熱元件分開來驅動。 由本發明所衍生的加熱裝置可以具有的另一個重要優點是, 可以在加齡置上裝置導向機構㈣汽態塗料,_朗要需要 的放射特性。—傳統職式的汽化裝置是㈣躺形狀、綱 上溫度分碰形,収㈣的行絲妓其物触。相較 本發明所提供的加紐及其轉㈣咕縣妓 性。這個導嶋基本上可以由任何適合 8 丄 W5940 受1|1?修正 •τ 月日 ,:的元件構成。該導向機的加熱體構成, 〇本身在加絲置運作時並不塗m料塗料經過。 。導向機構㈣殊優點是,可崎把塗料轉化騎_相變過 私跟塗料被汽化之後由出口注入到塗裝設備内腔的過程分開。導 .向機構在作用上是一種原料傳輸媒體。在導向機構的内部結構 裡’塗料不斷的吸附跟分離的作用成全了汽態原料通過導向機構 鲁的傳輪。11樣的好處s,那個負責把塗料轉變為汽態的加哉體可 以針對這個相變任務作最佳化,而同時,這一個導向機構均外 的加熱體則可針對其原料流束控制的任務作最佳化。 加熱體以及/或是導向機構在其外形上可以隨著所須的汽化 特性而自由地選擇。而出口朝向基材、釋放出汽態原料的表面, 也可以隨著實際的汽化任務自崎取。所峨平坦的表面,以至 於凹形、凸形以及各式各樣彎曲的表面都可以均勻塗佈。汽態原 #料出汽面可以局部彎曲,尤其是凹狀或是凸狀。像這樣子的ϋ • •形狀考率對於汽化雜有其重大的影響,因為在汽化作業上的原 -料流束主要是朝向所要傭的物件,故而提高了汽化的效率。這 裡所指的效率是最終所塗佈在受钱物件上的原料總量跟在汽化 系統中的所需用掉的原料總量的比值。汽態原料出汽面的形狀應 該隨著所欲塗裝機板的形狀差異而彈性選擇。 加熱體的内部結構可以隨著實際汽化作業的條件作間隔上的 調整。空穴的大小可視塗料的相變特性以及用料需求作適當的選 9 98]2. I7 修正 年月日 … 丨補充 對於像是粉狀或者是粒子狀哪塗料,考慮其在加熱體的 :及大量塗佈的方便性上’腔體的特性間隔 八C araktenstischeGr〇esse)應該選擇在大約i亳米到5公 刀之間。讀所謂的特性間隔所指涉的是在至少―個方向上的介 =巢=上平行薄層結射編相鄰薄片之間的距離,或奴 用 平行相對的兩個内壁之間的距離。在某些特定的應 、,’選擇較小_部結_距可能會比較有利。譬如說,待汽 果在填裝触段是呈職狀,加鏡内部結構在間隔上 二=疋的選擇’使得當毛細管作用發生的時候,原料可以被平 均地導入並分布在整個加熱體上,進而促成均勾的汽化。相對地, =候當這些空腔在至少—個方向上具有1微_丨毫米這個 軏圍内的特性間隔範圍内是有利的。 =結構的最合適關隔選擇通常可由專業人員根據各種汽 來歧。修㈣—個大_職材(其大小在1〇公分 到1公尺的層級範圍)作喷霧的話,最合適的特性間隔也可能會 是3公分。 由本發明的第二個觀點來看’以上所述的任務是由一種至少 具有-個本發騎贿的加錄置的塗料備來達成。根據本發 明所優先触的-缝綠備具有—_來定位待塗裝基材的支 造,使得這個基材的表面跟—個基準面對齊。這一個基準面 以跟加熱裝置的岐面__幾何構造為優。 1335940 _ s㈣修正 、 L 補充 、、由本發明辟三個觀點來看,以上所述雜務是由-種汽化 =去來達成。個汽化方法騎轉當中使用了至少—個本發明所 提出的可轉裝航化轉的加題。* -·少有一個是使用對於待汽化原料作直接加熱的加熱树 • 本發_提出財法所具有的傑出伽是,待汽化元料的溫 度可以對外界的溫度調節有—個短的反應_。加錄置中的溫 度可叹精確地靖’使得在高汽化鱗的運轉當巾,原料不至 •驅動》或是 在根據本發騎優先魅財法上,至対—個加熱體的加 熱元件是直接由電流驅動或經由電磁感應直接由電流 替代性地以熱流驅動。 本發明也包含了-侧立的細。此即應用本發騎提出的 加熱裝置或是本發明所提ώ的塗裝設備於有機麵塗層,特別是 • 有機色料塗層的製造上。 【實施方式】 娜本發撕衍钱频形式贿如下,紅肝呈現且有 平坦的或是凸狀出汽面的加熱體運用。這禮要強調的是,本發明, 無論是在出汽面的變化形式上’以及/或是在加熱裝置跟待塗裝基 材之間相對_鶴的變化形紅,較Μ域實施的。所有 關於塗裝贿、汽化H,及其__色,只要是在傳統的汽化 11 I335940 r—_____ 技術上已知的,或者是在_根據本發明所衍生的加熱裝置時, 可以由專業人員調配的’在以下的說明裡不會再逐項贅述。例如, .我們可以難所有根據本發明衍生的汽化m都會有一個如圖 . 二所不的溫度感測器。 • 首先’請參閱第—圖 '第二圖及第三圖,.根據本發明所衍生 的’具有主動鶴加件的加難置’以及第四圖為另一個根 魯據本發明所衍生的,具有被動驅動加熱元件的加熱裝置。 第-圖為-根據本發明所衍生的塗裝設備⑽的剖面圖,這 個塗裝設備100具有-個加熱裝置1〇、一個外接電源2〇,跟一個 基材依托3G。塗裝設備的内部空間是—個隔離室仙這個 隔離^〇1可以是由真空設備(未圖示)抽成真空的密閉空間, 或者是由鈍氣源(未圖示)填裝過媒介氣體的密閉空間。 加熱裝置10包含了-個由_材料組成的、具有許多小孔 (空腔)的加熱體n,這—個加熱體n是由碳化頻成的,盆上 的=小孔(空腔)大小約為1毫米,這種小孔(空咖尺寸適合 像疋求二甲素(PhthalQGyanine)之義有機顏料,或者是其它 r員似塗料的&化健。在簡圖上所呈現的加熱體Η的材料是由許 多加熱元件12構成的。待汽化的塗料就可以佈置在這些加執元件 12之間。加熱體U具有—個出汽面13,這個出汽面13在 的選擇是要配合它對面固定於基材依托3〇上基材31的平坦表面。 12 丄 丄 日修正 曰補充 力”.、mi在側面具雜觸面i4,這 經加嶋r^tr個電㈣提供譬如說2安培流 八,2體11具有—個平行六面體的形狀。例如,其高度為1公 八八又為5 A刀’出⑽13跟基材31之間的距離譬如說是5 公分。 於基材31的塗袈處理包含了以下的作業流程:首先,把待 斤化的塗缝填於加熱體11中,在這裡,加鐘η上塗料的裝 填通常在另—個未示於圖上的塗料裝填處所進行,把待汽化的塗 =到加紐11的表面上去,例如制出汽面13上知依小孔 (空腔)的大小而異,這些塗料會下落到加熱體u的内腔裡面去, 這财落的過程可以加熱體u的震動協助進行,固態的塗料有時 可以藉助於液態懸劑而滴落’或是倒入到加熱體u上去,在待汽 化塗料呈液相的情況下’則在塗贼填處馳加熱體n浸泡到液 相的塗料裡去’或者是把液態塗料淋細加熱體11上,使得加熱 體11把塗料吸收進去,另-種可能性是,在隔離11〇1内對加熱 體11進行裝填作業。 然後啟動電源20,當通上電流時,加熱體u本身成為電阻 性的電熱絲,塗料因而被加熱到汽化溫度,溫度的控制可以藉由 如第三圖所示的溫度制器16,或者是,在加熱體U的電阻跟 13 1335940 $1$107修正 補充I1 、四 ____補充I1 已知的情況下’藉由電阻的量測,或是進一步使 了我們餘、 塗料的直接加溫則提供 頭6^ /说作業取直接而且最輕鬆自如的掌控,在加執體裡 用頭的、塗:受熱而逐件轉變為汽相,經過多次的附著跟分離的體:里 流合^塗觀會向外以箭頭方向推進到出汽面13。在這裡,氣 大;在摄步把以塗料帶向基材3卜舉例而言,溫度調節的範圍 大为在攝氏50度到600度之間,甚或更高。 浐,^於第—圖所示的出汽面13在幾何上是一個長方形的面 =仙樣的原則τ也可以改為線_縫式的出汽面㈡。同 ’’單點式的岐面13也—樣容易據以實施。 f圖及第一圖’一樣呈現的是一個塗裝設備刚,不同的 夕方就在於第二圖擁有多數個加熱體11· 1、11. 2及11 3,這些 =加熱體n.1、^.2及W恤繼當中,、軸 ^控制的開關22 ’逐-單獨地被開啟,例如,循序地開啟。這 體^轉模式所具有的優點是,可以事先一次在這些多數的加熱 _ · 2及3上裝填大量的塗料’這些分開填裝於多數 加熱體H· i、1L 2及u. 3的塗料則可以在運轉中逐一地隨著開 關22的制御而釋放出來。而當在最上層的加熱體〖I. 1上的原料 7告馨’這—個加熱體n.1就成為以下汽化過程中把原料流束 導向機材的導向機構15。 14 1335940 TV!修司 红圖則是根據本發明衍生有凹狀表面的待 塗裝物件的示賴,補示例子上,紐31是呈中空的球狀,它 =面32正待均勻塗層,這個時候,中空球面的内腔構成了隔離 至1 ’其内可能已抽成真空或是填充了某種純氣。
、、加熱裝置10的加熱體U是由一種多孔的、起泡的、而且可 以導電的喊㈣構成,像是碳切這軸對於待汽化塗料具有 惰性的材料,加熱體11的出汽面13是-個具有半球形的凸狀表 面’或是-個半球跟—根圓柱-域成的凸狀表面。 這個加熱體11的下半部是兩個相互電氣絕緣的接觸面14, 這兩個接觸面14提供了加熱體n的電流供應,且同時作為位於 中工球面巾央的加熱體11的機械支撑,這裡另外還安裝了 一個溫 度感測器16,這個溫度感測器16是用來監控、調節加熱體u在 正個π化作業當中的溫度’接觸面是經過—組開關(未呈現於 ^ 圖示)跟電源20連接的。 、 汽化的過程與以上描述的步驟類似,在加熱體Π裝填好塗料 之後,電阻熱效應以及溫度的調控使得汽態塗料多方位同時由出 汽面13依箭頭方向流向基材31的内面32,加熱體n的内在結 構確保原料可以均勻地向四面八方流動。如果在中空球面内調整 適當比例的鈍氣壓力的話,可以藉由氣體對汽態原料的散亂作用 提高最後形成於球體内面32塗層的均勻度。 15 I 98.12. 17 ^ ' —第四圖表示了根據本發明所有間接加熱元件 的貫施型態。如圖所示’該加熱健1Q與其加熱體11安裝於塗 裝設·的隔離室101中,加熱體11跟由螺旋狀燈絲41纏达 起來的熱源40之間有只钱力學上的接觸。這些燈絲可經由導: 21以電源20驅動而發熱’在隔離室1(U中也有-用來支撐基材 31的,材依托30 ’在這個圖示上有別於上述幾種根據本發明所衍 生的實施_是,物咖姻u的是無,這賴流現在負 責調控在加熱體11中的塗料所带M> 、 T 騎力的汽化溫度,汽化—域述步驟 進行。 以上無論是在本文描述上、姻料以及t請專纖圍中所 揭不的各項本發_概,都可能翔地,歧制地對本發明 具體實施時的各種型態產生重大影塑。 綜上所述,本發明結構設計及方法合理,應已充分符合新賴 性及進步性之蚊發明翻縣,纽法提㈣請,騎貴局核 准本件發明專利申請案,以勵發明,至感德便。 【圖式簡單說明】 " 2-圖係為本發明所衍生的塗奴備之第—實施例剖面圖。 =二圖係為本發明所衍生的塗裝設備之第二實施例剖面圖。 第三圖係為本發明所衍生的塗裝設備使用於具有凹狀表面的 待塗裝物件之示意圖。 f四圖係為根據本發明所衍生的另_種具有間接加熱元件的 實施型態。 1335940 【主要元件符號說明】 10加熱裝置 100塗裝設備 101隔離室 11加熱體
11.1加熱體 11.2加熱體 11.3加熱體 12加熱元件 13出汽面 14接觸面 15導向機構 16溫度感測器 20 電源 21導線 30基材依托 31 基材 31内面 40熱源 41螺旋狀燈絲

Claims (1)

  1. 99年07月16日修正替換頁 十、申請專利範圍: ----- 1.種加熱名置,係設置於一塗裝設備,用以將一塗料轉變為汽 態,包括有: 至少-加熱體,該加無内部具有複數個空腔,㈣填裝該塗料; 以及 複數個加熱TL件’該些加熱元件係分散佈置於該些空腔表面 上’其巾,_加熱元件_由導熱或將雜直接觀成熱能而 發熱。 2_如申請專利範圍第丄項之加熱裝置,其中該些加熱元件是由該 加熱體的内壁構成。 / 3. 如申請專利範圍第】項之加熱裂置,其中,當該些加熱元件係 藉由導熱*雜時’該些加熱元件具有至少每公尺克耳文2瓦特 (2 W/m K)的導熱能力。 4. 如申請專利範圍第!項之加熱震置,其中,當該些加熱元件係 藉由導熱而發熱時,該些加熱元件與至少一個熱源連接。 5. 如申請專利範圍第1項之加熱裝置,其中,該加熱體具有至少 一種内部結構,這個内部結構選自於以下所列結構:空孔結構 (Porenstrukturen),薄片結構(Lamellenstrukturen),蜂巢結 構(Wabenstrukturen) ’ 起泡結構(Schaumstrukturen),以及纖 維結構(Faserstrukturen)。 18 1335940 99年21曰替換耳 物瓣丨心嶋,料,^ ' 或陶紐料’或是金屬軸纽姆料所構成。 .7.如申請專利範圍第1項之加熱裝置,其中,該加熱體為複數個, 於該些加熱體之空腔的表面上分散佈置有該等加熱元件。 8·如申請專利範圍第7項之加練置,其中至少一個加熱體的加 熱70件係與其它加熱體的加熱元件係分開驅動。 h·如申請專利細第丨項之加錄置,更具有一導向麟,用以 導向已汽化塗料的放射特性。 10.如申請專利範圍第9項之加熱裝置,更具有一出汽面,該出汽 面係位於該加熱體空腔或該導向機構之出口處。 η·如申請專利範圍第i項之加熱裝置,該等空腔在至少一個方向 上彼此具有在1毫米到5公分之間的間隔。 1 12.如中請專利範圍第1至1G項中任-項之加熱裝置 ,該等空腔 在至>、個方向上彼此具有在i微米到j毫米之間的間隔。 13.-種塗奴備,其具有如巾請專利細項目第丨至12項中任 一項的加熱裝置。 .14.如申明專利範圍帛13項所述之塗裝設備,更具有一基材依 托°亥基材依托係沿著一預定基準面,用來定位一待塗裝基材。 15.—種用於一塗裝設備上使塗料轉變為汽相的方法,包含以下步 19 99年10月21日替換頁 驟: 在如申《月專利範圍第1至12項中任一項所述加熱聚置的該加 熱體之上填裝塗料;以及 對该加熱體之該些加熱元件作開關的動作。 =·如申請專概㈣15項之麟—塗裝設備上使塗料轉變為 汽相的方法,其巾,當該些加熱元件簡由導熱而發熱時,多數 的加熱元件每_具有至少每公尺克耳文2瓦特(2 導熱能力。 ”的 17.如申請專娜圍第15項之祕—錄設備上使塗料轉變為 相的方法,其巾該些加熱元件__作依預定運轉計劃進行。 W·如申請專利範圍第17項之用於一 〈用於塗裝設備上使塗料轉變為 相的方法,其中,當該加埶俨 …、紅為稷數個時,不同加熱體的該些 加熱元件單獨地先後依序開關。 19. 一種塗裝設備’用以將—塗料轉變為汽態,包括有: 一隔離室,其中設有: 及 至^加熱浴,其内部具有複數個空腔, 用以填裝該塗料; 複數個加熱元件,係分散你 布置於5亥隔_室中而不與該加熱體 作直接接觸且環繞設置於該加埶 〃 3肢之周圍,猎此,該等加熱元件 卯年10月21日替揍頁 ’係以熱對流的方式而提供該加熱體所需之熱源。 20.如申切專利範圍第19項的塗裝設備,其巾,該些加熱元件具 .有至少每公尺克耳文2瓦特(2 w/m K)的導熱能力。 • 21·如申請專利範圍笫19項的塗裝設備,其t,該些加熱元件與 至少一個熱源連接。 _ 22.如申請專利範圍帛19項的塗裝設備,其中,該加熱體具有至 少-種内部結構’這個内部結構選自於以下所列結構:空孔結構 (Porenstrukturen),薄片結構(Lameiienstrukturen),蜂巢 結構(Wabenstrukturen),起泡結構(Schaumstrukturen),以 及纖維結構(Faserstrukturen)。 23·如申請專利範圍第19項的塗裝設備,其中,該加熱體由一種 金屬,或陶兗材料,或是金屬跟陶瓷混合材料所構成。 ♦ 24. 士口申請專利範園第23項的塗裝設備,其中,該加熱體為複數 .個犄,其中之一加熱體的加熱元件與其它加熱體的加熱元件係分 開驅動。 25.如申請專利範圍第19項的塗裝設備,更具有一導向機構,用 以導向已汽化塗料的放射特性。 26.如申請專利範圍第25項的塗裝設備,更具有一出汽面,該出 汽面係位於該加熱體空腔或該導向機構之出口處。 1335940 _ 99年10月21日替換頁 ^ 27.如申請專利範圍第19項的塗裝設備,該等空腔在至少一個方 •- 向上彼此具有在1毫米到5公分之間的間隔。 • 28.如申請專利範圍第19至27項中任一項的塗裝設備,該等空 ' 腔在至少一個方向上彼此具有在1微米到1毫米之間的間隔。
    22 1335940
    ------ — y修正 曰補充 年月 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第(一)圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 10加熱裝置 100塗裝設備 101隔離室 11加熱體 12加熱元件 13出汽面 14接觸面 20 電源 21導線 30基材依托 31 基材 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式:
TW095110207A 2005-03-24 2006-03-24 Heizeinrichtung, beschichtungsanlage und verfahren zur verdampfung oder sublimation von beschichtungsmaterialien TWI335940B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005013875A DE102005013875A1 (de) 2005-03-24 2005-03-24 Heizeinrichtung, Beschichtungsanlage und Verfahren zur Verdampfung oder Sublimation von Beschichtungsmaterialien

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200639264A TW200639264A (en) 2006-11-16
TWI335940B true TWI335940B (en) 2011-01-11

Family

ID=36869945

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW095110207A TWI335940B (en) 2005-03-24 2006-03-24 Heizeinrichtung, beschichtungsanlage und verfahren zur verdampfung oder sublimation von beschichtungsmaterialien

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8082877B2 (zh)
EP (1) EP1874976B1 (zh)
JP (1) JP5362346B2 (zh)
KR (1) KR101256101B1 (zh)
DE (1) DE102005013875A1 (zh)
TW (1) TWI335940B (zh)
WO (1) WO2006100058A2 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI560312B (en) * 2011-06-22 2016-12-01 Aixtron Se Vapor deposition material source and method for making same
TWI583809B (zh) * 2011-06-22 2017-05-21 愛思強歐洲公司 用以沉積oled的方法與裝置

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8027574B2 (en) * 2007-08-06 2011-09-27 Global Oled Technology Llc Vaporization of thermally sensitive materials
DE102008024486B4 (de) * 2008-05-21 2011-12-15 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Plasmastempel, Plasmabehandlungsvorrichtung, Verfahren zur Plasmabehandlung und Herstellungsverfahren für einen Plasmastempel
US8961768B2 (en) 2008-12-29 2015-02-24 Basf Corporation Metal containing integrated electrocoat for better corrosion resistance
DE102009007587B4 (de) 2009-02-05 2011-06-01 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten aus der Dampfphase
WO2011015550A1 (de) 2009-08-03 2011-02-10 Heliatek Gmbh Verdampfer system für organische schichten und bauelemente
EP2473645A1 (de) 2009-09-04 2012-07-11 Von Ardenne Anlagentechnik GmbH Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von substraten aus der dampfphase
DE102010007111B4 (de) 2010-02-05 2012-02-16 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Verfahren und Pulvermischung zur Beschichtung von Substraten aus der Dampfphase
CN103732786B (zh) * 2011-06-22 2016-08-17 艾克斯特朗欧洲公司 气相沉积系统和供给头
EP2723914B1 (en) * 2011-06-22 2018-09-26 Aixtron SE Method and apparatus for vapor deposition
DE102011051261A1 (de) * 2011-06-22 2012-12-27 Aixtron Se Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von OLEDs insbesondere Verdampfungsvorrichtung dazu
DE102011107894A1 (de) 2011-07-18 2013-01-24 Creaphys Gmbh Beschichtungseinrichtung, insbesondere für die Innenbeschichtung von Hohlkörpern, und Beschichtungsverfahren
DE102012107824B3 (de) * 2012-08-24 2014-02-06 Technische Universität Braunschweig Carolo-Wilhelmina Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mit mehreren Materialschichten und Mehrmaterialienabgabeeinrichtung dafür
KR20160123438A (ko) * 2015-04-15 2016-10-26 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 디스플레이 장치용 증착원
US10464364B1 (en) 2016-07-11 2019-11-05 Spectrajet Sublimation transfer paper with coating, and method for making same
DE102016121791A1 (de) 2016-11-14 2018-05-17 Thomas Emde Beschichtungsverfahren, Beschichtungseinrichtung und Bauteil
DE102016121786A1 (de) 2016-11-14 2018-05-17 Thomas Emde Beschichtungsverfahren, Beschichtungseinrichtung und Bauteil
RU179865U1 (ru) * 2017-12-21 2018-05-28 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского" Резистивный испарительный блок для эпитаксиального выращивания в вакууме слоёв кремния, легированных эрбием

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3751310A (en) * 1971-03-25 1973-08-07 Bell Telephone Labor Inc Germanium doped epitaxial films by the molecular beam method
JPS58136773A (ja) * 1982-02-08 1983-08-13 Toshiba Corp 真空蒸着方法及び真空蒸着ソ−ス構体
DD231584A1 (de) 1984-12-21 1986-01-02 Elektronische Bauelemente Veb Widerstandsbeheitztes verdampferschiffchen
DD250552A1 (de) 1986-06-30 1987-10-14 Elektronische Bauelemente Veb Widerstandsgeheizter verdampfer und verfahren zum beschichten von substraten
JPH0752716B2 (ja) * 1990-06-05 1995-06-05 松下電器産業株式会社 熱分解セル
JP2561395B2 (ja) * 1991-02-27 1996-12-04 ホーヤ株式会社 撥水性薄膜を有する光学部材及びその製造方法
GB2263501A (en) 1992-01-16 1993-07-28 Ford Motor Co I.c.engine fuel vaporiser having a porous electric heating element.
EP0561016A1 (en) * 1992-03-17 1993-09-22 Tetsusaburo Taira Multilayer coating by vacuum vapor deposition
JP3728462B2 (ja) * 1993-03-29 2005-12-21 キャノンオプトロン株式会社 表面処理方法及びそれに用いられる蒸着材料
JP3738869B2 (ja) * 1997-06-05 2006-01-25 松下電器産業株式会社 蒸着方法および蒸着装置
AT2793U1 (de) 1998-11-26 1999-04-26 Plansee Ag Verdampfungseinrichtung
EP1132493A3 (en) 2000-03-09 2001-09-19 Junji Kido Vapor deposition method of organic compound and refinement method of organic compound
ATE497028T1 (de) 2000-06-22 2011-02-15 Panasonic Elec Works Co Ltd Vorrichtung und verfahren zum vakuum-ausdampfen
TWI252706B (en) * 2002-09-05 2006-04-01 Sanyo Electric Co Manufacturing method of organic electroluminescent display device
JP4139186B2 (ja) 2002-10-21 2008-08-27 東北パイオニア株式会社 真空蒸着装置
JP2005032464A (ja) * 2003-07-08 2005-02-03 Tohoku Pioneer Corp 成膜装置、成膜方法、有機el素子及び有機elの製造方法
JP2005320572A (ja) * 2004-05-07 2005-11-17 Canon Inc 有機化合物蒸着装置および有機化合物蒸着方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI560312B (en) * 2011-06-22 2016-12-01 Aixtron Se Vapor deposition material source and method for making same
TWI583809B (zh) * 2011-06-22 2017-05-21 愛思強歐洲公司 用以沉積oled的方法與裝置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008534775A (ja) 2008-08-28
KR20080006562A (ko) 2008-01-16
DE102005013875A1 (de) 2006-11-02
WO2006100058A3 (de) 2006-12-07
EP1874976A2 (de) 2008-01-09
JP5362346B2 (ja) 2013-12-11
EP1874976B1 (de) 2013-03-13
KR101256101B1 (ko) 2013-04-23
WO2006100058A2 (de) 2006-09-28
US8082877B2 (en) 2011-12-27
US20080193644A1 (en) 2008-08-14
TW200639264A (en) 2006-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI335940B (en) Heizeinrichtung, beschichtungsanlage und verfahren zur verdampfung oder sublimation von beschichtungsmaterialien
US10612770B2 (en) Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids
US20230086810A1 (en) Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids
US20170106113A1 (en) Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids
US20220203258A1 (en) Microfluidic-based apparatus and method for vaporization of liquids
CN106255238A (zh) 一种石墨烯电热材料及其应用
KR20170091660A (ko) 용사된 레지스티브 히터 및 이의 용도
JP6606547B2 (ja) 複数の液体または固体の原材料からcvdまたはpvd装置のために蒸気を生成する蒸気発生装置および蒸気発生方法
TW200847314A (en) Processing system and method for performing high throughput non-plasma processing
WO2022033376A1 (zh) 雾化芯、电子雾化组件及电子雾化装置
TWI379914B (en) Vacuum evaporator and the method of controlling temperature
CN101543810B (zh) 一种燃料电池涂布装置及涂布方法
KR20120119072A (ko) 온도 자가조절형 면상발열체를 적용한 전기레인지 및 그 제조방법
JP2019529712A (ja) 炭素層を適用するための装置および方法
KR20120119074A (ko) 온도 자가조절형 면상발열체를 적용한 스팀발생기용 히터 및 그 제조방법
JP2004134741A5 (zh)
JP5408209B2 (ja) 触媒製造方法、当該方法により製造される燃料電池用電極触媒、及び、触媒製造装置
JP2620714B2 (ja) 触媒反応の制御方法
Choi et al. Investigation of Ag-Doping in Kinetically Sprayed SnO 2 Composite Film and Its Application to Gas Sensor
JPH0753561B2 (ja) 水素吸蔵合金を用いた成形体の動作方法
TWI582252B (zh) 真空蒸鍍方法
CN103540913A (zh) 应用于气相沉积的反应器
CN218219101U (zh) 一种加热器及烟具
CN209854237U (zh) 一种新型的点式蒸发源
CN112095339B (zh) 一种自支撑g-C3N4/CDots纳米纤维薄膜制备工艺

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees