JP2008523013A - プロパンからプロペンを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、以下の工程
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンをプロペンへの非酸化触媒のオートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、C4 +炭化水素、一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少ガス流cを得る工程、
D)ガス洗浄により二酸化炭素を除去し、二酸化炭素減少生成ガス流dを得る工程、
E)生成物ガス流dを冷却し、及びプロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、及びC4 +炭化水素を含む液体炭化水素流e1を凝縮により除去し、メタン、水素及び一酸化炭素を含む残留ガス流e2を得る工程、
F)液体炭化水素流e1を第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留によりプロパン、プロペン、及びC4 +炭化水素を含む流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れf1を第2の蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンを含む生成物ガス流g1及びプロパンとC4 +炭化水素を含む流れg2とに分離する工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法に関する。
【選択図】なし
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンをプロペンへの非酸化触媒のオートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、C4 +炭化水素、一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少ガス流cを得る工程、
D)ガス洗浄により二酸化炭素を除去し、二酸化炭素減少生成ガス流dを得る工程、
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を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法に関する。
【選択図】なし
Description
本発明は、プロパンからプロペンを製造する方法に関する。
プロパンを脱水素することにより、プロペンが工業的規模で得られる。
UOP−オレフレックス法として知られているプロパンを脱水素してプロペンにするための方法では、プロパンを含む供給ガス流は600〜700℃に予熱され、そして、移動床脱水素反応器内でアルミナにプラチナを含む触媒を使用して脱水素され、主にプロパン、プロペン、及び水素を含む生成物ガス流を得る。更に、熱分解(クラッキング)により形成される低沸点炭化水素(メタン、エタン、エテン)及び少量の高沸点物(C4 +炭化水素)が生成物ガス流内に存在する。生成物ガス混合物は複数工程で冷却及び圧縮(加圧)される。次に、いわゆる「コールドボックス」内での凝縮により、C2及びC3炭化水素及び高沸点物が、脱水素で形成された水素とメタンから除去される。次に、液体炭化水素凝縮物が、蒸留により分離されるが、該分離では、第1のカラムにおいて、C2炭化水素が除去されてメタンが残留し、第2の蒸留カラム内では、C3炭化水素流が、高純度のプロペン部分とプロパン部分(プロパン部分は、C4 +炭化水素も含む)とに分離される。
この方法の不利な点は、コールドボックス内での凝縮によりC3炭化水素が損失することである。脱水素で形成された大量の水素のため、及び相平衡の結果として、非常に低い温度での凝縮が行われなければ、水素/メタンオフガス流と共に、比較的大量のC3炭化水素も排出される。従って、水素/メタンオフガス流と共に排出されるC3炭化水素の損失を限定するために、−20℃〜−120℃の温度で処理(work)する必要がある。
本発明の目的は、プロパンをプロペンに脱水素するための改良された方法を提供することにある。
この目的は、以下の工程
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素性ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンを、プロペンへの非酸化触媒オートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、C4 +炭化水素、一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少生成物ガス流cを得る工程、
D)ガス洗浄により二酸化炭素を除去し、二酸化炭素減少生成物ガス流dを得る工程、
E)生成物ガス流dを冷却し、及びプロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、及びC4 +炭化水素を含む液体炭化水素流e1を凝縮により除去し、メタン、水素及び一酸化炭素を含む残留ガス流e2を残す工程、
F)液体炭化水素流e1を第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロパン、プロペン、及びC4 +炭化水素を含む流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れf1を第2の蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンを含む生成物ガス流g1及びプロパンとC4 +炭化水素を含む流れg2とに分離する工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法によって達成される。
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素性ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンを、プロペンへの非酸化触媒オートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、C4 +炭化水素、一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少生成物ガス流cを得る工程、
D)ガス洗浄により二酸化炭素を除去し、二酸化炭素減少生成物ガス流dを得る工程、
E)生成物ガス流dを冷却し、及びプロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、及びC4 +炭化水素を含む液体炭化水素流e1を凝縮により除去し、メタン、水素及び一酸化炭素を含む残留ガス流e2を残す工程、
F)液体炭化水素流e1を第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロパン、プロペン、及びC4 +炭化水素を含む流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れf1を第2の蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンを含む生成物ガス流g1及びプロパンとC4 +炭化水素を含む流れg2とに分離する工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法によって達成される。
最初の工程部分Aで、プロパンを含む供給ガス流aが供給される。これは通常、少なくとも80体積%のプロパン、好ましくは少なくとも90体積%のプロパンを含む。更に、プロパン含有供給ガス流Aは、通常、ブタン(n−ブタン、イソブタン)も含む。プロパン含有供給ガス流の一般的な組成は、DE−A10246119及びDE−A10245585に開示されている。一般的には、プロパンを含む供給ガス流aは、液体石油ガス(LPG)から得られる。
工程Bでは、プロパンを含む供給ガス流が脱水素領域に供給され、そして、非酸化触媒脱水素に付せられる。この工程部分では、脱水素反応器内で、脱水素活性触媒を使用して、プロパンが部分的に脱水素され、プロペンを得る。更に、水素、及び少量のメタン、エタン、エテン、及びC4 +炭化水素(n−ブテン、イソブタン、ブテン、ブタジエン)が得られる。非酸化触媒を使用したオートサーマルプロパン脱水素の生成物ガス混合物内で、酸化炭素(CO、CO2)、特にCO2、水、及び不活性ガスも少量得られる。不活性気体(窒素)は、純酸素が供給されない場合には、オートサーマル脱水素に使用される酸素流と共に導入される。更に、変換されていないプロパンが生成物ガス混合物中に存在する。
非酸化触媒によるプロパン脱水素は、自動的に行われる。この目的のために、少なくとも1箇所の反応領域において、酸素が追加的にプロパン脱水素の反応ガスと混合され、そして、反応ガス混合物中に存在する水素及び/又は炭化水素が、少なくとも部分的に燃焼され、反応ガス混合物中で、少なくとも1箇所の反応領域における脱水素に必要とされる熱を、少なくとも部分的に発生させる。
酸化法と比較した場合の非酸化法(nonoxidative method)の特徴のひとつは、水素が少なくとも中間的に形成されることである。酸化脱水素では、遊離した水素は、実質的な量で形成されることがない。
非酸化触媒のプロパン脱水素は、原則として、従来から公知である何れのタイプの反応器で行っても良い。本発明に従う適切な反応器のタイプの比較的わかりやすい記載には、“Catalytica(登録商標)Studies Division, Oxidation Dehydrogenation and Alternative Dehydrogenation Process”(Study Number 4192 OD,1993,430 Ferguson Drive, Mountain View, California, 94943−5272, USA)が含まれる。
固定床管、又は管束反応器が適切な反応器の形態である。これら反応器内で、触媒(脱水素触媒、及び所望により特定の酸化触媒)が、反応管又は反応管の束の中に固定床として配置される。通常の反応管の内径は、約10〜15cmである。一般敵な脱水素管束反応器は、約300〜1000本の反応管を含んでいる。反応管の内部温度は、一般的には、300〜1200℃の範囲、好ましくは500〜1000℃の範囲で変動する。Phillips Petroleum Coのプロパン又はブタンの脱水素のために、稼動圧力は、通常、0.5〜8バール、少量の蒸気希釈が行われた場合には、しばしば1〜2バール、又、大量の蒸気希釈が行われた場合には、3〜8バール(蒸気活性改良法(STAR法)又はLinde法に対応)である。ガスの一般的な時間単位空間速度(GHSV)は、使用した炭化水素に対して、500〜2000h-1である。触媒のジオメトリー(幾何)は、例えば、球状、又はシリンダー状(中空又は中空でないもの)である。
非酸化触媒によるオートサーマルプロパン脱水素を、Snamprogetti/Yarsintez−FBD法に従い、流動床内の混生(heterogeneous)触媒の存在下に行っても良い。2個の流動床が適切な方法で並行に操作され、この場合、2個の流動床の内の1個は通常、再生の状態になっている。稼動圧力は、一般的には、1〜2バールであり、脱水素温度は、通常、550〜600℃である。脱水素に必要とされる熱は、脱水素触媒を反応温度にまで予熱することにより反応システム内に導入することができる。酸素を含む共供給物(cofeed)を混合することにより、予熱器を省略することが可能となり、そして必要とされる熱が、水素及び/又は炭化水素を酸素の存在下に燃焼させることによって反応器内で直接的に生成可能となる。適切な場合には、水素を含む共供給物が追加的に混合されて良い。
非酸化触媒を使用したオートサーマルプロパン脱水素は、トレー反応器内で行われることが好ましい。この反応器は、1種以上の連続する触媒床を含んでいる。触媒床の数は、1〜20個、有利なことには、1〜6個、好ましくは1〜4個、及び特に1〜3個である。触媒床では、反応ガスが放射状又は軸方向に流れることが好ましい。通常、このようなトレー反応器は、固定触媒床を使用して操作される。最も単純な場合、固定床ベッドは、シャフト炉反応器内に軸方向に配置され、又は同心のシリンダー状格子の環状間隙内に配置される。シャフト炉反応器は、1個のトレーに相当する。単一のシャフト炉反応器内での脱水素の実施は、1実施の形態に相当する。別の好ましい実施の形態では、3個の触媒床を有するトレー反応器内で脱水素が行われる。
通常、反応ガス混合物中に加えられる酸素ガスの量は、以下のように選択される。すなわち、酸素ガスの量は、プロパンの脱水素のために必要とされる熱量が、反応ガス混合物中に存在する水素と(反応ガス混合物中に存在する)炭化水素、及び/又は(コークスの状態で存在する)炭素の燃焼によって生成されるように決定される。通常、供給される酸素の合計量は、プロパンの合計量に対して、0.001〜0.5モル/モル、好ましくは0.005〜0.25モル/モル、より好ましくは0.05〜0.25モル/モルである。酸素は、純酸素の状態、又は不活性ガスを含む酸素性ガスの状態の何れの状態ででも使用して良い。処理において、プロパン及びプロペンが大量に失われることを防止するために(以下参照、乞う)、しかしながら、使用する酸素性ガスの酸素含有量を高くする必要があり、そして、酸素含有量は、少なくとも50体積%、好ましくは少なくとも80体積%、より好ましくは少なくとも90体積%である。特に好ましい酸素性ガスは、O2含有量が約99体積%の、工業規格(technical-grade)純度の酸素である。
燃焼して熱を発生させる水素は、触媒によるプロパン脱水素で形成された水素であり、及び水素性ガスとして反応ガス混合物に追加的に加えられた水素でもある。存在する水素の量は、酸素を供給した直後の反応ガス混合物中のモルH2/O2割合が、1〜10モル/モル、好ましくは2〜5モル/モルである量が好ましい。このことは、多段階反応器においては、酸素と水素性ガスの全ての中間供給物にあてはまる。
水素は、触媒を使用して燃焼される。使用する脱水素触媒は、通常、炭化水素及び水素と酸素との燃焼にも触媒作用を及ぼし、従って、原則として、脱水素触媒とは別に特定の酸化触媒が必要とされることがない。ある実施の形態では、炭化水素の存在下での水素の酸素との燃焼に選択的に触媒作用を及ぼす1個以上の酸化触媒を使用して操作(運転)が行われる。従って、これら炭化水素の酸素との(CO、CO2及び水を与える)燃焼は、小さな範囲でのみ進行する。脱水素触媒及び酸化触媒は、異なる反応領域で存在することが好ましい。
反応が1工程(段階)以上で行われる場合、酸化触媒は、異なる反応領域の1箇所、2箇所以上、又は全ての箇所に存在して良い。
水素の酸化に選択的に触媒作用を及ぼす触媒を、反応器内の他の箇所よりも酸素分圧が高い箇所、特に酸素性ガスの供給箇所付近に配置することが好ましい。酸素性ガス(oxygenous gas)及び/又は水素性ガスは、反応器内の1箇所以上で供給されて良い。
本発明に従う1実施の形態では、各トレー反応器の上流に、酸素性ガスと水素性ガスの中間供給が存在する。本発明に従う方法の他の実施の形では、第1のトレー以外の各トレーの上流に酸素性ガスと水素性ガスが供給される。ある実施の形態では、特定の酸化触媒の層が全ての供給箇所の下流に存在し、脱水素触媒が続く。別の実施の形態では、特定の酸化触媒が存在することはない。脱水素温度は、通常、400〜1100℃であり、トレー反応器の最後の触媒床内の圧力は、通常、0.2〜5バール、好ましくは1〜3バールである。GHSVは、通常500〜2000h-1であり、そして高負荷操作では、100000h-1以下、好ましくは4000〜16000h-1である。
水素の燃焼に選択的に触媒作用を及ぼす好ましい触媒は、ゲルマニウム、錫、鉛、砒化物、アンチモン、ビスマスの酸化物及び/又はホスフェートからなる群から選ばれる酸化物及び/又はホスフェートである。水素の燃焼に触媒作用を及ぼす他の好ましい触媒は、元素周期表の遷移族VIII及び/又はIの貴金属を含む。
使用される脱水素触媒は、通常、担体及び活性合成物(active composition)を含む。担体は、通常、耐熱性酸化物又は混合酸化物から構成される。脱水素触媒は、二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ランタン、酸化セリウム及びこれらの混合物からなる群から選ばれる酸化金属を担持として含むことが好ましい。この混合物は、物理的な混合物の他、マグネシウムアルニミウムオキシド、又は亜鉛アルミニウムオキシド混合酸化物等の化学的混合相で良い。好ましい担体は、二酸化ジルコニウム及び/又は二酸化珪素であり、そして二酸化ジルコニウムと二酸化珪素の混合物が特に好ましい。
脱水素触媒の活性合成物は、通常、元素周期表の遷移族VIIIの元素を1種以上含み、好ましくはプラチナ及び/又はパラジウム、より好ましくはプラチナを含む。更に、脱水素触媒は、元素周期表の主族I及び/又はIIの元素を1種以上含み、好ましくはカリウム及び/又はセシウムを含んで良い。脱水素触媒は、更に、ランタニド及びアクチニド、好ましくはランタン及び/又はセリウムを含む、元素周期表の遷移族IIIの1種以上の元素を含んで良い。最後に、脱水素触媒は、元素周期表の主族III及び/又はIVの元素を1種以上含んで良く、好ましくはホウ素、ガリウム、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛、より好ましくは錫からなる群から選ばれる1種以上の元素を含んで良い。
好ましい実施の形態では、脱水素触媒は、遷移族VIIIの元素を1種以上、主族I及び/又はIIの元素を1種以上、主族III及び/又はIVの元素を1種以上、及びランタニド及びアクチニドを含む遷移族IIIの元素を1種以上含む。
例えば、WO99/46039、US4788371、EP−A705136、WO99/29420、US5220091、US5430220、US5877369、EP0117146、DE−A19937106、DE−A19937105及びDE−A19937107により開示された全ての脱水素触媒は、本発明に従い使用されて良い。オートサーマルプロパン脱水素の上述した変形例のために特に好ましい触媒は、DE−A19937107の実施例1、2、3及び4に従う触媒である。
蒸気の存在下に、オートサーマルプロパン脱水素を行なうことが好ましい。加えられた蒸気は、熱伝達媒体として作用し、そして、触媒上への有機物沈殿物のガス化を補助し、このことは、触媒の炭化(炭素付着化)を防ぎ、触媒の運転時間(onstream time)を増加させる。蒸気は、有機沈殿物を一酸化炭素、二酸化炭素及びある場合には水に変換する。
脱水素触媒は、それ自体は公知の方法で再生されて良い。例えば、反応ガス混合物に蒸気を加えて良く、又酸素を含むガスを、温度を上昇させて触媒床上に時々通し、そして沈殿した炭素を燃焼しても良い。蒸気での希釈は、平衡を脱水素の生成物側へとシフトさせる。再生の後、所望により触媒は水素ガスで還元される。
オートサーマルプロパン脱水素では、通常、以下の組成を有するガス混合物が得られる、すなわち、10〜45体積%のプロパン、5〜40体積%のプロペン、0〜5体積%のメタン、エタン、エテン及びC4 +炭化水素、0〜5体積%の二酸化炭素、0〜20体積%の蒸気、及び0〜25体積%の水素、及びまた0〜5体積%の不活性ガスである。
ガス混合物が脱水素領域を出ると、生成物ガス流bは、通常1〜5バール、好ましくは1.5〜3バールの圧力下にあり、そして400〜700℃の範囲の温度を有している。
生成物ガス流bを2つのサブストリームに分離し、一方のスブストリームをオートサーマル脱水素に再循環させて良い(DE−A10211275及びDE−A10028582に記載された循環ガス法に対応する)。
工程Cでは、生成物ガス流bから水が最初に除去される。水の除去は、生成物ガス流bを凝縮、冷却、及び所望により圧縮することにより行って良く、そして、1工程以上の冷却、及び所望により圧縮工程で行って良い。通常、生成物ガス流bは、この目的のために、30〜80℃の範囲、好ましくは40〜65℃の範囲の温度に冷却される。更に、生成物ガス流は、圧縮、例えば5〜25バールの圧力に圧縮して良い。
本発明に従う方法のある実施の形態では、生成物ガス流bは、熱交換器のカスケードに通され、そして最初に50〜200℃の範囲の温度に冷却され、そして次に、水を使用して冷却塔で、40〜80℃の温度、例えば55℃に更に冷却される。これは、蒸気の大半を凝縮するが、しかし、生成物ガス流b中に存在するC4 +炭化水素、特にC5 +炭化水素の一部も凝縮する。
蒸気量が低減した生成物ガス流cが得られる。これは、通常、0〜5体積%の蒸気をなお含んでいる。ガス流cから水を実質的に完全に除去するために、分子ふるいを使用した乾燥を行って良い。
工程D)では、ガス洗浄により生成物ガス流cから二酸化炭素が除去され、二酸化炭素減少生成物ガス流dが得られる。二酸化炭素ガス洗浄を行なう前に、分離した燃焼工程で、一酸化炭素を選択的に二酸化炭素に酸化させても良い。
CO2除去のために、通常使用する洗浄液は、ナトリウムヒドロキシド溶液、カリウムヒドロキシド溶液、又はアルカノールアミン溶液であり、活性化N−メチルジエタノールアミン溶液を使用することが好ましい。通常、ガス洗浄を行なう前に、生成物ガス流cが、1工程以上での圧縮(加圧)により5〜25バールの範囲の圧力に加圧される。
CO2含有量が、通常<100ppm、好ましくは<10ppmの二酸化炭素減少生成物ガス流が得られる。
工程Eでは、生成物ガス流dが冷却され、及びプロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、及びC4 +炭化水素を含む液体炭化水素流e1が凝縮により除去され、メタン、水素及び一酸化炭素を含む残留ガス流e2が残る。この目的のために、生成物ガス流dは、5〜25バールの範囲の圧力に圧縮され、そして、−10〜−120℃の温度に冷却される。この圧縮は複数の工程(段階)、例えば2又は3工程で行って良く、複数の工程、例えば3工程で行うことが好ましい。本発明に従う1実施の形態では、洗浄工程C)を行なう前に、生成物ガス流cの1工程又は2工程での圧縮(該圧縮で5〜12バールの圧力範囲になる)が行われ、次に生成物ガス流dの1工程又は2工程での圧縮(該圧縮で10〜25バールの圧力範囲になる)が行われる。冷却も複数の工程(段階)で行なって良く、複数の工程で行なうことが好ましい。適切な冷却剤は、エテン、プロペン及びプロパンであり、冷却剤は、最大20バールに加圧した後減圧することにより−40℃〜−100℃の範囲の温度に冷却される。
通常、生成物ガス流は「コールドボックス」内で冷却剤を使用した熱交換により冷却される。冷却は、複数の冷却循環(サーキット)を使用した複数の工程で行なって良い。冷却は、1体(基)のカラム内で複数の工程で行なって良く、この場合、カラム内を上昇するガスは取り出され、冷却され、(部分的に)凝縮され、そしてカラムに再循環される。凝縮物がカラムの底部から取り出され、凝縮されていないガスがカラムの頂部から取り出されるが、これは最上部の冷却循環でも凝縮されていない。
生成された水素の同時燃焼下でのオートサーマル脱水素として脱水素B)を行なった結果として、生成物ガス流dでは水素含有量が少なくなり、そして、分離工程E)で、C3炭化水素がほとんど凝縮除去され、そして、水素/メタンオフガス流と共に排出されるC3炭化水素は非常に少ない(小部分である)。
液体炭化水素凝縮物e1が得られ、該液体炭化水素凝縮物e1は、通常、20〜60モル%のプロパン、20〜60モル%のプロペン、0〜5モル%のメタン、0〜5モル%のエタン及びエテン、及び0〜5モル%のC4 +炭化水素を含んでいる。
工程E)を行なう前に乾燥工程が行われ、該乾燥工程では、分子ふるいに通す(通過させる)ことにより生成物ガス流dが乾燥される。適切な分子ふるいは、この技術分野の当業者にとって公知のものである。通常、乾燥工程は凝縮工程E)の直前の最後の圧縮工程の後に行われる。乾燥されるべき生成物ガス流dの温度は、通常0〜50℃、好ましくは10〜30℃である。
乾燥工程を行なった後、ガス流dの水分含有量は<500ppm、好ましくは<100ppmである。
工程Fでは、液体炭化水素流e1が、第1の蒸留領域に供給され、そして蒸留により、C3炭化水素のプロパン、プロペン、及びC4 +炭化水素を含む流れf1と、C2炭化水素のエタンとエテンを含む流れf2とに分離される。この目的のために、通常、炭化水素流e1が(一般的に20〜60段の理論段、例えば約30段の理論段を有する)C2/C3分離カラムに供給される。このカラムは、通常、12〜30バール、例えば約25バールで操作(運転)される。底部温度は通常40〜100℃、例えば約60℃であり、頂部温度は−10〜10℃、例えば約10℃である。
プロパン、プロペン及びC4 +炭化水素から構成される流れf1が、底部取出流として得られ、該底部取出流は、エタン/エテン合計含有量が、通常、<5000ppm、好ましくは<1000ppm、より好ましくは<500ppmである。
工程Gでは、液体炭化水素流f1が第1の蒸留領域に供給され、そして、蒸留によりプロパンを含むガス流g1と、プロパン及びC4 +炭化水素を含む流れg2とに分離される。この目的のために、炭化水素流f1が、通常、C3分離カラム(「C3スプリッター」)内に供給されるが、該C3分離カラムは、一般的には80〜200段の理論段、例えば約100段の理論段(theoretical plate)を有している。このカラムは、通常、15〜30バールの範囲の圧力、例えば約25バールで操作される。底部温度は、通常40〜100℃、例えば約68℃であり、頂部温度は30〜60℃、例えば約60℃である。
以下に図を参照して本発明を詳細に説明する。
図1は、本発明に従う方法の1実施の形態の概要を示している。
例えば、98体積%までのプロパンと付加的に2体積%のC4 +炭化水素(主としてブタン)を含む新しい状態のプロパン0が、プロパンとプロペンから構成される、C3分離カラム11からの再循環流と一緒にC3/C4分離カラム12に供給され、そして、蒸留により、底部流として得られる、C4 +炭化水素2aで構成される流れ2a、及び頂部取出流として得られる、プロパン含有量が>99体積%の流れ2に分離される。
プロパン流2は、予熱器13内で、例えば生成物ガス流5との熱交換により約450℃の温度に予熱され、そして、そこからこの温度で、脱水素反応器14に入る。脱水素反応器3は、放射流反応器として形成されることが好ましい。蒸気流4a及び酸素流4b(該酸素流4bは、酸素含有量が約99体積%の工業規格純度の酸素で構成される)が、追加的にこの反応器に供給される。生成物ガス混合物5は、約600℃の温度で反応器を離れ、及びプロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、C4炭化水素、二酸化炭素、蒸気及び水素、及び少量の窒素から構成される。生成物ガス流3は、凝縮カスケード内で約55℃の温度にまで冷却される。凝縮カスケード6内で、蒸気の大半が凝縮除去され、そして液体凝縮物6a1として取り出される。
流れ6は、中間冷却と共に、3工程圧縮で約2バール〜約15バールに圧縮(加圧)される。これにより、蒸気が更に凝縮され、該凝縮された蒸気は、液体凝縮物6a2及び6a3として取り出される。第2圧縮工程及び第3圧縮工程の間で、ガス洗浄を使用して二酸化炭素が除去される。この目的のために、圧縮されたガス流は、洗浄カラム17を通され、そして洗浄液としての活性化N−メチルジエタノールアミンと接触される。デソープション(desorption)カラム内で加熱することにより、接触に使用した洗浄液から二酸化炭素が再除去され、そして洗浄液が再生される。
約15バールまで圧縮され、そして二酸化炭素が除去されたガス流7が、約10℃まで予備冷却され、乾燥工程(乾燥ステージ)18に供給され、ここで分子ふるいにより(残っている)少量の水が除去される。この目的のために、分子ふるいが充填された2台の並行配置された装置が使用されるが、この装置の内1台が、吸収モード(吸収状態)であり、そして、他方が再生モードである。乾燥されたガス流8は、約10℃の温度で「コールドボックス」に入り、「コールドボックス」で、エタン、エテン、プロパン、プロペン、C4 +炭化水素、及び一部メタンが、−40℃で液体炭化水素混合物9として凝縮除去される。これは、ガス流8内に存在するC2炭化水素を小割合、ガス流8内に存在する大半のメタン及びガス流8内に存在する実質的に全ての水素を含むオフガス流9aを離れる。
液体炭化水素混合物9は、C2/C3分離カラム20内で、蒸留により、プロパン、プロペン、及びC4 +炭化水素を含む流れ10とメタン、エタン、及びエテンを含む流れ10aに分離される。流れ10は、C3分離カラム21に供給され、そして、純度が99.5%のプロペンから構成される生成物流11aと、主にプロパン及び追加的にC4 +炭化水素及び少量のプロペン(約1質量%)からなる再循環流11とに分離される。
以下に実施例を用いて本発明を説明する。
実施例
本発明に従う方法の、図に示された数字(variant)は、計算でシミュレートしたものである。以下のプロセスパラメーターが仮定されている。
本発明に従う方法の、図に示された数字(variant)は、計算でシミュレートしたものである。以下のプロセスパラメーターが仮定されている。
実施例1
稼動時間8000hで350kt/aのプラント受容量(43750kg/hのプロペンに相当)が仮定されている。
稼動時間8000hで350kt/aのプラント受容量(43750kg/hのプロペンに相当)が仮定されている。
新しいプロパンは、98質量%のプロパンに加え、2質量%のブタンを含む。40段の理論段を有するC3/C4分離カラム内で、操作圧力10バール、及び還流割合0.41で、ブタン含有量が0.01質量%にまで低減される。
プロパン流は450℃に予熱され、脱水素領域に入れられ、そしてオートサーマル脱水素に付せられる。脱水素の変換は、プロパンに対して50%、プロペン形成の選択性は90%である。更に、5%の熱分解(cracking)生成物及び5%CO2が全体の燃焼で形成される。脱水素領域の排出ガスの水の濃度は9質量%;排出ガスの残留酸素含有量は0質量%;生成物ガス混合物の排出温度は600℃である。
排出ガスは1.8バールで55℃まで冷却され、そして、飽和蒸気圧まで水が凝縮除去される。
次に、生成物ガス混合物が3工程で圧縮される。第1の圧縮工程では、混合物が1.8〜4.5バールに圧縮され、第2の圧縮工程では、4.5〜11バールに圧縮され、そして、第3の圧縮工程では、11バール〜18バールに圧縮される。各圧縮工程(圧縮段階)の下流で、ガス混合物は55℃に冷却される。第2の圧縮工程の後、ガス洗浄によりガス流からCO2が完全に除去される。第3の圧縮工程の後、ガス流から残留水が完全に除去される。
次に、ガス流が18バールで−40℃に冷却される。これにより、C2 -、C3 -、及びC4 +炭化水素が凝縮除去される。
液体炭化水素凝縮物は、30段の理論段を有するC2/C3分離カラム内で、25バール及び0.74の還流割合で分離される。底部温度は62℃、頂部温度は10℃である。底部生成物の残留エタン含有量は0.01質量%である。
底部流出物は、還流割合が30で、25バールで操作される、100段の理論段を有するプロパン/プロペン分離カラムに供給される。底部温度は60℃、頂部温度は68℃である。頂部では、プロペンが99.5質量%の純度で得られる。
比較例1
オートサーマル脱水素の替わりに、アイソサーマル(等温)プロパン脱水素を行った。
オートサーマル脱水素の替わりに、アイソサーマル(等温)プロパン脱水素を行った。
この目的のために、プロパン流が450℃に予熱され、脱水素領域に入れられ、そして、アイソサーマル脱水素に付せられる。導入ガスの水分含有量は、50質量%である。脱水素の変換は、プロパンに対して50%;プロペン生成の選択性は90%である。これに加え、熱分解生成物が8%以下の範囲、及びCO2が2%以下の範囲で形成される。排出ガス温度は600℃である。
表1(実施例)及び表2(比較例)は、図に従うガス流れの量(kg/h)、及び組成(質量部、Σ=1.0)を再現している。表から理解されるように、水素流9aと共に排出されるC3炭化水素(プロパン及びプロペン)は、実施例のものよりも比較例のもののほうが非常に多い。
Claims (8)
- 以下の工程
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素性ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンをプロペンへの非酸化触媒のオートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、C4 +炭化水素、一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少ガス流cを得る工程、
D)ガス洗浄により二酸化炭素を除去し、二酸化炭素減少生成物ガス流dを得る工程、
E)生成物ガス流dを冷却し、及びプロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、及びC4 +炭化水素を含む液体炭化水素流e1を凝縮により除去し、メタン、水素及び一酸化炭素を含む残留ガス流e2を残す工程、
F)液体炭化水素流e1を第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留によりプロパン、プロペン、及びC4 +炭化水素を含む流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れf1を第2の蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンを含む生成物ガス流g1及びプロパンとC4 +炭化水素を含む流れg2とに分離する工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法。 - 工程H)で、流れg2及び新しいプロパンを第3の蒸留領域に供給し、及び該第3の蒸留領域で、蒸留により、供給ガス流aとC4 +炭化水素を含む流れに分離することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 工程C)で、30〜80℃の範囲の温度に生成物ガス流bを冷却することを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 工程D)を行なう前に、生成物ガス流cを5〜25バールの範囲の圧力に圧縮することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の方法。
- 工程E)を行なう前に、生成物ガス流dを5〜25バールの範囲の圧力に圧縮することを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の方法。
- 工程E)を行う時に、生成物ガス流dを−10〜−120℃の範囲の温度に冷却することを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の方法。
- 工程E)を行なう前に、分子ふるい上を通過させることにより生成物ガス流dを乾燥させることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の方法。
- 工程B)で使用される酸素性ガス流の酸素含有量が少なくとも90体積%であることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の方法。
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