JP2008524289A - プロパンからプロペンを製造する方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、以下の工程、
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素含有ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンをプロペンへの非酸化触媒のオートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少ガス流cを得る工程、
D)生成物ガス流cを不活性吸収剤と接触させることにより凝縮不可能又は低沸点ガス成分を除去し、そして次に不活性吸収剤中に溶解したガスを取り除いて、C3炭化水素流d1及び、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素及び水素を含むオフガス流d2を得る工程、
E)C3炭化水素流d1を冷却し、及び圧縮し、液状のC3炭化水素流e1を得る工程、
F)C3炭化水素流e1を、第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留によりプロパンとプロペンで構成される流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れf1を(第2の)蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンで構成される生成物流g1及びプロパンで構成される流れg2とに分離し、及び流れg2を少なくとも部分的に脱水素領域に再循環させる工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法に関する。
【選択図】なし
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素含有ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンをプロペンへの非酸化触媒のオートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少ガス流cを得る工程、
D)生成物ガス流cを不活性吸収剤と接触させることにより凝縮不可能又は低沸点ガス成分を除去し、そして次に不活性吸収剤中に溶解したガスを取り除いて、C3炭化水素流d1及び、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素及び水素を含むオフガス流d2を得る工程、
E)C3炭化水素流d1を冷却し、及び圧縮し、液状のC3炭化水素流e1を得る工程、
F)C3炭化水素流e1を、第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留によりプロパンとプロペンで構成される流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れf1を(第2の)蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンで構成される生成物流g1及びプロパンで構成される流れg2とに分離し、及び流れg2を少なくとも部分的に脱水素領域に再循環させる工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法に関する。
【選択図】なし
Description
本発明は、プロパンからプロペンを製造する方法に関する。
プロパンを脱水素することにより、プロペンが工業的規模で得られる。
UOP−オレフレックス法として知られているプロパンを脱水素してプロペンにするための方法では、プロパンを含む供給ガス流は600〜700℃に予熱され、そして、移動床脱水素反応器内でアルミナにプラチナを含む触媒を使用して脱水素され、主にプロパン、プロペン、及び水素を含む生成物ガス流を得る。更に、熱分解(クラッキング)により形成される低沸点炭化水素(メタン、エタン、エテン)及び少量の高沸点物(C4 +炭化水素)が生成物ガス流内に存在する。生成物ガス混合物は複数工程で冷却及び圧縮(加圧)される。次に、いわゆる「コールドボックス」内での凝縮により、C2及びC3炭化水素及び高沸点物が、脱水素で形成された水素とメタンから除去される。次に、液体炭化水素凝縮物が、蒸留により分離されるが、該分離では、第1のカラムにおいて、C2炭化水素が除去されてメタンが残留し、第2の蒸留カラム内では、C3炭化水素流が、高純度のプロペン留分(部分)とプロパン留分(プロパン留分は、C4 +炭化水素も含む)とに分離される。
この方法の不利な点は、コールドボックス内での凝縮によりC3炭化水素が損失することである。脱水素で形成された大量の水素のため、及び相平衡の結果として、非常に低い温度での凝縮が行われなければ、水素/メタンオフガス流と共に、比較的大量のC3炭化水素も排出される。従って、水素/メタンオフガス流と共に排出されるC3炭化水素の損失を限定するために、−20℃〜−60℃の温度で処理(work)する必要がある。
本発明の目的は、プロパンをプロペンに脱水素するための改良された方法を提供することにある。
この目的は、以下の工程
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素含有ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンをプロペンへの非酸化触媒のオートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少ガス流cを得る工程、
D)生成物ガス流cを不活性吸収剤と接触させることにより凝縮不可能又は低沸点ガス成分を除去し、そして次に不活性吸収剤中に溶解したガスを取り除いて(脱着させて)、C3炭化水素流d1及び、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素及び水素を含むオフガス流d2を得る工程、
E)C3炭化水素流d1を冷却し、及び所望により圧縮し、ガス状または液状のC3炭化水素流e1を得る工程、
F)C3炭化水素流e1を、所望により第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留によりプロパンとプロペンから成る流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れe1又はf1を(第2の)蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンから成る生成物流g1及びプロパンから成る流れg2とに分離し、及び流れg2を少なくとも部分的に脱水素領域に再循環させる工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法によって達成される。
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素含有ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンをプロペンへの非酸化触媒のオートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少ガス流cを得る工程、
D)生成物ガス流cを不活性吸収剤と接触させることにより凝縮不可能又は低沸点ガス成分を除去し、そして次に不活性吸収剤中に溶解したガスを取り除いて(脱着させて)、C3炭化水素流d1及び、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素及び水素を含むオフガス流d2を得る工程、
E)C3炭化水素流d1を冷却し、及び所望により圧縮し、ガス状または液状のC3炭化水素流e1を得る工程、
F)C3炭化水素流e1を、所望により第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留によりプロパンとプロペンから成る流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れe1又はf1を(第2の)蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンから成る生成物流g1及びプロパンから成る流れg2とに分離し、及び流れg2を少なくとも部分的に脱水素領域に再循環させる工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法によって達成される。
最初の工程部分Aで、プロパンを含む供給ガス流aが供給される。これは通常、少なくとも80体積%のプロパン、好ましくは少なくとも90体積%のプロパンを含む。更に、プロパン含有供給ガス流Aは、通常、ブタン(n−ブタン、イソブタン)も含む。プロパン含有供給ガス流の一般的な組成は、DE−A10246119及びDE−A10245585に開示されている。一般的には、プロパンを含む供給ガス流aは、液体石油ガス(LPG)から得られる。プロパン含有供給ガス流を精製蒸留に付し、ブタンを除去しても良く、これにより、プロパン含有量が非常に高い(>95体積%)供給ガス流aが得られる。
工程Bでは、プロパンを含む供給ガス流が脱水素領域に供給され、そして、非酸化触媒脱水素に付せられる。この工程部分では、脱水素反応器内で、脱水素活性触媒を使用して、プロパンが部分的に脱水素され、プロペンを得る。更に、水素、及び少量のメタン、エタン、エテン、及びC4 +炭化水素(n−ブテン、イソブタン、ブテン、ブタジエン)が得られる。非酸化触媒を使用したオートサーマルプロパン脱水素の生成物ガス混合物内で、酸化炭素(CO、CO2)、特にCO2、水、及び不活性ガスも少量得られる。不活性ガス(窒素)は、オートサーマル脱水素に使用される酸素流と共に導入される。更に、変換されていないプロパンが生成物ガス混合物中に存在する。
非酸化触媒によるプロパン脱水素はオートサーマル的(autothermally)に行われる。この目的のために、少なくとも1箇所の反応領域において、酸素を含むガスが追加的にプロパン脱水素の反応ガス混合物と混合され、そして、反応ガス混合物中に存在する水素及び/又は炭化水素が、少なくとも部分的に燃焼され、反応ガス混合物中で、少なくとも1箇所の反応領域における脱水素に必要とされる熱を、少なくとも部分的に発生させる。使用する酸素を含むガスは、空気、又は酸素含有量が70質量%以下、好ましくは50質量%以下の酸素富化空気である。
酸化法と比較した場合の非酸化法(nonoxidative method)の特徴のひとつは、遊離した水素が脱水素領域の出口においてもなお存在することである。酸化脱水素では、遊離した水素は形成されない。
非酸化触媒のオートサーマルプロパン脱水素は、原則として、従来から公知である何れのタイプの反応器で行っても良い。本発明に従う適切な反応器のタイプの比較的わかりやすい記載は、“Catalytica(登録商標)Studies Division, Oxidative Dehydrogenation and Alternative Dehydrogenation Process”(Study Number 4192 OD,1993,430 Ferguson Drive, Mountain View, California, 94043−5272, USA)にも含まれている。
固定床管、又は管束反応器が適切な反応器の形態である。これら反応器内で、触媒(脱水素触媒、及び所望により特定の酸化触媒)が、反応管又は反応管の束の中に固定床として配置される。通常の反応管の内径は、約10〜15cmである。一般敵な脱水素管束反応器は、約300〜1000本の反応管を含んでいる。反応管の内部温度は、一般的には、300〜1200℃の範囲、好ましくは500〜1000℃の範囲で変動する。Phillips Petroleum Coのプロパン又はブタンの脱水素のために、稼動圧力は、通常、0.5〜8バール、少量の蒸気希釈が行われた場合には、しばしば1〜2バール、又、大量の蒸気希釈が行われた場合には、3〜8バール(蒸気活性改良法(STAR法)又はLinde法に対応)である。ガスの一般的な時間単位空間速度(GHSV)は、使用した炭化水素に対して、500〜2000h-1である。触媒のジオメトリー(幾何)は、例えば、球状、又はシリンダー状(中空又は中空でないもの)である。
非酸化触媒によるオートサーマルプロパン脱水素を、Snamprogetti/Yarsintez−FBD法に従い、流動床内の混生(heterogeneous)触媒の存在下に行っても良い。2個の流動床が並行に操作されることが適切であり、この場合、2個の流動床の内の1個は通常、再生の状態になっている。稼動圧力は、一般的には、1〜2バールであり、脱水素温度は、通常、550〜650℃である。脱水素に必要とされる熱は、脱水素触媒を反応温度にまで予熱することにより反応システム内に導入することができる。酸素を含む共供給物(cofeed)を混合することにより、予熱器を省略することが可能となり、そして必要とされる熱が、水素及び/又は炭化水素を酸素の存在下に燃焼させることによって反応器内で直接的に生成可能となる。適切な場合には(所望により)、水素を含む共供給物が追加的に混合されて良い。
非酸化触媒を使用したオートサーマルプロパン脱水素は、トレー反応器内で行われることが好ましい。この反応器は、1種以上の連続する触媒床を含んでいる。触媒床の数は、1〜20個、有利なことには、1〜6個、好ましくは1〜4個、及び特に1〜3個である。触媒床では、反応ガスが放射状又は軸方向に流れることが好ましい。通常、このようなトレー反応器は、固定触媒床を使用して操作される。最も単純な場合、固定床ベッドは、シャフト炉反応器内に軸方向に配置され、又は同心のシリンダー状格子の環状間隙内に配置される。シャフト炉反応器は、トレー1個だけ有するトレー反応器に相当する。単一のシャフト炉反応器内での脱水素の実施は、1実施の形態に相当する。別の好ましい実施の形態では、3個の触媒床を有するトレー反応器内で脱水素が行われる。
通常、反応ガス混合物中に加えられる酸素ガスの量は、以下のように選択される。すなわち、酸素ガスの量は、プロパンの脱水素のために必要とされる熱量が、反応ガス混合物中に存在する水素と(反応ガス混合物中に存在する)炭化水素、及び/又は(コークスの状態で存在する)炭素の燃焼によって生成されるように選択される。通常、供給される酸素の合計量は、プロパンの合計量に対して、0.001〜0.5モル/モル、好ましくは0.005〜0.25モル/モル、より好ましくは0.05〜0.25モル/モルである。酸素は、不活性ガスを含む酸素含有ガスの状態、例えば空気、又は酸素が富化された(含有量が多くされた)空気の何れの状態ででも使用して良い。
燃焼して熱を発生させる水素は、触媒によるプロパン脱水素で形成された水素であり、及び水素含有ガスとして反応ガス混合物に追加的に加えられた水素でもある。存在する水素の量は、酸素を供給した直後の反応ガス混合物中のモルH2/O2割合が、1〜10モル/モル、好ましくは2〜5モル/モルである量が好ましい。このことは、多段階反応器においては、酸素含有ガスと水素含有ガスの全ての中間供給物にあてはまる。
水素は、触媒を使用して燃焼される。使用する脱水素触媒は、通常、炭化水素及び水素と酸素との(両方の)燃焼にも触媒作用を及ぼし、従って、原則として、脱水素触媒とは別に特定の酸化触媒が必要とされることがない。ある実施の形態では、炭化水素の存在下での水素の酸素との燃焼(水分が生成する)に選択的に触媒作用を及ぼす1個以上の酸化触媒を使用して操作(運転)が行われる。従って、これら炭化水素の酸素との(CO、CO2及び水を与える)燃焼は、小範囲でしか進行しない。脱水素触媒及び酸化触媒は、異なる反応領域で存在することが好ましい。
反応が1工程(段階)以上で行われる場合、酸化触媒は、反応領域の1箇所のみ、2箇所以上、又は全ての箇所に存在して良い。
水素の酸化に選択的に触媒作用を及ぼす触媒を、反応器内の他の箇所よりも酸素分圧が高い箇所、特に酸素含有ガスの供給箇所付近に配置することが好ましい。酸素含有ガス(oxygenous gas)及び/又は水素含有ガスは、反応器内の1箇所以上で供給されて良い。
本発明に従う1実施の形態では、トレー反応器の各トレーの上流に、酸素含有ガス及び所望により水素含有ガスの中間供給が存在する。本発明に従う方法の他の実施の形では、第1のトレー以外の各トレーの上流に酸素含有ガス及び所望により水素含有ガスが供給される。ある実施の形態では、特定の酸化触媒の層が全ての供給箇所の下流に存在し、脱水素触媒の層が続く。別の実施の形態では、特定の酸化触媒が存在することはない。脱水素温度は、通常、400〜1100℃であり、トレー反応器の最後の触媒床内の圧力は、通常、0.2〜5バール、好ましくは1〜3バールである。GHSVは、通常500〜2000h-1であり、そして高負荷操作では、100000h-1以下、好ましくは4000〜16000h-1である。
水素の燃焼に選択的に触媒作用を及ぼす好ましい触媒は、ゲルマニウム、錫、鉛、砒素、アンチモン、ビスマスの酸化物及び/又はホスフェートからなる群から選ばれる酸化物及び/又はホスフェートである。水素の燃焼に触媒作用を及ぼす他の好ましい触媒は、元素周期表の遷移族VIII及び/又はIの貴金属を含む。
使用される脱水素触媒は、通常、担体及び活性合成物(active composition)を有している。担体は、通常、耐熱性酸化物又は混合酸化物から構成される。脱水素触媒は、二酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化ランタン、酸化セリウム及びこれらの混合物からなる群から選ばれる酸化金属を担持として含むことが好ましい。この混合物は、物理的な混合物の他、マグネシウムアルニミウムオキシド、又は亜鉛アルミニウムオキシド混合酸化物等の化学的混合相で良い。好ましい担体は、二酸化ジルコニウム及び/又は二酸化珪素であり、そして二酸化ジルコニウムと二酸化珪素の混合物が特に好ましい。
脱水素触媒の活性合成物は、通常、元素周期表の遷移族VIIIの元素を1種以上含み、好ましくはプラチナ及び/又はパラジウム、より好ましくはプラチナを含む。更に、脱水素触媒は、元素周期表の主族I及び/又はIIの元素を1種以上含んで良く、好ましくはカリウム及び/又はセシウムを含んで良い。脱水素触媒は、更に、ランタニド及びアクチニド、好ましくはランタン及び/又はセリウムを含む、元素周期表の遷移族IIIの1種以上の元素を含んで良い。最後に、脱水素触媒は、元素周期表の主族III及び/又はIVの元素を1種以上含んで良く、好ましくはホウ素、ガリウム、珪素、ゲルマニウム、錫及び鉛、より好ましくは錫からなる群から選ばれる1種以上の元素を含んで良い。
好ましい実施の形態では、脱水素触媒は、遷移族VIIIの元素を1種以上、主族I及び/又はIIの元素を1種以上、主族III及び/又はIVの元素を1種以上、及びランタニド及びアクチニドを含む遷移族IIIの元素を1種以上含む。
例えば、WO99/46039、US4788371、EP−A705136、WO99/29420、US5220091、US5430220、US5877369、EP0117146、DE−A19937106、DE−A19937105及びDE−A19937107により開示された全ての脱水素触媒は、本発明に従い使用されて良い。オートサーマルプロパン脱水素の上述した変形例のために特に好ましい触媒は、DE−A19937107の実施例1、2、3及び4に従う触媒である。
蒸気の存在下に、オートサーマルプロパン脱水素を行なうことが好ましい。加えられた蒸気は、熱伝達媒体として作用し、そして、触媒上への有機物沈殿物のガス化を補助し、このことは、触媒の炭化(炭素付着化)を防ぎ、触媒の運転時間(onstream time)を増加させる。蒸気は、有機沈殿物を一酸化炭素、二酸化炭素及びある場合には水に変換する。
脱水素触媒は、それ自体は公知の方法で再生されて良い。例えば、反応ガス混合物に蒸気を加えて良く、又酸素を含むガスを、温度を上昇させて触媒床上に時々通し、そして沈殿した炭素を燃焼しても良い。蒸気での希釈は、平衡を脱水素の生成物側へとシフトさせる。再生の後、所望により触媒は水素含有ガスで還元される。
オートサーマルプロパン脱水素では、通常、以下の組成を有するガス混合物が得られる、すなわち、5〜95体積%のプロパン、1〜40体積%のプロペン、0〜10体積%のメタン、エタン、エテン及びC4 +炭化水素、0〜15体積%の二酸化炭素、0〜5体積%の一酸化炭素、0〜5体積%の蒸気、及び0〜30体積%の水素、及びまた1〜50体積%の不活性ガス(特に窒素)である。
ガス混合物が脱水素領域を出ると、生成物ガス流bは、通常1〜5バール、好ましくは1.5〜3バールの圧力下にあり、そして400〜700℃の範囲の温度を有している。
生成物ガス流bを2つのサブストリームに分離し、一方のスブストリームをオートサーマル脱水素に再循環させて良い(DE−A10211275及びDE−A10028582に記載された循環ガス法に対応する)。
工程Cでは、生成物ガス流bから蒸気が最初に除去され、蒸気が低減した(ほぼ除去された)生成物ガス流cが得られる。蒸気の除去は、生成物ガス流bを凝縮、冷却、及び所望により圧縮することにより行って良く、そして、1工程以上の冷却、及び所望により圧縮工程で行って良い。通常、生成物ガス流bは、この目的のために、0〜80℃の範囲、好ましくは10〜65℃の範囲の温度に冷却される。更に、生成物ガス流は、圧縮、例えば5〜50バールの圧力に圧縮して良い。
工程D)のある場合では、水素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、窒素及び低沸点炭化水素(メタン、エタン、エテン)等の凝縮不可能又は低沸点ガス成分が、吸収/取除(脱着)サイクル中で高沸点吸収剤を使用してC3炭化水素流から除去され、流れd1とオフガス流d2とを得る。流れd1は、C3炭化水素、及び付加的に少量のエテン及びエタンを含み、オフガス流d2は、凝縮不可能なガス成分、又は低沸点ガス成分を含んでいる。
この目的のために、吸収工程で、ガス流bが不活性吸収剤と接触されてC3炭化水素が吸収され、そして、少量のC2炭化水素も不活性吸収剤中に吸収され、そして、C3炭化水素を吸収(積載)した吸収剤と残留ガス成分を含んだオフガス流d2を得る。オフガス流d2は、実質的に一酸化炭素、水素、不活性ガス及びC2炭化水素及びメタンである。取除き工程では、吸収剤からC3炭化水素が再度開放される。
吸収工程で使用する不活性ガスは、通常、高沸点非極性溶媒であり、この溶媒中では、除去されるべきC3炭化水素混合物が、除去されるべき残留ガスよりも明らかに高い溶解度を有している。この吸収は、流れcを吸収剤に単に通すことにより行なって良い。しかしながら、この吸収は、カラム内又は回転吸収器内で行なっても良い。これは、並流(cocurrent)、向流、又は交差流の状態で行なって良い。適切な吸収カラムは、例えば、バブル−キャップトレー、遠心トレー、及び/又はふるいトレーを有するトレーカラム、構造パッキング、例えば、Mellapak(登録商標)250Y等の、比表面積が100〜1000m2/m3のシートメタルパッキングを有するカラム、及びランダムパッキングを有するカラムである。滴下及びスプレー塔、グラファイトブロック吸収器、厚−フィルム及び薄−フィルム吸収器等の表面吸収器、及びまた、回転カラム、パンスクラバー、クロススプレースクラバー、回転スクラバー及び内部構造を有する又は有しないバブルカラムを使用することも可能である。
適切な吸収剤は、比較的非極性の有機溶媒、例えば、脂肪族C4−C18−アルケン、ナフサ、又はパラフィン蒸留からのミドルオイル留分等の芳香族炭化水素、又はバルキー基を有するエステル、又はこれら溶媒の混合物であり、そして、ジメチル1,2−フタレート等の極性溶媒を加えても良い。適切な吸収剤は、更に、安息香酸及びフタル酸と、n−ブチルベンゾエイト(n−ブチル安息香酸塩)、エチルベンゾエイト、メチレンベンゾエイト、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート等の直鎖状C1−C8−アルカノールとのエステル、及びビフェニル及びジフェニルエーテル等の熱伝達オイル、これらの塩素誘導体、及びトリアリールアルケンである。適切な吸収剤は、ビフェニル及びジフェニルエーテルの混合物、好ましくは共沸混合物中のもの、例えば、市販されているDiphyl(登録商標)のものである。しばしば、この溶媒混合物は、0.1〜25質量%の量のジメチルフタレートを含んでいる。適切な吸収剤は、更に、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン及びオクタデカン、又は精製流から得られ、及び主成分として上述した直鎖状アルケンを含む留分である。
C3炭化水素を取り除くために、吸収(積載)した吸収剤が加熱及び/又は低圧に減圧される。この替わりに、取除きは、(一般的には蒸気を使用して)ストリッピングによって行なっても良く、又は減圧、加熱及びストリッピングの組合せで、1工程以上で行って良い。例えば、取除きは、2工程(段階)で行なって良く、そして、第2段階での取除きは第1段階よりも低い圧力で行なわれ、そして、第1段階での取除ガスは、吸収工程に再循環させて良い。取除き工程で再生された吸収剤は吸収工程に再循環される。
ある変形例では、取除き工程は、吸収した吸収剤を減圧及び/又は加熱することによって行なわれる。別の方法の変形例では、蒸気を使用して追加的にストリッピングが行なわれる。
除去D(removal D)は、通常、完全に完了するものではなく、除去の種類に依存して、少量又は微量の更なるガス成分、特に低沸点炭化水素のものがC3炭化水素流d1内に存在して良い。
オフガス流d2内に存在する水素を除去するために、このオフガス流を、(所望により、例えば、間接的な熱交換器内において冷却の後)水素分子のみが浸透可能な(通常は管として形成された)薄膜に通して良い。このようにして除去された水素は、必要であれば、脱水素において少なくとも部分的に使用されて良く、又他には例えば、燃料電池における電気エネルギーを発生させるために他の活用用途に送られて良い。この替わりに、オフガス流d2を焼却しても良い。
工程Eのある場合では、ガス流d1を冷却し、及び1段階以上の更なる圧縮工程で圧縮して良い。これにより、ガス状C3炭化水素流e1又はC3炭化水素から成る液体凝縮流e1が得られる。流れe1は、少量のC2炭化水素を含んでも良い。更に、水性凝縮流e2、及び所望により少量のオフガス流e3が得られて良い。溶解したガスが工程Dで蒸気を使用したストリッピングによって取り除かれた場合、通常、水性凝縮流e2が得られる。
圧縮は1工程以上で順次行って良い。通常、圧縮は、1〜29バール、好ましくは1〜10バールの範囲の圧力から、12〜30バールの範囲の圧力で全体が行なわれる。各圧縮工程の後に冷却工程が行われ、該冷却工程ではガス流が15〜80℃、好ましくは15〜60℃の範囲の温度に冷却される。次に、圧縮されたガス混合物が−10℃〜60℃、好ましくは−10℃〜30℃の温度に冷却される。液体凝縮流e1及びe2は相分離装置内で互いに分離される。
しかしながら、ガス流d1は冷却だけを行い、そしてガス状状態で第1の蒸留領域に供給しても良い。このことは、工程Dでの溶解ガスの取除きが、減圧(圧縮解除)及び加熱のみによって行なわれる(蒸気を使用したストリッピングは行なわれない)場合に好ましい。
工程Fのある場合では、ガス状又は液体状C3炭化水素流e1が第1の蒸留領域に供給され、そして蒸留により流れf1と流れf2に分離される。流れf1は、C3炭化水素であるプロパン及びプロペンを含んでおり、流れf2は、C2炭化水素であるエタン及びエテンを含んでいる。この目的のために、C3炭化水素流e1が、通常、一般的には20〜80段の理論段(theoretical plate)、例えば約60段の理論段を有するC2/C3分離カラムに供給される。通常、C2/C3分離カラムは10〜30バール、例えば約20バールの範囲の圧力及び2〜30の還流割合で操作(運転)される。底部温度は、通常、40〜100℃、例えば約60℃であり、頂部温度は−20〜10℃、例えば約10℃である。
プロパンとプロペンから構成される流れf1が底部取出流から得られ、流れf1のエタン/エテン含有量は、通常合計で<5000ppm、好ましくは<1000ppm、より好ましくは<500ppmである。頂部取出流で得られることが好ましい流れf2は、プロパンとプロペンをまだ所定量含んでいて良く、そしてこれらを除去するために吸収工程に再循環させて良い。
特に、流れd1又はe1がC2炭化水素を少量しか含まない場合には、工程Fは省略されても良い。
工程Gでは、C2炭化水素流e1又はf1が第2の蒸留領域に供給され、及び蒸留によりプロペンを含む流れg1とプロパンを含む流れg2とに分離される。この目的のために、炭化水素流f1が、通常、80〜150段の理論段、例えば約100段の理論段を有しているC3分離カラム(「C3スプリッター」)に供給される。C3分離カラムは、通常、10〜30バールの範囲の圧力、例えば約20バールの圧力、及び2〜40の還流割合で操作される。底部温度は、通常40〜100℃、例えば約68℃であり、頂部温度は30〜60℃、例えば約60℃である。単一のC3分離カラムの替わりに、2個のC3分離カラムを使用することも可能であり、この場合、第1のカラムは高い圧力、例えば25バールで操作され、そして第2のカラムは低い圧力、例えば18バールで操作される(2−カラム法)。第1のカラムの頂部取出物は、第2のカラムの底部ヒーター内で液化され、そして、第1のカラムの底部取出物が第2のカラムに供給される。この替わりに蒸気圧縮器を使用した方法も可能である。
工程Hのある場合では、流れg2と新しいプロパン流が第3の蒸留領域に供給されて良く、該第3の蒸留領域では、C4+炭化水素を含む流れが蒸留により除去され、そしてプロパン含有量が非常に高い供給ガス流が得られる。再循環された流れg2は、第3の蒸留領域に入る前に蒸発させて良い。これは、冷却流の発生を可能とし、該冷却流は、他の箇所、例えばC2/C3分離カラムの頂部で冷却するために使用可能である。
以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
本発明に従う方法の、図に示された数字(variant)は、計算でシミュレートしたものである。以下のプロセスパラメーターが仮定されている。
稼動時間8000hで369kt/aのプラント受容量(46072kg/hのプロペンに相当)が仮定されている。
新しいプロパンは、98質量%のプロパンに加え、約2質量%のブタンを含む。新しいプロパン流1がC3スプリッター37からのプロパン再循環流24と混合され、そして、C3/C4分離カラム30に供給される。C3/C4分離カラム30(この分離カラム30は、40段の理論段を有し、そして、10バールの圧力と0.41の還流割合で操作される)内では、高いボイラー流が除去され、そして、ブタン含有量が0.01質量%のプロパン流3が得られる。プロパン流3は、450℃に予熱され、脱水素領域31に入り、そして、オートサーマル脱水素に付せられる。この目的のために、酸素含有ガス6及び蒸気5(水蒸気5)が脱水素領域31に供給される。脱水素の転換は、プロパンに対して
50%、プロペン形成の選択性は90%である。更に、5%の熱分解生成物及び5%の一酸化炭素が総合的な燃焼で形成される。脱水素領域の排出ガス中の水分含有量は、約6質量%、排出ガス中の残留酸素含有量は0質量%、生成物ガス混合物の排出(出口)温度は600℃である。生成物ガス流7は冷却され、そして、コンプレッサー32内で、2.0バールの圧力から出発して3工程(段階)で15バールの圧力に圧縮される。第1及び第2の圧縮器工程の後、冷却が各場合において55℃にまで行われる。これは、このプロセス工程から排出される水性凝縮物9を提供する。圧縮され、そして凝縮されたガス流8は、吸収カラム33内で、吸収剤としてのテトラデカン21と接触される。吸収されなかったガスは、カラムの頂部を介してオフガス流11として取出され、C3炭化水素流を吸収(搭載)した吸収剤が、カラムの底部を介して取出され、そして取除きカラム34(脱着カラム34)に供給される。取除きカラム34内では、4バールまでの減圧と流れ13として供給された高圧の蒸気を使用したストリッピングによりC3炭化水素が取り除かれ、再生吸収剤から構成される流れ14とC3炭化水素及び蒸気とから構成される流れ12が与えられる。再生された吸収剤14は、新しい吸収剤22が補足され、そして、吸収カラム33内に再循環される。取除きカラムの頂部では、ガスが45℃に冷却され、その過程で、更なる吸収剤14が凝縮除去される。相分離器内で除去された水性相も得られ、そして流れ15としてこの工程(プロセス)から排出される。次に、流れ12が16バールまで2段階で圧縮され、そして40℃の温度まで冷却される。これにより、少量のオフガス流18、廃棄水流17、及び液体C3炭化水素流16が提供される。
50%、プロペン形成の選択性は90%である。更に、5%の熱分解生成物及び5%の一酸化炭素が総合的な燃焼で形成される。脱水素領域の排出ガス中の水分含有量は、約6質量%、排出ガス中の残留酸素含有量は0質量%、生成物ガス混合物の排出(出口)温度は600℃である。生成物ガス流7は冷却され、そして、コンプレッサー32内で、2.0バールの圧力から出発して3工程(段階)で15バールの圧力に圧縮される。第1及び第2の圧縮器工程の後、冷却が各場合において55℃にまで行われる。これは、このプロセス工程から排出される水性凝縮物9を提供する。圧縮され、そして凝縮されたガス流8は、吸収カラム33内で、吸収剤としてのテトラデカン21と接触される。吸収されなかったガスは、カラムの頂部を介してオフガス流11として取出され、C3炭化水素流を吸収(搭載)した吸収剤が、カラムの底部を介して取出され、そして取除きカラム34(脱着カラム34)に供給される。取除きカラム34内では、4バールまでの減圧と流れ13として供給された高圧の蒸気を使用したストリッピングによりC3炭化水素が取り除かれ、再生吸収剤から構成される流れ14とC3炭化水素及び蒸気とから構成される流れ12が与えられる。再生された吸収剤14は、新しい吸収剤22が補足され、そして、吸収カラム33内に再循環される。取除きカラムの頂部では、ガスが45℃に冷却され、その過程で、更なる吸収剤14が凝縮除去される。相分離器内で除去された水性相も得られ、そして流れ15としてこの工程(プロセス)から排出される。次に、流れ12が16バールまで2段階で圧縮され、そして40℃の温度まで冷却される。これにより、少量のオフガス流18、廃棄水流17、及び液体C3炭化水素流16が提供される。
液体C3炭化水素流16から、追加的にC3炭化水素を所定量含むC2炭化水素流20が、30段の理論段を有し、圧力が16バール及び還流割合が47のC2/C3分離カラム36の頂部を介して除去される。流れ20は、吸収カラム33内に再循環され、吸収カラム33では、流れ20内に存在するC3炭化水素が除去される。C2/C3分離カラム36内の底部温度は41℃、頂部温度は−5℃である。底部取出流19の残留エタン含有量は、0.01質量%である。底部取出流19は、120段の理論段を有し、及び16バール、還流割合21で操作されるプロパン/プロペン分離カラムに供給される。底部温度は46℃、頂部温度は38℃である。頂部では、純度がプロペン99.5質量%のプロペン流23が得られる。底部取出流24は、約98.5質量%のプロパンを含み、そして、脱水素領域31内に再循環される。
1 プロパン流
3 プロパン流
5 蒸気
6 酸素含有ガス
7 生成物ガス流
8 ガス流
9 水性凝縮物
11 オフガス流
14 吸収剤
16 C3炭化水素流
17 廃棄水流
18 オフガス流
19 底部取出流
20 C2炭化水素流
21 テトラデカン
22 吸収剤
23 プロペン流
24 底部取出流
30 C3/C4分離カラム
31 脱水素領域
32 コンプレッサー
34 取除きカラム(脱着カラム)
36 C2/C3分離カラム
37 C3スプリッター
3 プロパン流
5 蒸気
6 酸素含有ガス
7 生成物ガス流
8 ガス流
9 水性凝縮物
11 オフガス流
14 吸収剤
16 C3炭化水素流
17 廃棄水流
18 オフガス流
19 底部取出流
20 C2炭化水素流
21 テトラデカン
22 吸収剤
23 プロペン流
24 底部取出流
30 C3/C4分離カラム
31 脱水素領域
32 コンプレッサー
34 取除きカラム(脱着カラム)
36 C2/C3分離カラム
37 C3スプリッター
Claims (9)
- 以下の工程
A)プロパンを含む供給ガス流aを供給する工程、
B)プロパンを含む供給ガス流a及び酸素含有ガス流を脱水素領域に供給し、及びプロパンをプロペンへの非酸化触媒のオートサーマル脱水素に付し、プロパン、プロペン、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素、蒸気及び水素を含む生成物ガス流bを得る工程、
C)生成物ガス流bを冷却し、及び凝縮により蒸気を除去し、蒸気減少ガス生成物流cを得る工程、
D)生成物ガス流cを不活性吸収剤と接触させることにより凝縮不可能又は低沸点ガス成分を除去し、そして次に不活性吸収剤中に溶解したガスを取り除き、C3炭化水素流d1及び、メタン、エタン、エテン、窒素、一酸化炭素、二酸化炭素及び水素を含むオフガス流d2を得る工程、
E)C3炭化水素流d1を冷却し、及び所望により圧縮し、ガス状または液状のC3炭化水素流e1を得る工程、
F)C3炭化水素流e1を、所望により第1の蒸留領域に供給し、及び蒸留によりプロパンとプロペンで構成される流れf1と、エタンとエテンを含む流れf2とに分離する工程、
G)流れe1又はf1を(第2の)蒸留領域に供給し、及び蒸留により、プロペンから成る生成物流g1及びプロパンから成る流れg2とに分離し、及び流れg2を少なくとも部分的に脱水素領域に再循環させる工程、
を含むことを特徴とするプロパンからプロペンを製造する方法。 - 工程H)で、流れg2及び新しいプロパンを第3の蒸留領域に供給し、及び蒸留により、供給ガス流aとC4 +炭化水素を含む流れとに分離することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 工程C)で、生成物ガス流bを10〜80℃の範囲の温度に冷却することを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 工程D)で使用する吸収剤が、C4−C18−アルカン、ナフサ、及びパラフィン蒸留からのミドルオイル留分からなる群から選ばれることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の方法。
- 吸収剤に溶解したガスが、工程D)で、蒸気を使用したストリッピングにより取り除かれることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載の方法。
- 工程E)で、生成物ガス流dを5〜25バールの範囲の圧力に圧縮することを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の方法。
- 工程E)で、生成物ガス流dを−10〜−60℃の範囲の温度に冷却することを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載の方法。
- 工程E)で、水性凝縮物流e2が付加的に得られ、及び該水性凝縮物e2が、相分離装置内で、液状のC3炭化水素流から除去されることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の方法。
- 工程B)で使用される酸素含有流が、空気又は酸素含有量が70体積%以下の酸素富化空気であることを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の方法。
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- 2007-06-06 NO NO20072874A patent/NO20072874L/no not_active Application Discontinuation
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