JP2008520699A - 1,2,2,2−テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの製造のための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、吸入麻酔の分野に関するものである。より詳細には、本発明は、1,2,2,2-テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテル(デスフルラン)の調製のための改良方法に関するものである。
化合物1,2,2,2-テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテル(CF3CHFOCHF2)、デスフルランとしても知られるハロゲン化アルキルエーテルは、特に外来患者の処置のために、または意識鎮静のために特に適した重要な吸入麻酔薬である。この目的のためにはそれは高度に純粋でなければならない。不純物を最小限に抑え、または排除するデスフルランの調製のための経済的かつ有効な方法がそれゆえ非常に望まれる。
当該方法の出発物質、1-クロロ-2,2,2-トリフルオロエチルジフルオロメチルエーテル(CF3CHClOCHF2またはイソフルラン)は市場入手可能である。これは、米国特許第3,535,388号に記載される方法によって合成することもできる。
溶媒は、好ましくは前記反応混合物に添加しない方がよいが、前記反応混合物に添加してもよい。広範囲の溶媒を使用できる。溶媒を使用する場合、前記溶媒は他の反応成分と反応しないか、さもなくば、1,2,2,2-テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの高収率をさほど損なわないことが好ましい。
184gのCF3CHClOCHF2(1モル)を4.4gのSbF5(2.4重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を前記反応混合物に攪拌しながら15〜25℃で添加した。反応の経過をモニターし、反応が完了した時を決定するために、前記反応にて形成された流出物HClガスを、「ドライアイス」コンデンサーを経てウォーター・スクラバーへ導いた。緩慢だが安定な吸熱反応が認められた。12gのフッ化水素(0.6モル)を約6時間かけて添加した。この時間の終わりに、さらなるHClはスクラバー中で回収されず、添加されたHFの全てが反応したことを示す。回収された物質を水で洗浄し、160gを得、これをガスクロマトグラフィーにより分析した。約62%のCF3CHFOCHF2と約38%のCF3CHClOCHF2(即ち未反応の出発物質)が、全て0.05%以下の微量な4成分と共に存在した。このガスクロマトグラフから算出されたCF3CHCFOCHF2のモルは0.59モルであった。これは、反応した出発物質に基づき67%の変換と88%の収率を示す。本実施例における、HF対CF3CHClOCHF2の比率は0.6:1であり、67%の変換と88%の収率を生じ、これは、HF対CF3CHClOCHF2の比が0.5:1で、15%の変換と48%の収率を生じる米国特許第5,026,924に報告されている変換および収率よりも明らかに優れている。
239gのCF3CHClOCHF2(1.30モル)を6gのSbF5(2.5重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応からの流出物を、反応中に生成したHClを回収および滴定するためにウォーター・スクラバーに「ドライアイス」コンデンサーを経由して導いた。反応は緩慢で、安定であり、かつ吸熱性であった。(標準的なNaOHを用いるウォーター・スクラバーの滴定により決定されるように)1.03モルのHClが当該反応から生じ、反応が終結した。反応混合物を氷水で洗浄して203gを得た。これをガスクロマトグラフィーで分析し、76%のCF3CHFOCHF2と23%の未反応の出発物質(CF3CHClOCHF2)を示した。ガスクロマトグラムから算出された変換は80.5%であり、反応した出発物質に基づき収率87.8%であった。それゆえ、本実施例にてHF対CF3CHCOlCHF2の比は0.79:1であり、80.5%の変換と87.8%の収率を生じた。比較として、米国特許第5,026,924号は1:1比のHF:CF3CHClOCHF2を用い、18%の変換と61%の収率を生じた。
156gのCF3CHClOCHF2(0.85モル)を3.9gのSbF5(2.5重量%)と混合し、無水五フッ化水素を0〜30℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物をウォーター・スクラバーへ「ドライアイス」コンデンサーを経由して導いた。反応は緩慢で、安定しており、かつ吸熱性であった。0.5モルのHClをスクラバー中で滴定後、反応を終結させた。生成物は140gであった。標準的な塩基を用いた滴定により決定されるように、非常にわずかな残存酸が生成物中に存在した。生成物をガスクロマトグラフィーにより分析し、52%のCF3CHFOCHF2と48%の未反応の出発物質(CF3CHClOCHF2)を示した。クロマトグラムから算出された変換は57%であり、収率は89.3%であった。本実施例におけるHF対CF3CHClOCHF2の比は0.59:1であり、57%の変換と89.3%の収率を生じた。これらの結果は、HF対CFCHClOCHF2の0.5:1の比が15%の変換と48%の収率を生じる米国特許第5,026,924号に報告されるものと比較して優れている。
116gのCF3CHClOCHF2(0.63モル)を2.9gのSbF2(2.5重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物を「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.5モルのフッ化水素を添加後および(スクラバーへのさらなるHClの発生がないことにより示されるように)反応完了後、反応を終結させた。反応生成物は107gを測定し、74%のCF3CHFOCHF2と25%の未反応のCF3CHClOCHF2であった。変換は77%であり、収率は、反応した出発物質の量に基づきほぼ97.6%を計量した。用いたHF対CF3CH2ClOCHF2の比は0.79:1であった。この例では、0.79:1比のHF対CF3CHClOCHF2により77%の変換とほぼ97.6%の定量収率を得た。米国特許第5,026,924号は反応物の1:1比を用い、18%というより少量の変換と、61%というより低い収率を得た。
184gのCF3CHClOCHF2(1モル)を4.6gのSbF5(2.5重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物を「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.79gモルの酸をスクラバー中で回収後反応を終結させた。粗反応生成物を水で洗浄し157gを得、これはガスクロマトグラフィーで測定して84%のCF3CHFOCHF2と15%のCF3CHClOCHF2であった。変換は87.2%であり、収率は90%であり、本実施例で用いたHF対CF3CHClOCHF2の比は0.79:1であった。米国特許第5,026,924号は1:1のより高いHF対CF3CHClOCHF2比を用いて、18%の変換と、61%の収率を得た。
147gのCF3CHClOCHF2(0.8モル)を1.5gのSbF5(1.0重量%、これは、前5つの実施例で用いた量よりも低い割合である)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物を「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.64gモルの酸をスクラバー中で回収後反応を終結させた。粗反応生成物を水で洗浄し、0.15モルの酸を含むことを見出した。回収された有機生成物は135gであり、ガスクロマトグラフィーにより測定されるように、85.5%のCF3CHFOCHF2と13.7%のCF3CHClOCHF2と、全て0.2%以下の6つの微量の成分を含んだ。変換は87.5%であり、収率は98.1%であり、本実施例で用いたHF対CF3CHClOCHF2の比は凡そ0.99:1であった。米国特許第5,026,924号は1:1のわずかに高いHF対CF3CHClOCHF2比を用いて、18%のより少量の変換と、61%のより低い収率を得た。
184gのCF3CHClOCHF2(1.0モル)を3.9gのSbF5(2.1重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために反応からの流出物を、「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.65gモルの酸をスクラバー中で回収後反応を終結させた。粗反応生成物を水で洗浄し、0.05モルの酸を含むことを見出した。回収された有機生成物は147gであり、ガスクロマトグラフィーにより測定されるように、60%のCF3CHFOCHF2と40%のCF3CHClOCHF2を含んだ。変換は68%であり、収率は77%であり、本実施例で用いたHF対CF3CHClOCHF2の比率は凡そ0.7:1であった。これらの結果は、HF対CF3CHClOCHF2の0.5:1比を用いて、15%の変換と、48%の収率を得た米国特許第5,026,924号において報告されているものより優れている。
184gのCF3CHClOCHF2(1.0モル)を4gのSbF5(2.2重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物を「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.89gモルの酸をスクラバー中で回収後反応を終結させた。粗反応生成物を水で洗浄し、0.08モルの酸を含むことを見出した。回収された有機生成物は142gであり、ガスクロマトグラフィーにより測定されるように、82%のCF3CHFOCHF2と17%のCF3CHClOCHF2を含んだ。変換は87%であり、収率は80%であり、本実施例で用いたHF対CF3CHClOCHF2の比は0.97:1であった。米国特許第5,026,924号は、HF対CF3CHClOCHF2の1:1比を用いて、18%のより少量の変換と、61%のより低収率を得た。
184gのCF3CHClOCHF2(1.0モル)を1.84gのSbF5(1重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物を「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.8gモルの酸をスクラバー中で回収後反応を終結させた。粗反応生成物を水で洗浄し、0.05モルの酸を含むことを見出した。回収された有機生成物は145gであり、ガスクロマトグラフィーにより測定されるように、60%のCF3CHFOCHF2と40%のCF3CHClOCHF2を含んだ。変換は68.5%であり、収率は76%であり、本実施例で用いたHF対CF3CHClOCHF2の比は0.85:1であった。米国特許第5,026,924号は、HF対CF3CHClOCHF2の1:1比を用いて、18%のより少量の変換と、61%のより低収率を得た。
184gのCF3CHClOCHF2(1.0モル)を2.76gのSbF5(1.5重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物を「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.91gモルの酸をスクラバー中で回収後反応を終結させた。粗反応生成物を水で洗浄し、0.05モルの酸を含むことを見出した。回収された有機生成物は143gであり、ガスクロマトグラフィーにより測定されるように、75%のCF3CHFOCHF2と25%のCF3CHClOCHF2を含んだ。変換は80.6%であり、収率は79%であり、本実施例で用いたHF対CF3CHClOCHF2の比は0.96:1であった。米国特許第5,026,924号は、HF対CF3CHClOCHF2の1:1比を用いて、18%のより少量の変換と、61%のより低収率を得た。
184gのCF3CHClOCHF2(1.0モル)を2.76gのSbF5(1.5重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物を「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.9gモルの酸をスクラバー中で回収後反応を終結させた。粗反応生成物を水で洗浄し、0.06モルの酸を含むことを見出した。回収された有機生成物は148gであり、ガスクロマトグラフィーにより測定されるように、73%のCF3CHFOCHF2と27%のCF3CHClOCHF2を含んだ。変換は78%であり、収率は82%であり、本実施例で用いたHF対CF3CHClOCHF2の比は凡そ0.96:1であった。米国特許第5,026,924号は、HF対CF3CHClOCHF2の1:1比を用いて、18%のより少量の変換と、61%のより低収率を得た。
184gのCF3CHClOCHF2(1.0モル)を2.76gのSbF5(1.5重量%)と混合し、次いで無水フッ化水素を15〜20℃で添加した。反応中に生成したHClを回収および滴定するために、反応からの流出物を「ドライアイス」コンデンサーを経由してウォーター・スクラバーに導いた。反応は緩慢で、安定でかつ吸熱性であった。0.94gモルの酸をスクラバー中で回収後反応を終結させた。粗反応生成物を水で洗浄し、0.05モルの酸を含むことを見出した。回収された有機生成物は140gであり、ガスクロマトグラフィーにより測定されるように、62%のCF3CHFOCHF2と37%のCF3CHClOCHF2を含んだ。変換は72%であり、収率は72%であり、本実施例で用いたHF対CF3CHClOCHF2の比は凡そ0.99:1であった。米国特許第5,026,924号は、HF対CF3CHClOCHF2の1:1比を用いて、18%のより少量の変換と、61%のより低収率を得た。
Claims (20)
a)前記CF3CHClOCHF2を前記五フッ化アンチモンと混合すること、
b)フッ化水素を前記混合されたCF3CHClOCHF2および五フッ化アンチモンに攪拌しながら添加すること、
を含む工程により作成される請求項1に記載の方法。
a)前記CF3CHClOCHF2を前記五フッ化アンチモンと混合すること;および、
b)フッ化水素を前記混合されたCF3CHClOCHF2および五フッ化アンチモンに攪拌しながら添加すること、
を含む工程により作成される請求項8に記載の方法。
b)フッ化水素を前記混合物に、当該フッ化水素がCF3CHClOCHF2と反応してデスフルランを作成する速度に凡そ等しいかそれより低い速度で添加すること、
を含むデスフルランの調製のための方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01301636A (ja) * | 1988-05-31 | 1989-12-05 | Central Glass Co Ltd | 1,2,2,2−テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの製造法 |
JPH02279646A (ja) * | 1989-03-14 | 1990-11-15 | Boc Group Inc:The | 1,2,2,2―テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの製造方法 |
JPH09110737A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-04-28 | Daikin Ind Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 |
US6800786B1 (en) * | 2002-09-25 | 2004-10-05 | Baxter International, Inc. | Preparation of desflurane |
Family Cites Families (20)
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---|---|---|---|---|
US2005705A (en) * | 1930-09-20 | 1935-06-18 | Kinetic Chemicals Inc | Preparation of carbon compounds containing fluorine |
US2005708A (en) * | 1933-08-24 | 1935-06-18 | Kinetic Chemicals Inc | Production of halogenated ethane derivatives containing fluorine |
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US3897502A (en) * | 1971-10-22 | 1975-07-29 | Airco Inc | Process for making fluorinated ethers |
US3962460A (en) * | 1972-10-06 | 1976-06-08 | Airco, Inc. | Ether compounds as inhalant anesthetics |
US4762856A (en) * | 1987-02-02 | 1988-08-09 | Boc, Inc. | Anesthetic composition and method of using the same |
US4855511A (en) * | 1988-07-18 | 1989-08-08 | Boc, Inc. | Process for preparing CHF2 OCHFCF3 and CHF2 OCHClCF3 and novel intermediate compounds employed therein |
US5114715A (en) * | 1990-11-29 | 1992-05-19 | Sepracor Inc. | Methods of use and compositions of (s)-isoflurane and (s)-desflurane |
US5283372A (en) * | 1991-12-04 | 1994-02-01 | Anaquest, Inc. | Preparation of purified optical isomers of desflurane |
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JPH02279646A (ja) * | 1989-03-14 | 1990-11-15 | Boc Group Inc:The | 1,2,2,2―テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテルの製造方法 |
JPH09110737A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-04-28 | Daikin Ind Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタフルオロプロパンの製造方法 |
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