JP2008517919A - 置換ジヒドロベンゾフランの不斉合成 - Google Patents

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Abstract

本発明は、式(II)(式中、Ar、Y、R、R、Rおよびmは、本明細書に定められている通りである)の化合物の環化を利用する方法による式(I)の化合物またはその医薬上許容される塩の製造に関する。

Description

本発明は、置換ジヒドロベンゾフランの不斉合成に関する。
精神分裂症は、約500万人に影響を与えている。精神分裂症に対する最も普及している治療は、現行では、ドーパミン(D)およびセロトニン(5−HT2A)受容体アンタゴニズムを組み合わせた「異型」抗精神病薬である。典型的な抗精神病薬と比較して異型抗精神病薬の効能および副作用傾向が改善されていることが報告されているにもかかわらず、これらの化合物は、精神分裂症のすべての症状を十分に治療することはなく、体重増加のような厄介な副作用を伴う(Allison, D.B.らの論文、Am.J.Psychiatry、156: 1686-1696、1999;Masand, P.S.、Exp.Opin.Pharmacother.I: 377-389、2000;Whitaker, R.、Spectrum Life Sciences.Decision Resources.2: 1-9、2000)。
異型抗精神病薬は、また、高い親和性で5−HT2C受容体に結合し、5−HT2C受容体アンタゴニストまたはインバースアゴニストとして機能する。体重増加は、クロザピンおよびオランザピン等の異型抗精神病薬に対応づけられる厄介な副作用であり、5−HT2C拮抗作用は、体重増加の原因であることが示唆された。逆に、5−HT2C受容体の刺激は、食物摂取量および体重の低下をもたらすことが知られている(Walshらの論文、Psychopharmacology 124: 57-73、1996;Cowen, P.J.らの論文、Human Psychopharmacology 10: 385-391、1995;Rosenzweig-Lipson、S.らの論文、ASPET abstract、2000)。
精神分裂症の治療薬としての5−HT2C受容体アゴニズムまたは部分的アゴニズムの役割がいくつかの証拠によって裏づけられている。5−HT2Cアンタゴニストは、ドーパミンのシナプスレベルを増加させ、パーキンソン病の動物モデルにおいて効果的でありうることが調査によって示唆されている(Di Matteo, V.らの論文、Neuropharmacology 37: 265-272、1998;Fox, S.H.らの論文、Experimental Neurology 151: 35-49、1998)。精神分裂症の陽性症状は、ドーパミンのレベル増加に対応づけられるため、5−HT2Cアゴニストおよび部分的アゴニスト等の5−HT2Cアンタゴニストの作用に対向する作用を有する化合物は、シナプスドーパミンのレベルを低下させることになる。5−HT2Cアゴニストは、クロザピン等の薬物の重要な抗精神病効果を媒介すると考えられる脳領域である前前頭皮質および側座核におけるドーパミンのレベルを低下させることが最近の調査で証明された(Millan, M.J.らの論文、Neuropharmacology 37:953-955、1998;Di Matteo, V.らの論文、Neuropharmacology 38:1195-1205、1999;Di Giovanni, Gらの論文、Synapse 35: 53-61、2000)。しかし、5−HT2Cアゴニストは、錐体外路副作用に最も密接に対応づけられる脳領域である線条体におけるドーパミンレベルを低下させない。加えて、5−HT2Cアゴニストは、腹側被蓋野(VTA)における燃焼を低減するが、黒質における燃焼を低減しないことが最近の調査で証明されている。黒質線条体経路と比較して中脳辺縁系における5−HT2Cアゴニストの効果が異なることは、5−HT2Cアゴニストが、辺縁系選択性を有し、典型的な抗精神病薬に対応づけられる錐体外路副作用をもたらしにくいことを示唆するものである。
本明細書に記載されているように、本発明は、5−HT2Cアゴニストまたは部分的アゴニストとしての活性を有する化合物を調製するための方法を提供する。これらの化合物は、精神分裂症、分裂病様障害、分裂情動性障害、妄想的障害、物質誘発精神病、L−DOPA誘発精神病、アルツハイマー痴呆に対応づけられる精神病、パーキンソン病に対応づけられる精神病、レービー体病に対応づけられる精神病、痴呆、記憶喪失、アルツハイマー病に対応づけられる知的障害、双極性障害、憂鬱性障害、気分的発作、不安症、適応障害、摂食障害、てんかん、睡眠障害、偏頭痛、性的機能障害、胃腸障害、肥満、または外傷、卒中または脊髄損傷に対応づけられる中枢神経系不全を含む障害を治療するのに有用である。当該化合物は、式IIの化合物、またはその医薬上許容される塩を含む。
Figure 2008517919
II
(式中、R1a、R2a、R3a、Ar、qおよびyの各々は、本明細書に定められている通りである。)
本発明は、当該化合物を調製するのに有用な合成中間体をも提供する。
本発明の方法および中間体は、例えば、2005年4月22日に出願され、それぞれがすべての目的に対して全面的に参照により本明細書に組み込まれている、2004年10月21日に出願された米国出願第10/970,014号および2003年10月24日に出願された米国仮出願第60/514,454号の有益性を主張する、出願番号11/113,170を有する、Jonathan Grossらの名前で出願された「ジヒドロベンゾフラニルアルカンアミン誘導体およびその使用方法(Dihydrobenzofuranyl Alkanamine Derivatives and Methods for Using Same)」という題名の米国特許出願に記載されている化合物を調製するのに有用である。2004年10月21日に出願された米国出願第10/970,014号は、米国第2005/0143452A1号として公開されている。それには、例えば、ジメチルスルホキシド等の溶媒中にてアジ化ナトリウムで処理した後に、アジ化物を還元し、または適切に置換されたアミンで直接処理することによってトシレート(7)のアミン(1)への変換を達成して、式1の化合物を与えることが可能であることが教示されている。また、ジメチルスルホキシド等の溶媒中にてシアン化ナトリウムで化合物(7)を処理し、その後、ニトリルを還元することによって、より長いアルキル鎖(例えば2−アミノエチル)を調製することができる。
Figure 2008517919
特定の実施形態において、本化合物は、一般には、以下に記載されるスキームIに従って調製される。
Figure 2008517919
上記スキームIにおいて、R、R、Ar、Y、R、X、X、qおよびmの各々は、以下に定められる通りであり、本明細書に記載されているクラスおよびサブクラスに含まれる。
スキーム1は、式Iの特定の鏡像異性体を調製するための方法を示しているが、適切なグリシジルエーテルを使用して、反対の鏡像異性体も同様に調製されることが理解されるであろう。
一態様において、本発明は、上記スキーム1に示されている工程に従って式Dのキラル非ラセミ体ビアリール化合物を調製するための方法を提供する。工程S−1のスズキ反応のための触媒および反応条件は、当該技術分野でよく知られている。例えば、Miyaura, N.;Suzuki, A.の論文、Chem.Rev.1995、95、2457を参照されたい。特定の実施形態において、工程S−1のスズキカップリングは、パラジウム含有化合物の存在下で実施される。他の実施形態において、パラジウム含有化合物は、Pd(PPhである。該反応を塩基の存在下で実施してもよい。特定の実施形態において、塩基はMOH、MCOまたはMPOであり、Mは、独立にアルカリ金属である。いくつかの実施形態において、アルカリ金属は、ナトリウム、カリウムまたはリチウムである。他の実施形態において、工程S−1は、NaOHの存在下で実施される。該反応は、所望により溶媒の存在下で実施される。工程S−1におけるカップリングに好適な溶媒としては、ジメトキシエタン、トルエン、エタノール、イソプロパノール、メタノールおよびテトラヒドロフラン(THF)が挙げられる。特定の実施形態において、S−1のカップリング工程に好適な溶媒としては、水が挙げられる。特定の実施形態において、スズキカップリング反応は、約20℃から、溶媒またはその混合物を還流させるのに十分な温度付近の範囲の温度で実施される。他の実施形態において、カップリング反応は、約60℃から約90℃で実施される。さらに他の実施形態において、カップリング反応は、約70℃から約80℃で実施される。
上記スキーム1に示されているように、工程S−2において式Bの化合物をハロゲン化して、式C(式中、Xはハロゲンである)の化合物を形成する。式Bの化合物から式Cの化合物を調製するのに様々なハロゲン化剤が好適であることを当業者なら認識するであろう。特定の実施形態において、Xはブロモであり、工程S−2で使用されるハロゲン化剤は、臭素である。他の実施形態において、Xはブロモであり、工程S−2で使用されるハロゲン化剤は、N−Br基(例えばN−ブロモスクシンイミド)を含有する化合物である。他の臭化剤は、当業者によく知られている。特定の実施形態において、1つまたは複数の添加剤がハロゲン化反応に使用される。これらの添加剤としては、HSO(例えば、N−Br臭化剤とともに使用される)、ルイス酸、またはAcONa(例えば、臭素とともに使用される)等の無機酸が挙げられる。他の実施形態において、工程S−2におけるハロゲン化は、好適な溶媒において実施される。工程S−2におけるハロゲン化のための好適な溶媒としては、プロトン性溶媒、エーテル、塩素化炭化水素、およびそれらの混合物が挙げられる。当該好適な溶媒としては、ジオキサン、THF、酢酸、CHCl、CHCl、CClおよびジクロロエタン等が挙げられる。いくつかの実施形態において、該反応は、約18℃から、溶媒を還流させるのに十分な温度付近で実施される。他の実施形態において、添加剤は、p−トルエンスルホン酸であり、溶媒は、酢酸またはギ酸である。
工程3において、式Cのハロゲン化化合物を好適なグリニャール試薬またはマグネシウム金属で処理し、次いで、式:
Figure 2008517919
(式中、Lは好適な脱離基である)
のキラル非ラセミ体エポキシドで処理する。他の実施形態において、前記試薬は、式RMgX(式中、Xはハロゲンである)を有し、Rは、アルキル基である。
以上に定められているように、Lは、好適な脱離基である。好適な脱離基は、当該技術分野でよく知られており、例えば、「高度有機化学(Advanced Organic Chemistry)」、Jerry March、第5版、pp. 445-448、John Wiley and Sons、N.Y.を参照されたい。当該脱離基としては、ハロゲン、アルコキシ、スルホニルオキシ、所望により置換されたアルキルスルホニル、所望により置換されたアルケニルスルホニル、所望により置換されたアリールスルホニルオキシが挙げられるが、それらに限定されない。好適な脱離基の例としては、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、メタンスルホニルオキシ(メシルオキシ)、トシルオキシ、トリフリルオキシ、ニトロフェニルスルホニルオキシ(ノシルオキシ)およびブロモフェニルスルホニルオキシ(ブロシルオキシ)が挙げられる。特定の実施形態において、Lはハロゲンである。他の実施形態において、Lは、所望により置換されたアルキルスルホニルオキシ、所望により置換されたアルケニルスルホニルオキシ、または所望により置換されたアリールスルホニルオキシ基である。
工程S−4において、式DまたはD’の化合物、またはそれら2つの化合物の混合物を好適な試薬で処理して、式Eの化合物を形成する。特定の実施形態において、式Dおよび/またはD’の化合物を、好適に保護されたアミノ基を含有する試薬で処理して、式E(式中、Rは保護アミノ基である)の化合物を形成する。他の実施形態において、式Dおよび/またはD’の化合物を好適なシアノ試薬で処理して、式E(式中、RはCNである)の化合物を形成する。いくつかの実施形態において、式E(式中、RはNである)の化合物を形成するための処理を行う。
工程S−5において、式Eのヒドロキシル基OR部分に変換して、式Fの化合物を形成する。特定の実施形態において、前記OR部分は、本明細書に記載されている好適な脱離基である。特に、Rは、有機スルホニル基であってもよい。S−6において、必要ならば保護基Rを開裂するための条件を用いて、式Fを有する化合物を環化して、式Iの化合物を形成する。工程S−7は、以上に説明したアジ化物またはニトリルの還元、またはRとしての保護アミノ基のアミノ基への変換を含む。
特に指定のない限り、以下の用語は、以下の意味を有する。
本明細書に用いられている「アルキル」という用語は、1から8個の炭素原子、好ましくは1から6個の炭素原子、より好ましくは1から4個の炭素原子を有する炭化水素基を意味する。「アルキル」という用語は、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシルおよびイソヘキシル等の直鎖および分枝の基を含むが、それらに限定されない。「低級アルキル」という用語は、1から4個の炭素原子を有するアルキル基を意味する。
本明細書に用いられている「アルケニル」という用語は、2から8個の炭素原子を有し、1から3の二重結合を含む直鎖または分枝の炭化水素基を意味する。アルケニル基の例としては、ビニル、プロプ−1−エニル、アリル、メタリル、ブト−1−エニル、ブト−2−エニル、ブト−3−エニル、または3,3−ジメチルブト−1−エニルが挙げられる。「低級アルケニル」という用語は、1から4個の炭素原子を有する直鎖または分枝のアルケニル基を意味する。
本明細書に用いられている「脂環式基」という用語は、3から10個の炭素原子、より好ましくは5から7個の炭素原子を有する飽和または部分不飽和炭化水素単環または二環を意味する。特定の実施形態において、環状脂環式基は架橋されている。本明細書に用いられている「架橋された」という用語は、シクロアルキル環の2つの非隣接炭素原子間に少なくとも1つの炭素−炭素結合を含む脂環式基を意味する。本明細書に用いられている「部分不飽和」という用語は、少なくとも1つの二重結合、特定の実施形態では二重結合を1つだけ含む非芳香族脂環式基を意味する。特定の実施形態において、脂環式基は飽和されている。脂環式基は、以降に記載されるように、無置換であってもよいし、置換されていてもよい。
本明細書に用いられている「アルキル脂環式基」という用語は、脂環式基が上述のように定められ、rが1から6、好ましくは1から4、より好ましくは1から3である−(CH脂環式基を意味する。
本明細書に用いられている「ヘテロシクロアルキル」という用語は、酸素、窒素または硫黄から独立に選択される1〜3個のヘテロ原子を有する3から10員の単環または二環を意味する。特定の実施形態において、ヘテロシクロアルキルは、酸素、窒素または硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する5から7員環を意味する。ヘテロシクロアルキル基は、飽和されていても部分不飽和であってもよく、単環でも(架橋されたような)二環でもよい。好ましくは、ヘテロシクロアルキルは単環である。ヘテロシクロアルキル基は、以降に記載されるように、無置換であってもよいし、置換されていてもよい。
単独、または「アラルキル」、「アラルコキシ」または「アリールオキシアルキル」のようなより大きい部分の一部として用いられる「アリール」という用語は、全部で6から14の環員を有し、系内の少なくとも1つの環は芳香族であり、系内の各環は3から7の環員を含む単環、二環および三環系を意味する。「アリール」という用語は、「アリール環」という用語と区別なく用いられてもよい。本明細書に用いられている「アリールオキシ」という用語は、Arが6〜10員のアリール基である−OAr基を意味する。本明細書に用いられている「アラルコキシ」という用語は、式−O(CHAr(式中、rは1〜6である)の基を意味する。本明細書に用いられている「アリールオキシアルキル」という用語は、式−(CHOAr(式中、rは1〜6である)の基を意味する。
単独、または「ヘテロアラルキル」または「ヘテロアリールアルコキシ」のようなより大きい部分の一部として用いられる「ヘテロアリール」という用語は、全部で5から14の環員を有し、系内の少なくとも1つの環は芳香族であり、系内の少なくとも1つの環は、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1個または複数個のヘテロ原子を含み、系内の各環は、3から7の環員を含む単環、二環および三環系を意味する。「ヘテロアリール」という用語は、「ヘテロアリール環」という用語または「複素環式芳香族」という用語と区別なく用いられてもよい。特定の実施形態において、当該ヘテロアリール環系としては、フラニル、チエニル、ピラゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、オキサジアゾリル、オキサゾリル、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、トリアジニル、チアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、キノリニル、イソキノリニル、キナゾリニル、インドリニル、インダゾリル、ベンゾチエニル、ベンゾフラニル、ベンズイソキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾキサゾリル、イソインドリルおよびアクリジニルが挙げられるが、それらはほんの一例である。
本明細書に用いられている「ヘテロアラルキル」という用語は、式−(CHHet(式中、Hetは、以上に定められたヘテロアリール基であり、rは1〜6である)の基を意味する。本明細書に用いられている「ヘテロアリールアルコキシ」という用語は、式−O(CHHet(式中、Hetは、以上に定められたヘテロアリール基であり、rは1〜6である)の基を意味する。いずれのアリール、ヘテロアリール、脂環式基またはヘテロシクロアルキルもハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、炭素数1〜6のアルキル、炭素数1〜6のパーフルオロアルキル、炭素数1〜6のアルコキシ、または炭素数1〜6のパーフルオロアルコキシから独立に選択される1から5個の置換基で所望により置換されていてもよい。
本明細書に用いられている「パーフルオロアルキル」という用語は、すべての水素原子がフッ素で置換されている本明細書に定められているアルキル基を意味する。
本明細書に用いられている「低級ハロアルキル」という用語は、1つまたは複数の水素原子がハロゲン原子で置換されている本明細書に定められているC〜Cアルキル基を意味する。
本明細書に用いられている「アルカンスルホンアミド」という用語は、Rが、炭素数1から6のアルキル基であるR−S(O)−NH−基を意味する。
本明細書に用いられている「アルコキシ」という用語は、Rが、炭素数1から6のアルキル基であるR−O−基を意味する。
本明細書に用いられている「パーフルオロアルコキシ」という用語は、Rが、炭素数1から6のパーフルオロアルキル基であるR−O基を意味する。
本明細書に用いられている「モノアルキルアミノ」および「ジアルキルアミノ」という用語は、それぞれ、R、RおよびRが、それぞれ独立に選択されたC〜Cアルキル基である−NHRおよび−NRを意味する。
本明細書に用いられている「ハロゲン」または「ハロ」という用語は、塩素、臭素、フッ素またはヨウ素を意味する。
「ヒドロキシル保護基」および「アミン保護基」等の「保護基」という用語は、当業者に十分に理解されている。特に、当業者は、ヒドロキシルおよび一級および二級アミン基を保護するのに使用される様々な保護基を知っている。保護基としては、それらが本明細書に記載されている化学物質に好適に使用されるのであれば、例えばT.W.GreeneおよびP.G.M.Wutsの論文、「有機合成における保護基(Protecting Groups in Organic Synthesis)」(1991年)に記載されている基が挙げられる。ヒドロキシル保護基の具体的な例としては、メチル、ベンジル、ベンジルオキシメチルまたはアリルが挙げられる。
アミノ保護基は、当該技術分野でよく知られており、その全体が参照により本明細書に組み込まれている「有機合成における保護基(Protecting Groups in Organic Synthesis)」、T.W.GreeneおよびP.G.M.Wuts、第3版、John Wiley & Sons、1999に詳述されている基を含む。好適なアミノ保護基としては、それが結合されている−NH−部分と一緒に、アルキルアミン、カルバマート、アリルアミンおよびアミド等が挙げられるが、それらに限定されない。当該基の例としては、t−ブチルオキシカルボニル(BOC)、エチルオキシカルボニル、メチルオキシカルボニル、トリクロロエチルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル(Alloc)、ベンジルオキソカルボニル(CBZ)、アリル、ベンジル(Bn)、フルオレニルメチルカルボニル(Fmoc)、アセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、フェニルアセチル、トリフルオロアセチルおよびベンゾイル等が挙げられる。他の実施形態において、アミノ保護基は、アセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、フェニルアセチルまたはトリフルオロアセチルである。さらに他の実施形態において、アミノ基は、フタルイミドまたはアジ化物としての保護形態であってもよい。
特定の部分は、本明細書に記載されている特定の化学変換に適合しない(すなわち干渉しうる)ことを当業者なら理解するであろう。したがって、特定の化学変換において、特定の部分、例えばヒドロキシル基またはアミノ基(一級または二級)は、好ましくは、それらの変換の前に本明細書に記載されている好適な保護基で保護されることが理解されるであろう。例として、Rが−NHである場合は、アミノ基は、好ましくは、工程S−5の前に保護されることを当業者なら認識するであろう。
好適な脱離基は、当該技術分野でよく知られている。例えば、「高度有機化学(Advanced Organic Chemistry)」、Jerry March、第5版、pp.445-448、John Wiley and Sons、N.Y.を参照されたい。当該脱離基としては、ハロゲン、アルコキシ、スルホニルオキシ、所望により置換されたアルキルスルホニルオキシ、所望により置換されたアルケニルスルホニルオキシ、所望により置換されたアリールスルホニルオキシが挙げられるが、それらに限定されない。好適な脱離基の例としては、クロロ、ヨード、ブロモ、フルオロ、メタンスルホニル(メシル)、トシル、トリフリル、ニトロフェニルスルホニル(ノシル)およびブロモフェニルスルホニル(ブロシル)等が挙げられる。
本発明の化合物は、非対称原子を含有することができ、化合物のいくつかは、1つまたは複数の非対称原子または中心を含有することができるため、光学異性体(鏡像異性体)およびジアステレオ異性体を生じることができる。特定の実施形態において、非対称原子は、「」で示される。立体化学に無関係に示すと、本発明は、すべての光学異性体(鏡像異性体)およびジアステレオ異性体(幾何学異性体)、ならびにラセミ体および鏡像異性的に純粋の分解RおよびS立体異性体、ならびにRおよびS立体異性体、およびその医薬上許容される塩の他の混合物を含む。当業者に知られており、ジアステレオ異性体塩形成法、動力学的分解および不斉合成を含むが、それらに限定されない標準的な手順によって、光学異性体を純粋な形態で得ることができる。本発明は、当業者に知られており、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィーおよび高速液体クロマトグラフィーを含むが、それらに限定されない標準的な分離手順によって純粋な形態で得ることができるすべての可能な位置異性体、およびそれらの混合物を包括することも理解される。したがって、本発明の化合物は、本明細書に示されている化合物のラセミ体、鏡像異性体および幾何学的異性体を含む。
本化合物のアトロプ異性体が存在しうることが認識される。したがって、本発明は、以上に定められ、以上および本明細書に記載されているクラスおよびサブクラスに含まれる式IおよびIIの化合物のアトロプ異性体を包括する。アトロプ異性体に関する定義および広範な論説については、全面的に参照により本明細書に組み込まれているEliel, E.L.、「有機化合物の立体化学(Stereochemistry of organic Compounds)」(John Wiley & Sons、1994、p.1142)を参照されたい。
「医薬上許容される塩」という用語は、式Iの化合物を、例えば酢酸、乳酸、クエン酸、経皮酸、酒石酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、マンデル酸、リンゴ酸、シュウ酸、プロピオン酸、塩酸、臭化水素酸、リン酸、硝酸、硫酸、グリコール酸、ピルビン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トルエンスルホン酸、サリチル酸、安息香酸、または同様に知られている許容可能な酸等の有機または無機酸で処理することから誘導される塩を意味する。特定の実施形態において、本発明は、式Iの化合物の塩酸塩を提供する。
いくつかの実施形態において、本発明の特定の反応は、立体選択的である。他の実施形態において、本発明の特定の反応は立体特異的である。
本明細書に用いられている「立体特異的」という用語は、空間構成のみが異なる出発材料が立体異性的に特異的な生成物に変換される反応を意味する。例えば、立体特異的反応において、出発材料が鏡像異性的に純粋(100%の鏡像異性体過剰率「ee」)である場合は、最終生成物も鏡像異性的に純粋である。同様に、出発材料が約50%の鏡像異性体過剰率を有する場合は、最終生成物も約50%の鏡像異性体過剰率を有することになる。
本明細書に用いられている「立体選択的」とは、1つの立体異性体が好ましくは他の立体異性体の上に形成される反応を意味する。好ましくは、本発明の方法は、鏡像異性体過剰率が、ラセミ体に対する単一の鏡像異性体のモルパーセント過剰である少なくとも約30%、より好ましくは少なくとも約40%、最も好ましくは少なくとも約50%の鏡像異性体過剰率を有するジヒドロベンゾフランを生成する。
本明細書に用いられている「鏡像異性体過剰率」または「%ee」は、ラセミ体に対する単一鏡像異性体のモルパーセント過剰を意味する。
本明細書に用いられている「キラル非ラセミ体」という用語は、「鏡像異性的に豊富な」と区別なく用いられ、一方の鏡像異性体が配合物の50%を上回る割合を占めることを意味する。特定の実施形態において、鏡像異性的に豊富なという用語は、配合物の少なくとも60%が、鏡像異性体のうちの一方であることを意味する。他の実施形態において、該用語は、配合物の少なくとも75%が鏡像異性体のうちの一方であることを意味する。他の実施形態において、該用語は、配合物の少なくとも95%が鏡像異性体のうちの一方であることを意味する。キラル分子の非ラセミ混合物を意味する。いくつかの実施形態において、キラル非ラセミ化合物は、約30%eeを上回る。他の実施形態において、該化合物は、約50%eeを上回り、約80%eeを上回り、約90%eeを上回り、95%eeを上回り、99%eeを上回る。本明細書に記載されている任意の化学式における「」は、キラル炭素を指す。
本発明の方法は、好ましくは、少なくとも約30%、より好ましくは少なくとも約50%、最も好ましくは少なくとも約95%の鏡像異性体過剰率を有するジヒドロベンゾフラン誘導体を生成する。
本明細書に用いられている「有機不純物」とは、所望のジヒドロベンゾフラン生成物に存在する任意の有機副産物または残留物質を意味し、残留溶媒または水を含まない。「全有機不純物」とは、所望のジヒドロベンゾフラン生成物に存在する有機不純物の全量を意味する。全有機不純物および単一最大不純物等の有機不純物率は、特に指定のない限り、本明細書では、HPLCクロマトグラムの全面積に対するHPLC面積率で表される。HPLC面積率は、所望の生成物、および最大数の有機不純物が吸収する波長で報告される。
一態様によれば、本発明は、式IIの鏡像異性的に豊富な化合物、またはその医薬上許容される塩を調製するための方法を提供する。
Figure 2008517919
II
(式中、
qは、1または2であり、
2aおよびR3aの各々は、独立に、水素、メチル、エチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフルオロエチルまたはシクロプロピルであり、
各R1aは、独立に、水素、ハロゲン、OH、低級アルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキシまたはCNであり、
Arは、チエニル、フリル、ピリジルまたはフェニルであり、Arは、1つまたは複数のR置換基で所望により置換されており、
各Rは、ハロゲン、OH、低級アルキル、低級アルコキシ、低級ハロアルキル、低級ハロアルコキシまたはCNから独立に選択され、
yは、0、1、2または3である。)
以上に全体的に定められるように、式IIのAr基は、チエニル、フリル、ピリジルまたはフェニルであり、Arは、ハロゲン、OH、低級アルキル、低級アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシまたはCNから独立に選択される1個または複数個の置換基で所望により置換されている。特定の実施形態において、式IIのAr基は、無置換のフェニルである。他の実施形態において、式IIのAr基は、オルソ位に少なくとも1個の置換基を有するフェニルである。他の実施形態において、式IIのAr基は、ハロゲン、低級アルキル、低級アルコキシまたはトリフルオロメチルから選択される少なくとも1個の置換基をオルト位に有するフェニルである。他の態様によれば、本発明は、式II(式中、Arは、独立に選択されたハロゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシでオルトおよびメタ位が二置換されたフェニルである)の化合物を提供する。本発明のさらに他の態様は、式II(式中、Arは、独立に選択されたハロゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシでオルトおよびパラ位が二置換されたフェニルである)の化合物を提供する。他の実施形態において、本発明は、式II(式中、Arは、独立に選択されたハロゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシで2つのオルト位が二置換されたフェニルである)の化合物を提供する。式IIのAr基のフェニル部分に対する例示的な置換基としては、OMe、フルオロ、クロロ、メチルおよびトリフルオロメチルが挙げられる。
特定の実施形態において、本発明は、式IIIaまたはIIIbの化合物、またはその医薬上許容される塩を調製するための方法を提供する。
Figure 2008517919
(式中、各R1a、R2a、R3a、R、yおよびqは、式IIの化合物について以上に定められた通りであり、以上および本明細書に記載されているクラスおよびサブクラスに含まれる。)
他の実施形態によれば、本発明は、式IIIcまたはIIIdの化合物、またはその医薬上許容される塩を調製するための方法を提供する。
Figure 2008517919
(式中、各R1a、R2a、R3a、Z、yおよびqは、式IIの化合物について以上に定められた通りであり、以上および本明細書に記載されているクラスおよびサブクラスに含まれる。)
本発明は、本発明の方法の中間体にも関する。
特定の実施形態において、本発明は、式I:
Figure 2008517919

(式中、
mは、0〜3であり、
は、CN、NまたはN(R)(R)であり、
およびRは、それぞれ独立に、水素、アミン保護基、C〜Cアルキル、低級ハロアルキル、3〜6員の脂環式基、またはアルキル脂環式基であり、あるいはRおよびRは、それらが結合している窒素と一緒になって、環式アミン保護基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する3〜6員の飽和または部分不飽和環を形成し、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
Arは、所望により置換された6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
の化合物を調製するための方法であって、
上記スキームIに示されている工程の1つまたは複数を含む方法を提供する。特定の実施形態において、前記方法は、上記スキームIに示されている工程のすべてを含む。
本明細書に用いられているように、「環式アミノ保護基」という用語は、例えば、フタルイミドおよびその誘導体を含むことを当業者なら理解するであろう。
いくつかの実施形態において、本発明は、式I−a:
Figure 2008517919
I−a
(式中、
mは、0〜3であり、
は、CN、NまたはN(R)(R)であり、
およびRは、それぞれ独立に、水素、アミン保護基、C〜Cアルキル、低級ハロアルキル、3〜6員の脂環式基、またはアルキル脂環式基であり、あるいはRおよびRは、それらが結合している窒素と一緒になって、環式アミン保護基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する3〜6員の飽和または部分不飽和環を形成し、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
Arは、所望により置換された6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
の化合物を調製するための方法であって、
式F−1:
Figure 2008517919
F−1
(式中、
mは、0〜3であり、
は、水素、または好適なヒドロキシル保護基であり、
ORは、好適な脱離基であり、
は、CN、NまたはN(R)(R)であり、
およびRは、それぞれ独立に、水素、アミン保護基、C〜Cアルキル、低級ハロアルキル、3〜6員の脂環式基、またはアルキル脂環式基であり、あるいはRおよびRは、それらが結合している窒素と一緒になって、環式アミン保護基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する3〜6員の飽和または部分不飽和環を形成し、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
Arは、所望により置換された6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
の化合物を与える工程と、
式F−1の化合物を式I−aの化合物、またはその医薬上許容される塩に変換する工程とを含む方法を提供する。
およびRの一方または両方が水素である場合は、Rの窒素は、好ましくは、ヒドロキシル基が式−ORの基に変換される前に保護されることを当業者なら理解するであろう。
いくつかの実施形態において、式IまたはI−aのAr基は、
Figure 2008517919
である。
(式中、
nは、0〜5であり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
特定の実施形態において、少なくとも1つのZ置換基は、フェニル環のオルト位に存在する。他の実施形態において、1つのZ置換基は、フェニル環のオルト位に存在し、少なくとも1つの他のZ置換基は、フェニル環のオルト、メタまたはパラ位に存在する。
一態様によれば、本発明は、Arが、オルトおよびメタ位において、ハロゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシで二置換されたフェニルである式IまたはI−aの化合物を提供する。本発明のさらに他の態様は、Arが、オルトおよびパラ位において、ハロゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシで二置換されたフェニルである式IまたはI−aの化合物を提供する。本発明のさらに他の態様は、Arが、両オルト位置において、ハロゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシで二置換されたフェニルである式IまたはI−aの化合物を提供する。式IまたはI−aのAr基のフェニル部分における例示的な置換基としては、OMe、フルオロ、クロロ、メチルおよびトリフルオロメチルが挙げられる。
特定の実施形態において、式IまたはI−aのAr基は、以下の式から選択される。
Figure 2008517919
特定の実施形態において、本発明は、式E−1:
Figure 2008517919
E−1
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
は、水素、または好適なヒドロキシル保護基であり、
は、CN、NまたはN(R)(R)であり、
およびRは、それぞれ独立に、水素、アミン保護基、C〜Cアルキル、低級ハロアルキル、3〜6員の脂環式基、またはアルキル脂環式基であり、あるいはRおよびRは、それらが結合している窒素と一緒になって、環式アミン保護基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する3〜6員の飽和または部分不飽和環を形成し、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物を調製するための方法であって、
(a)式C−1:
Figure 2008517919
C−1
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
Xは、ハロゲンであり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物を与える工程と、
(b)式C−1の化合物を、式C−2:
Figure 2008517919
C−2
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
X’は、ハロゲンであり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物に変換する工程と、
(c)式C−2の化合物を、式:
Figure 2008517919
(式中、Lは、脱離基である)のキラル非ラセミ体エポキシドと反応させて、式D−1:
Figure 2008517919
D−1
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物を生成する工程と、
(d)式D−1の化合物を式E−1の化合物に変換する工程とを含む方法を提供する。
特定の実施形態において、式D−1の化合物は、所望により好適な溶媒の存在下で、式D−1の化合物を式H−Rおよび/またはM−Rの化合物で処理することによって式E−1の化合物に変換される。特定の実施形態において、Rは、−N(R)(R)であり、フタルイミドである。他の実施形態において、Rは、Nである。
特定の他の実施形態において、式E−1の化合物の調製は、
(a)式:
Figure 2008517919
C−1
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
Xは、ハロゲンであり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物を与える工程と、
(b)式C−1の化合物を、式C−2:
Figure 2008517919
C−2
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
Xは、ハロゲンであり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物に変換する工程と、
(c)式C−2の化合物を、式:
Figure 2008517919
(式中、Lは脱離基である)のキラル非ラセミ体エポキシドと反応させて、式:
Figure 2008517919
の少なくとも1つの化合物を生成する工程と、
(d)式D−1またはD’−1の化合物を式E−1の化合物に変換する工程とを含む。
特定の実施形態において、式D−1またはD’−1の化合物は、所望により好適な溶媒の存在下で、式D−1またはD’−1の化合物を式H−Rおよび/またはM−Rの化合物で処理することによって式E−1の化合物に変換される。特定の実施形態において、Rは、−N(R)(R)であり、フタルイミドである。
特定の態様において、本発明は、式Iの化合物の調製が、
(a)式:
Figure 2008517919

(式中、
mは、0〜3であり、
は、水素または好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Rは、独立に、水素またはC〜Cアルキルである)
の化合物を与える工程と、
(b)式Aの化合物を、パラジウム触媒の存在下で、式A−1:
Figure 2008517919
A−1
(式中、
nは、0〜5であり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシであり、
は、Cl、Br、I、トリフリルオキシ(−OSOCF)または他のパーフルオロアルキルスルホニルオキシである)
の化合物に接触させて、式B−1:
Figure 2008517919
B−1
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
は、水素または好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物を生成する工程と、
(c)式B−1の化合物をハロゲン化剤に接触させて、式C−1:
Figure 2008517919
C−1
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
Xは、ハロゲンであり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物を生成する工程とを含む方法に関する。
特定の実施形態において、Rは、C〜Cアルキルである、いくつかの実施形態において、Xは、Brである。特定の実施形態において、上記工程(b)(スズキカップリング工程)は、当該技術分野でよく知られている条件を用いて実施される。例えば、Miyaura, N;Suzuki, A. Chem. Rev. 1995、95、2457を参照されたい。特定の実施形態において、工程(b)におけるスズキカップリングは、パラジウム含有化合物の存在下で実施される。他の実施形態において、パラジウム含有化合物は、Pd(PPhである。該反応を塩基の存在下で実施することもできる。特定の実施形態において、塩基は、MOH、MCOまたはMPOであり、各Mは、独立にアルカリ金属である。いくつかの実施形態において、アルカリ金属は、ナトリウム、カリウムまたはリチウムである。他の実施形態において、工程(b)は、NaOHの存在下で実施される。該反応は、所望により溶媒の存在下で実施される。工程(b)におけるカップリングのための好適な溶媒としては、ジメトキシエタン、トルエン、エタノール、イソプロパノール、メタノールおよびテトラヒドロフラン(THF)が挙げられる。特定の実施形態において、(b)の工程のカップリングのための好適な溶媒としては、水が挙げられる。特定の実施形態において、スズキカップリング反応は、約20℃から、溶媒またはその混合物を還流させるのに十分な温度付近の範囲の温度で実施される。他の実施形態において、カップリング反応は、約60から約90℃で実施される。さらに他の実施形態において、カップリング反応は、約70から約80℃で実施される。
本発明のいくつかの実施形態は、式C−1の化合物の式D−1の化合物への変換が、
(a)式C−1の化合物をグリニャール試薬またはマグネシウム金属に接触させて、式C−2:
Figure 2008517919
C−2
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
X’は、ハロゲンであり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
の化合物を形成する工程と、
(b)式C−2の化合物を、式:
Figure 2008517919
(式中、Lは脱離基である)のキラル非ラセミ体エポキシドに接触させて、式D’−1:
Figure 2008517919
D’−1
の化合物を形成する工程と、
(c)式D’−1の化合物を好適な塩基に接触させて、式D−1:
Figure 2008517919
D−1
の化合物を生成する工程とを含む方法に関する。
特定の実施形態において、式C−2の化合物と、
Figure 2008517919
とを接触させる工程は、銅塩の存在下で行われる。いくつかの実施形態において、この工程は、約−15℃から約−35℃の温度で行われる。さらに他の実施形態において、この工程は、約−20℃から約−25℃の温度で行われる。いくつかの実施形態において、銅塩は、CuCN、LiCuClまたはCuIである。一実施形態によれば、銅塩は、CuIである。特定の実施形態において、グリニャール試薬は、塩化イソプロピルマグネシウムである。
本発明のいくつかの実施形態は、式Eの化合物が、
Figure 2008517919
E−2
である方法に関する。
(式中、
mは、0〜3であり、
nは、0〜5であり、
X’は、ハロゲンであり、
は、水素または好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
これらの方法のうちの特定の方法において、式E−2の化合物をRyClおよび好適な塩基に接触させて、式F−2:
Figure 2008517919
F−2
(式中、R、n、m、YおよびZは、以上に定められた通りであり、−ORは、所望により置換されたアルキルスルホニルオキシ、所望により置換されたアルケニルスルホニルオキシ、または所望により置換されたアリールスルホニルオキシである)
の化合物を生成する。当該R基の例としては、メタンスルホニル(メシル)、トシル、トリフリル、ニトロ−フェニルスルホニル(ノシル)およびブロモ−フェニルスルホニル(ブロシル)が挙げられる。
特定の実施形態において、本明細書に定められている式F−2の化合物をメチルエーテル開裂剤に接触させて、式G−2:
Figure 2008517919
G−2
(式中、n、m、YおよびZは、本明細書に定められている通りである)
の化合物を生成する。
特定の実施形態において、化合物G−2のフタルイミド部分を除去して、式I−a:
Figure 2008517919
I−a
(式中、n、m、YおよびZは、本明細書に定められている通りである)
の化合物を形成する。他のアミノ保護基が、すなわちフタルイミド基の代わりに、利用される場合は、それらの保護基を好適な手段によって除去して、式I−aの化合物を形成することが可能であることを当業者なら理解するであろう。
いくつかの実施形態において、メチルエーテル開裂剤は、BI、BBr、AlIまたはAlBrから選択される。他の実施形態において、前記薬剤は、BBrである。
特定の実施形態において、式G−2の化合物のフタルイミド部分は、式G−2の化合物をヒドラジンに接触させることを含む方法で式I−aの化合物に変換される。いくつかの実施形態において、ヒドラジンは、ヒドラジン水和物である。
特定の好ましい実施形態において、ヒドラジン接触工程は、アルコールまたはTHF溶媒、またはそれらの混合物の存在下で行われる。
いくつかの態様において、本発明は、式Iの化合物が、
Figure 2008517919
またはその医薬上許容される塩である方法に関する。
以上に概説したように、本発明は、式I:
Figure 2008517919

(式中、
mは、0〜3であり、
は、CN、NまたはN(R)(R)であり、
およびRは、それぞれ独立に、水素、アミン保護基、C〜Cアルキル、低級ハロアルキル、3〜6員の脂環式基、またはアルキル脂環式基であり、あるいはRおよびRは、それらが結合している窒素と一緒になって、環式アミン保護基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する3〜6員の飽和または部分不飽和環を形成し、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
Arは、所望により置換された6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
の化合物を調製するための方法を提供する。
式IのR基がCNである場合は、シアノ基を還元して、式I’:
Figure 2008517919
I’
(式中、m、YおよびArは、本明細書に定められている通りである)
の化合物を形成できることを当業者なら理解するであろう。
したがって、本発明の他の実施形態は、式I’:
Figure 2008517919
I’
(式中、
mは、0〜3であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
Arは、所望により置換された6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
の化合物を調製するための方法であって、
(a)式D:
Figure 2008517919

(式中、
mは、0〜3であり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
Arは、所望により置換された6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
の化合物を与える工程と、
(b)式Dの前記化合物を、Mが好適な金属である化合物M−CNで処理して、式H:
Figure 2008517919

(式中、
mは、0〜3であり、
は、好適なヒドロキシル保護基であり、
各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
Arは、所望により置換された6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
の化合物を形成する工程と、
(c)化合物Hのヒドロキシル基を好適な脱離基に変換する工程と、
(d)得られた化合物を環化して、式J:
Figure 2008517919

(式中、m、ArおよびYは、本明細書に定められている通りである)の化合物を形成する工程と、
(e)シアノ基を還元して、式I’の化合物を形成する工程とを含む方法を提供する。
他の態様において、本発明は、中間体および副産物を含む、本明細書に記載されている方法の生成物に関する。
特定の実施形態において、本発明の化合物は、以下の合成スキームIIに従って合成される。この不斉合成を用いて、適切なグリシジルトシレートを使用することにより、反対の鏡像異性体を鏡像異性体過剰に合成できることを当業者なら認識するであろう。
Figure 2008517919
上記反応工程の各々を以下により広く説明する。以下に記載され、スキームIIに例示されているこれらの反応工程を広く適用して、本発明の化合物を形成することが可能であることを当業者なら理解するであろう。
以下のスキームIIIのスズキ反応のための触媒および反応条件は、当該技術分野でよく知られている。例えば、Miyaura, N;Suzuki, A. Chem. Rev. 1995、95、2457を参照されたい。特定の実施形態において、スキームIIIに示される反応は、パラジウム含有化合物の存在下で実施される。特定の実施形態において、パラジウム含有化合物は、Pd(PPhである。反応を塩基の存在下で形成することもできる。特定の条件において、塩基は、MOH、MCOまたはMPO(式中、Mはアルカリ金属である)である。いくつかの実施形態において、アルカリ金属は、ナトリウム、カリウムまたはリチウムである。反応を溶媒の存在下で実施することもできる。好ましい溶媒としては、ジメトキシエタン、トルエン、エタノール、イソプロパノール、メタノール、テトラヒドロフラン(THF)、およびそれらの組合せが挙げられる。他の実施形態において、さらに水を含む。特定の実施形態において、反応は、約40℃から、溶媒を還流させるための温度付近の範囲の温度で実施される。
Figure 2008517919
特定の好ましい実施形態において、以下のスキームIVに使用される臭化剤は、臭素、またはN−Br基(例えばN−ブロモスクシンイミド)を含有する化合物のいずれかである。他の臭化剤は、当業者によく知られている。特定の実施形態において、1つまたは複数の添加剤が反応に使用される。これらの添加剤としては、HSO(例えば、N−Br臭化剤とともに使用される)、ルイス酸、またはAcONa(例えば、臭素とともに使用される)等の無機酸が挙げられる。反応のための好ましい溶媒としては、ジオキサン、THF、酢酸または塩素化溶媒が挙げられる。塩素化溶媒としては、CHCl、CHCl、CClまたはジクロロエタン等が挙げられる。いくつかの実施形態において、該反応は、約18℃から溶媒還流温度付近までの温度で実施される。他の実施形態において、添加剤は、p−トルエンスルホン酸であり、溶媒は、酢酸またはギ酸である。
Figure 2008517919
いくつかの実施形態において、以下のスキームVに使用されるマグネシウム含有試薬はMg金属またはRMgX(式中、Rはアルキルであり、Xはハロゲンである)である。好ましい溶媒としては、THFおよびジアルキルエーテルが挙げられる。好ましい触媒としては、銅塩が挙げられる。当該銅塩は、好ましくは、出発材料を基準として約1から100モル%の量で使用される。特定の実施形態において、銅塩は、CuIである。このスキームに使用される好ましい塩基としては、MOHおよび、MCO(式中、Mはアルカリ金属である)が挙げられる。スキームVにおける「OT」は、脱離基トシレートを表す。該塩基をそのまままたは水溶液として使用することが可能である。特定の実施形態において、グリニャール形成は、約−50℃から約−10℃の温度で実施される。他の実施形態において、該反応は、約−18℃未満で実施される。特定の実施形態において、アルキル化工程は、約0℃から約50℃で実施される。他の実施形態において、スキームXにより詳しく記載されているように、エポキシド形成は必要でないため、(以下の実施例3に記載されている)その工程を省略することが可能である。
Figure 2008517919
以下のスキームVIに示されている反応において、Pht−NHおよびPht−NMは、それぞれフタルイミド、およびMが金属であるその塩を表す。スキームVIのいくつかの実施形態において、フタルイミド試薬は、混合物である必要はなく、スキームXにより詳しく記載されているように、例えばPht−NMのみであってもよい。保護アミン、または式HNRおよび/またはMNR(式中、RおよびRは本明細書に既に定められている)を有するアミン等の非反応性アミンを与える他の試薬を使用できることを当業者なら認識するであろう。特定の実施形態において、Mは、第I族の金属である。いくつかの実施形態において、Mは、K、LiまたはNaである。いくつかの好ましい実施形態において、Pht−NHの量は、Pht−NMの1当量以上である。特定の実施形態において、Pht−NHの1当量当たり約0.1から約1当量のPht−NMが好ましい。この工程のための好ましい溶媒としては、DMF、DMSOおよびNMPが挙げられる。いくつかの実施形態において、該反応は、約40℃から約130℃の温度で実施される。
Figure 2008517919
以下のスキームVIIにおいて、塩基は、いくつかの実施形態では、三級アミンまたはMCO(式中、Mは第I族の金属である)である。好ましい溶媒としては、トルエンまたは任意の塩素化溶媒、THFおよびジアルキルエーテルが挙げられる。いくつかの実施形態において、好ましい反応温度は、約0℃から約60℃である。特定の実施形態において、ORは、メシレート(「OMs」)脱離基である。
Figure 2008517919
以下のスキームVIIIに示されている反応では、BBr等のメチルエーテル開裂基が使用される。使用できる他の開裂剤としては、Greene, T. W.、Wuts, P. G. M.、「有機合成における保護基(Protective Groups in Organic Synthesis)」、第3版;Wiley & Sons、New York、1999に記載されている開裂剤が挙げられる。好ましい溶媒としては、任意の塩素化溶媒またはトルエンが挙げられる。いくつかの実施形態において、好ましい反応温度は、約−10℃から約25℃である。
Figure 2008517919
保護アミンが、上記反応スキーム(Rおよび/またはRは、アミン保護基である)に使用される場合は、好ましくは、環化後に形成された化合物は脱保護される。以下のスキームIXは、脱保護して、式I(式中、RおよびRは水素である)の化合物を形成するための1つの当該方法を示す。スキームIXの特定の好ましい実施形態において、試薬R’NHNH(式中、R’は、H、C〜Cアルキルまたはアリールである)を使用してフタルイミドアミン保護基を除去する。脱保護工程のための好ましい溶媒としては、THFおよびR’’OH(式中、R’’はC〜Cアルキルである)が挙げられる。脱保護工程のための好ましい温度は、40℃から、溶媒還流温度付近である。塩形成のための好ましい溶媒としては、ジアルキルエーテルまたはR’’OH(式中、R’’はC〜Cアルキルである)が挙げられる。HCl等の任意の医薬上許容される酸を使用して、式IVの医薬上許容される塩を所望により形成することができる。塩形成のための好ましい温度は、約18℃から約30℃を含む。
Figure 2008517919
塩酸2(R)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを製造するための方法を以下のスキームXに示す。不斉合成を用いて、以下の工程3aに適切なグリシジルトシレートを使用することにより、対応する「S」鏡像異性体を鏡像異性体過剰に合成できることを当業者なら認識するであろう。スキームXの各工程を以下により詳しく記載する。
Figure 2008517919
上記スキームXの工程1aにおいて、2,6−ジクロロブロモベンゼンと2−メトキシ−5−フルオロ−ベンゼンホウ酸をスズキカップリング反応により反応させて、2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルを形成する。カップリングは、パラジウム触媒および塩基の存在下で実施される。カップリングは、好ましくは、ジメトキシエタン、エタノール、テトラヒドロフラン、イソプロパノールまたはメタノール、またはそれらの組合せ等の溶媒の存在下で実施される。
本発明の実施形態において、水酸化ナトリウムの水溶液を2,6−ジクロロブロモベンゼン、2−メトキシ−5−フルオロベンゼンホウ酸、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh)およびジメトキシエタン(DME)の混合物に添加する。2−メトキシ−5−フルオロ−ベンゼンホウ酸のジクロロブロモベンゼンに対するモル比は、例えば約1:1から約2:1であってもよい。好ましくは、NaOHは、ジクロロブロモベンゼンを基準として約2から約5当量の量で使用される。パラジウム触媒をジクロロブロモベンゼンを基準として約1%から5%の量で使用することができる。他の実施形態において、NaOHの代わりにKOH等の他の塩基を工程1aに使用してもよい。反応副産物を最小限にするためには、反応温度は、好ましくは少なくとも約50℃、より好ましくは約60℃から約90℃、最も好ましくは約70℃から約80℃である。カップリング反応が所望の程度まで完了した後に、混合物を冷却し、相を分離させる。反応混合物を濃縮し、ヘプタン等の有機溶媒を添加する。例えば、水で洗浄し、得られた混合物をシリカに接触させた後に濾過することによって、2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルの精製を行うことができる。2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルを以下に記載するように濃縮し、工程2aにそのまま使用することができる。工程1aの反応収率は、好ましくは約88〜92%である。
スキームXの工程2aにおいて、有機酸の存在下で臭化剤を使用して、2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルを臭化する。一実施形態において、N−ブロモスクシンイミド(NBR)を臭化剤として使用し、トルエンスルホン酸(pTSA)を有機酸として使用する。例えば酢酸またはギ酸等の反応溶媒を使用することもできる。
工程2aの一実施形態において、2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルを真空下で濃縮する。所望により、酢酸またはギ酸等の溶媒を添加し、チェイサーとして除去し、中間体をさらに精製する。2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルに対してN−ブロモスクシンイミド(NBS)、パラ−トルエンスルホン酸(pTSA)および酢酸を添加する。NBSの量は、好ましくは、2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルを基準として約1当量から約1.5当量である。pTSAの量は、好ましくは、2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニルのモル数を基準として約0.1当量から約0.5当量である。好ましくは、懸濁物を約50℃から約55℃に加熱し、約24時間攪拌する。反応物をメタ重亜硫酸ナトリウムの水溶液で急冷し、濾過により生成物を回収する。臭化の収率は、好ましくは、約88%から約92%である。工程1aおよび2aの全体収率は、好ましくは、約77%から約85%である。他の実施形態において、酢酸の代わりにギ酸を使用することが可能である。得られた3−ブロモ−2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニルを工程3aにそのまま使用するか、あるいは酢酸と水またはヘプタンの混合物等の好適な溶媒から再結晶することが可能である。
スキームXの工程3a(i)において、3−ブロモ−2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニルをグリニャール試薬と反応させて、式C−2(Yは5−フッ素であり、Zは2および6位が塩素であり、Rはメチルであり、X’はClおよび/またはBrである)の化合物を形成する。一実施形態において、グリニャール試薬は、塩化イソプロピルマグネシウムのテトラヒドロフラン(THF)溶液を、3−ブロモ−2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニルをTHFに溶解させた低温(例えば約−6から−3℃)の溶液に一滴ずつ添加することによって形成される。一実施形態において、得られた溶液を約−3から約2℃で約2から約3時間攪拌する。
スキームXの工程3a(ii)において、得られたグリニャール試薬を銅触媒の存在下で(2S)−(+)−グリシジルトシレートと反応させる。一実施形態において、式C−2のグリニャール試薬を好ましくは約−25から約−30℃に冷却し、CuIを添加する。好ましくは、CuIは、3−ブロモ−2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニルを基準として約0.01当量から約0.1当量の量で添加される。得られた混合物をこの温度範囲で例えば約30分から約45分間攪拌することができる。(2S)−(+)−グリシジルトシレートをTHFに溶解させた溶液を一滴ずつ混合物に添加する。(2S)−(+)−グリシジルトシレートは、好ましくは、3−ブロモ−2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニルを基準として約1当量から約1.5当量の量で添加される。好ましくは、この工程を通じて、反応温度は、約−29℃から約−21℃に維持される。(2S)−(+)−グリシジルトシレートの添加後に、反応混合物を例えばさらに3から4時間攪拌することができる。反応が完了すると、反応物を例えば塩化アンモニウム溶液で急冷することができる。有機層を分離し、好ましくはさらに洗浄し、トルエン等の溶媒で抽出し、濃縮して、油として以下のグリニャール試薬反応生成物中間体の1つまたは複数を得る。
Figure 2008517919
スキームIとは異なり、実施例3に示すように得られたグリニャール反応生成物中間体をNaOHに接触させて、ヒドロキシトシレートを対応するエポキシドに変換する必要はない。代わりに、上記グリニャール反応生成物中間体を工程4aで直接、すなわち単離せずに反応させることができる。
上記スキームXの工程4aにおいて、溶媒の存在下でグリニャール反応生成物中間体をカリウムフタルイミドに接触させて、(2S)−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−オールを形成する。
一実施形態において、グリニャール反応生成物中間体をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)に溶解させ、カリウムフタルイミドに接触させる。一実施形態において、出発ブロモ−2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルを基準として約1から約2当量のカリウムフタルイミドを使用する。他の実施形態において、接触は、約80℃から約86℃の温度で実施される。接触時間は、好ましくは約8から約10時間である。得られた粗(2S)−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−オールを、好適な溶媒による有機層の洗浄、蒸留および再結晶等の技術を用いて精製することができる。好ましくは、出発ブロモ−2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルの収率を基準とする収率は、約57%から約67%である。
スキームXの工程5aにおいて、(2S)−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−オールをアルコールメシル化して、メタンスルホン酸(2S)−3−[3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イルを形成する。一実施形態において、(2S)−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−オールをTHFに溶解させた溶液に対して、トリエチルアミン(TEA)を添加した後に、塩化メタンスルホニル(MsCl)を一滴ずつ添加する。一実施形態において、TEAは、(2S)−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−オール出発材料を基準として約1から約1.5当量の量で添加される。他の実施形態において、MsClは、(2S)−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−オール出発材料を基準として約1から約1.5当量の量で添加される。特定の実施形態において、TEAおよびMsClはともに約1.5当量の量で添加される。他の実施形態において、THFを使用する代わりに、ジクロロメタンおよびアセトニトリル等の他の溶媒を使用することができる。反応は、好ましくは、完了するまで、室温で例えば約1から約2時間実施される。反応が完了した後に、水を混合物に添加する。好ましくは、得られた白色の懸濁物を室温で約2時間攪拌する。メタンスルホン酸(2S)−3−[3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イルを濾過によって単離することができる。好ましくは、メタンスルホン酸(2S)−3−[3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イルは、約95%の収率で生成される。所望により、メタンスルホン酸(2S)−3−[3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イルをTHF等の溶媒、またはTHFと水のような溶媒の混合物にて再び再結晶させてもよい。しかし、1回の再結晶後に、鏡像異性体過剰率を例えば90%から80%に減少させることができる。
工程6aにおいて、メチルエーテル開裂を用いて、メタンスルホン酸(2S)−3−[3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イルを閉環反応させて、2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフランを形成する。一実施形態において、メタンスルホン酸(2S)−3−[3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イルをトルエンに懸濁させた攪拌懸濁物に対して、臭化ホウ素(BBr)を添加する。好ましくは、BBrは、メタンスルホン酸(2S)−3−[3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イル出発材料を基準として約1当量から約1.5当量の量で添加される。反応混合物は、好ましくは、出発材料の所望の変換が達成されるまで約18℃から約22℃の反応温度で攪拌される。好ましくは、当該変換は、約18時間以内に達成される。代替的な実施形態において、トルエンの代わりにジクロロメタンを使用することができる。当該実施形態において、反応温度は、約−78℃から室温付近(例えば23℃)であってもよい。反応の完了後に、例えば、混合物を約0℃から約5℃に冷却し、メタノールを添加して懸濁物を形成することによって、2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフランを単離することができる。2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフランを精製・濾過するために、懸濁物を濃縮し、さらなるメタノールを添加することができる。所望により、トルエン等の溶媒、またはトルエンとヘプタンのような溶媒の混合物にて生成物を再結晶することができる。鏡像異性体過剰率は、1回または2回の再結晶後に例えば93%から99%以上に向上しうる。
スキームXの工程7aにおいて、フタルイミド保護基を2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフランから除去して、2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを形成する。
一実施形態において、2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフランをエタノールと水の溶媒混合物に懸濁させた攪拌懸濁物に対して、ヒドラジン水化物を添加する。一実施形態において、エタノールの水に対する容量比は、約4:1から約3:2である。他の実施形態において、ヒドラジン水化物は、2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフラン出発材料を基準として約2当量から約5当量の量で添加される。好ましくは、反応混合物は、出発材料の所望の変換が達成されるまで加熱して還流され、攪拌される。一実施形態において、反応時間は、約2時間である。反応の完了後に、水およびt−ブチルメチルエーテル(TBME)を反応混合物に添加し、相を分離し、水相をTBMEで洗浄することによって、得られた2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを単離することができる。一緒にした有機層を1%水酸化ナトリウムで洗浄し、続いて水で洗浄する。
スキームXの工程8aにおいて、粗2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを塩酸塩に変換し、精製する。一実施形態において、TBME中の粗2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを減圧下で濃縮し、TBMEをイソプロパノールで置換する。2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフラン溶液に対して、塩酸をイソプロパノール(IPA)に溶解させた溶液を添加する。好ましくは、塩酸は、2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランのモル量を基準として約1から約1.5当量の量で存在する。IPA懸濁物に対して、水を添加する。混合物を、好ましくは、約75℃から約78℃に加熱して、透明の溶液を得る。この溶液を徐々に冷却し、濃縮する。生成物を濾過によって単離する。好ましくは、出発アミンを基準とする全体収率は、約82%から約92%である。鏡像異性体過剰率は、例えば、出発材料における97.8%から塩酸塩における98.6%に向上しうる。所望により、IPA等の溶媒、またはIPAと水のような溶媒の混合物にて生成物を再び再結晶することができる。
得られた塩酸2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランは、いくつかの実施形態において、針状の結晶を形成する。望まれる場合は、工程9aに示されるように、これらの結晶を粉砕して、さらなる処理に役立てることができる。
本発明の他の実施形態において、本発明の方法は、塩酸(2R)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する組成物を提供する。いくつかの実施形態において、該組成物は、塩酸(2R)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを少なくとも約97、97.5、98、98.5、99、99.5、99.8重量%(該百分率は、組成物の総重量を基準とする)の量で含有する。
いくつかの他の実施形態において、塩酸(2R)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する化合物は、組成物の総重量を基準として、イオンクロマトグラフィーで測定された約9.5重量%から約11.6重量%のHClを含有する。他の実施形態において、塩酸(2R)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する化合物は、組成物の総重量を基準として、イオンクロマトグラフィーで測定された約10重量%から約10.5重量%のHClを含有する。
他の実施形態において、塩酸(2R)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する化合物は、HPLCクロマトグラムの全面積に対して、好ましくは約2.0面積%以下のHPLCの全有機不純物、より好ましくは約1.5面積%以下のHPLCの全有機不純物を含有する。他の実施形態において、塩酸2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する化合物は、HPLCクロマトグラムの全面積に対して、好ましくは約0.6面積%以下のHPLCの任意の単一不純物、より好ましくは0.5面積%以下のHPLCの任意の単一不純物を含有する。他の実施形態によれば、塩酸2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する化合物は、HPLCクロマトグラムの全面積に対して、好ましくは約0.2面積%以下のHPLCの任意の単一不純物を含有する。さらに他の実施形態によれば、塩酸2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する化合物は、HPLCクロマトグラムの全面積に対して、好ましくは約0.2面積%以下のHPLCの任意の全不純物を含有する。
本発明のさらに他の実施形態において、塩酸(2R)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する化合物は、好ましくは、組成物の全重量を基準として、約0.5重量%のTHF、約0.5重量%のエタノール、約0.5重量%のイソプロピルアセテート、約0.5重量%のヘプタン、約0.5重量%のヘキサン、約0.5重量%のイソプロパノールおよび/または約0.5重量%のt−ブチルメチルエーテルを超えない残留溶媒を単独または任意の組合せで含有する。他の実施形態において、塩酸(2R)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを含有する化合物は、好ましくは、0.03重量%から約0.04重量%以下のエタノールおよび/または0.04重量%から0.05重量%以下のイソプロパノールを含有する。
他の実施形態において、本発明は、中間体に向けられる。特定の他の実施形態において、中間体の各々および1つまたは複数の有機不純物および/または1つまたは複数の残留溶媒を含む組成物が提供される。中間体の例としては、
Figure 2008517919
が挙げられる。
実験
塩酸2R−(−)−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフランを合成するための他の方法をスキームXIに例示し、以下の実施例により詳しく記載する。
Figure 2008517919
実施例1
1−メトキシ−4−フルオロ−2’,6’−ジクロロフェニル
Figure 2008517919
NaOH(54g、1.35mol)を水(400mL)に溶解させた、60℃に加熱した溶液に対して、ジメトキシエタン(400mL)を添加し、次いでジクロロブロモベンゼン(アルドリッチ、60g、0.267mol)およびホウ酸(50g、0.294mol)を添加した。得られた攪拌エマルジョンに対して、固体Pd(PPh(9.5g、8.2mmol)を添加し、100mLのDMEで洗い落とした。緑色混合物を還流加熱(約80℃)しながら、機械的に攪拌した。反応の過程をHPLCで監視した。2時間後に、9.0g(0.053mol)のさらなるホウ酸および2.0g(1.7mmol)の触媒を反応混合物に添加し、さらに16時間加熱した。その時点でさらなるホウ酸(5.8g、0.034mol)および触媒(0.5g、0.4mmol)を添加し、混合物をさらに7時間還流させた(全反応時間は23時間であった)。
加熱を添加し、600mLのヘプタンおよび300mLの水を添加した。混合物を室温まで冷却させ、次いでセライトで濾過した。層を分離し、有機層を水で洗浄し、塩水で3回洗浄し、MgSOで乾燥させ、マグネソールのパッドで濾過した。無色透明の溶液をロータリーエバポレータで濃縮して無色の油(重量72g)とした。該油を120mLのヘプタンで粉砕して、白色の固体を再結晶させた。混合物を冷蔵庫に一晩放置し、分離した結晶を濾過し、空気中で乾燥させた。収率は51g、純度は93%であった。主な不純物は、ホモカップリング生成物13であると判断された。ヘプタンから該物質をさらに再結晶させて、純度98%の結晶を得た。白色の結晶として収率45g(62%)であった。
実施例2
1−メトキシ−2−ブロモ−4−フルオロ−2’,6’−ジクロロビフェニル
Figure 2008517919
温度プローブが装備された500mL丸底フラスコに入れられた、ビアレン3(38.0g、0.140mol)を190mLのジオキサンに溶解させた磁気攪拌溶液に対して、濃硫酸を徐々に添加した。暖かい溶液に対して、固体NBS(26.7g、0.150mol)を1つ添加した(ここでは発熱は観察されなかった)。得られた溶液を50℃のマントルで加熱した。反応の進行をHPLCで監視した。18時間後に、微量の出発アレンが検出されただけであった。
反応混合物を室温まで冷却させ、次いで400gの氷に注いだ。ヘプタン(100mL)を添加し、混合物を分液漏斗に移した。水層を分離し、さらなるヘプタン(2×100mL)で抽出した。一緒にした有機溶液を水(30mL)で1回洗浄し、次いでNa溶液で洗浄し、最後に1MのNaOH溶液(2×30mL)で洗浄した。淡黄色透明の有機溶液をMgSOで乾燥させ、綿栓で濾過し、真空中で蒸発させた、得られた黄色の油を55mLのヘプタンに再度溶解させた。
第1のバッチの結晶(25.5g)を室温でヘプタン溶液から徐々に分離し、濾過し、空気中で乾燥させた。純度98%(215nmにおけるHPLC)の白色結晶で、融点は、67〜69℃であった。
第2のバッチの生成物(13.9g)を、乾燥氷アセトン浴で冷却し、沈殿した固体を濾別し、CaSOにより真空デシケータで乾燥させることによって単離した。純度97%(215nmにおけるHPLC面積%)の白色非晶質粉末で、融点は47〜56℃であった。全収率は、39.4g(80%)であった。H NMR(300MHz,CDCl)δ:7.42(m,J=8.1Hz,2H)、7.39(dd,J=3.0,7.7Hz,1H)、7.30(dd,J=8.1Hz,1H)、6.86(dd,J=3.0,8.0Hz,1H)、3.56(s,3H)。
実施例3
2−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル−2−メトキシベンジル]オキシラン
Figure 2008517919
グリニャール試薬の生成。臭化アリール(25.0g、71.4mmol)を、マグネチックスターラ、窒素導入口、温度プローブおよびゴム隔壁が装備された500mLフラスコに入れた。フラスコを窒素で過剰にパージし、次いで正の窒素圧力下に放置した。乾燥THF(100mL)をシリンジでフラスコに移した。溶液を氷浴で2℃まで冷却した。
i−PrMgClをTHFに溶解させた溶液(1.9M、アルドリッチ、39.5mL、75mmol)をシリンジでフラスコ中の溶液に徐々に添加した(添加時間は20分間で、温度を2℃と6℃の間に維持した)。得られた黄色の溶液を18時間にわたって浴中に放置して、室温にした。
グリシジルトシレートとの反応。部分的に凍結したジクロロエタン(融点−45℃)を含む浴中にフラスコを入れることによって、グリニャール試薬の溶液を−30℃まで冷却させた。CuCN(0.45g、5.0mmol、7モル%;アルドリッチ)を乾燥THF中のスラリーとしてシリンジでフラスコに加えた。得られた混合物を−30℃で1時間攪拌し、次いで10mLの乾燥THFに溶解させた(S)−(+)−グリシジルトシレート(15.5g、68mmol、アルドリッチ)を溶液に添加した(添加時間は30分間で、反応混号温度を−22℃と−29℃の間に維持した)。反応物を−31℃で2時間攪拌し、次いでDCE浴、部分的に凍結したo−キシレン浴に代えた。次の3時間で、温度を−18℃にした。急冷した一定部分のHPLC分析により、グリシジルトシレートが完全に消えていることがわかった。
低温の反応混合物に対して、(飽和溶液を水で1:1に希釈することによって調製された)100mLのNHCl水溶液を添加した。相を分離した。水層を50mLのMTBEで抽出した。一緒にした有機溶液を30mLの塩水で洗浄した。
エポキシドに対する閉合。中間体ヒドロキシトシレートの溶液に対して、20mLの10M原液(100mmol)を30mLの水と混合することによって調製されたNaOHの水溶を添加した。得られた二相混合物を、混合物が精細なエマルジョンに分解するようにマグネチックスターラで高速攪拌した。室温で18時間(HPLCで確認)放置した後に、混合物を分液漏斗に移し、相を分離した。水相を100mLのMTBEで抽出し、一緒にした有機溶液を塩水で洗浄し、MgSOで乾燥させた。濾紙によって濾過した後、淡黄色の溶液を真空中で蒸発させて、淡黄色の油としてのエポキシドと脱ブロモ−アレンの混合物を得、それを室温まで冷却すると固化した。重量は23.06gであった。混合物を精製せずに次の工程で使用した。
実施例4
2S−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−オール
Figure 2008517919
エポキシド(前の工程の22.6gの粗混合物、約67mmol)、フタルイミド(10.3g、70mmol)およびそのカリウム塩(12.9g、70mmol)を、マグネチックスターラ、窒素導入口および温度プローブが装備された250丸形フラスコに入れた。乾燥DMF(100mL)を混合物に添加した。反応フラスコを短時間窒素でパージし、次いで20時間攪拌しながら75℃で加熱した(進行をHPLCで監視した)。出発エポキシドが検出されなくなると、混合物を室温まで冷却し、次いで200mLの氷水スラッシュと混合した。生成物をMTBE(2×100mL)で抽出した。1MのNaOH水溶液2部、塩水3部および水5部(2×100mL)から調製された溶液で有機溶液を洗浄し、次いで中性のpHになるまで塩水で洗浄した。得られた有機溶液をMgSOで乾燥させ、濾紙で濾過し、真空中で蒸発させた。生成物は、蒸発中に結晶し始めた。溶媒の容量を約40mLに減少させ、次いで残渣を200mLのヘキサンで粉砕した。白色固体を濾過し、ヘキサンで洗浄し、空気中で乾燥させた。収率は、23.25g(グリシジルトシレートの量を基準として3工程で74%)であった。融点は165〜168℃であった。H NMR(300MHz,CDCl)δ:7.86(m,2H)、7.72(m,2H)、7.43(m,1H)、7.41(m,1H)、7.27(m,1H)、7.08(dd,J=3.0,8.8Hz,1H)、6.79(dd,J=3.0Hz,8.1Hz,1H)、4.23(d,J=3.3,4.3,5.7,7.9,8.5Hz,1H)、3.85(dd,J=3.3,14.1Hz,1H)、3.80(dd,J=8.5,14.1Hz,1H)、3.42(s,3H)、2.96(dd,J=4.3,13.9Hz,1H)、2.92(dd,J=7.9,13.9Hz,1H)、2.80(d,J=5.7Hz,1H)。ES MS、m/z:474(M+H)、Clアイソトープパターン。分析純度:97%(215nmにおけるHPLC面積%)。
実施例5
メチルスルホン酸2S−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イル
Figure 2008517919
マグネチックスターラ、温度プローブおよび添加漏斗が装備された500mLエルレンマイヤーフラスコに実施例4の生成物(22.0g、46.4mmol)、CHCl(200mL)およびトリエチルアミン(9.7mL、70mmol)を入れた。添加漏斗にCHCl(20mL)および塩化メタンスルホニル(5.4mL、70mL)を入れた。MsClの溶液をフラスコ中の攪拌溶液に一滴ずつ添加した(添加時間10分間)。反応混合物を室温で2時間攪拌させた(HPLCで確認した)。その時間中に白色の固体が分離した。
水(100mL)を反応混合物に添加しながら、高速攪拌した。約120mLのDCMをロータリーエバポレータで蒸留した。残渣を200mLのヘキサンで粉砕した。固体を濾過し、水およびヘキサンで過剰に洗浄した。ケーキをフィルタで1時間乾燥させ、次いでCaSOにより真空デシケータで一晩乾燥させた。繊毛状結晶として収率は25.2g(98%)であった。融点>200℃(分解)。
H NMR(300MHz,CDCl)δ:7.86(m,2H)、7.72(m,2H)、7.43(m,2H)、7.29(m,1H)、7.09(dd,J=3.1,8.5Hz,1H)、6.82(dd,J=3.1,8.3Hz,1H)、5.28(m,1H)、4.09(dd,J=8.6,14.6Hz,1H)、3.90(dd,J=3.3,14.6Hz,1H)、3.45(s,3H)、3.18(dd,J=5.4,14.0Hz,1H)、3.09(dd,J=7.8,14.0Hz,1H)、2.65(s,3H)。13C NMR(100MHz,dmso−d)δ:167.6、157.6(d,J=242Hz)、152.4(d,J=2Hz)、134.8、134.4、134.3(d,J=16Hz)、131.6、131.4(d,J=20Hz)、131.4、130.8、128.3、123.1、118.7(d,J=22Hz)、116.7(d,J=24Hz)、78.5、60.5、40.8、37.6、33.2。ES MS、m/z:552(M+H)、Clアイソトープパターン。分析純度:99.6%(215nmにおけるHPLC面積%)。
実施例6
2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフラン
Figure 2008517919
実施例5の生成物であるメタンスルホン酸2S−3−[5−フルオロ−3−(2,6−ジクロロフェニル)−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−イル(22.1g、40.0mmol)およびジクロロメタン(200mL)を、マグネチックスターラ、温度プローブ、窒素導入口および50mL添加漏斗が装備された500mLフラスコに入れた。フラスコおよび添加漏斗を短時間窒素でパージした。フラスコ内ノスラリーを氷浴で4℃まで冷却した。BBrをCHCl(アルドリッチ、42mL、42mmol)に溶解させた1M溶液を添加漏斗に入れ、フラスコの攪拌内容物に一滴ずつ添加した。攪拌を継続して、反応混合物の温度を2時間で16℃に到達させ、次いでさらに3時間にわたって室温にした。
反応混合物を、NaHCO(11g、131mmol)および200mLの水から調製された溶液に徐々に注ぐことによって急冷した。30分間攪拌した後に、層を分離した。水層をジクロロメタン(2×50mL)で抽出した。一緒にした有機溶液を100mLの水で洗浄し、次いでMgSOで乾燥させた。乾燥剤を濾別し、酢酸エチルで洗浄した。ロータリーエバポレータで濾液の容量を約50mLに減少させた。生成物は、白色または淡黄色の固体として分離した。スラリーを40mLのヘキサン−MTBE50:50混合物で粉砕し、固体を濾過し、上記溶媒混合物で洗浄し、フィルタで乾燥させた。
淡黄色の固体として収率は14.4g(82%)であった。融点は、222.5〜224.5℃であった。
H NMR(400MHz,dmso−d)δ:7.85(m,4H)、7.53(m,2H)、7.41(m,1H)、7.19(dd,J=2.7,8.2Hz,1H)、6.86(dd,J=2.7,9.3Hz,1H)、5.09(m,1H)、3.79(m,2H)、3.43(dd,J=9.3,16.6Hz,1H)、3.15(dd,J=5.9,16.6Hz,1H)。13C NMR(100MHz,dmso−d)δ:167.8、156.4(d,J=237Hz)、152.2、134.5、134.4(d,J=30Hz)、133.5、131.5、130.6、128.6(d,J=9.4Hz)、128.1(d,J=3.6Hz)、123.1、118.2、118.1、114.9(d,J=9.3Hz)、112.9(d,J=25Hz)、80.0、41.1、33.2。ES MS、m/z:442MH、Clアイソトープパターン。分析純度:99.9%(215nmにおけるHPLC面積%)。
実施例7
塩酸2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−アミノメチルベンゾフラン
Figure 2008517919
実施例6の生成物である2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフラン(12.9g、29.2mmol)を70mLのイソプロパノールおよび15mLの水と混合した。次いで、ヒドラジン水化物(ヒドラジン含有量55%、アルドリッチ、5mL、90mmol)を添加し、反応混合物を磁気攪拌し、静かに還流しながら2時間加熱した。出発材料の溶解および透明溶液の形成は、反応がなされていることを示すものであった。
高温溶液に対して、40mLの1MのNaOH水溶液および100mLの水を添加した。生成物をMTBH(3×50mL)で抽出した。一緒にした抽出物を60mLの0.2MのNaOH水溶液で洗浄し、次いで水(2×50mL)で洗浄し、最後に塩水(50mL)で洗浄した。得られた透明溶液をNaSOで1時間乾燥させ、濾紙で濾過し、真空中で蒸発させて、淡黄色の油を得た。
油を50mLのEtOAcに溶解させ、該溶液に対して、HClをジエチルエーテルに溶解させた2M溶液(アルドリッチ、15mL、30mmol)を迅速に添加した。塩が迅速に沈殿した。それを100mLのエーテルでスラリー化し、次いでスラリーを氷浴にて30分間攪拌した。塩を濾過し、100mLのエーテルで洗浄し、最初にフィルタが室温になるまで空気流にてフィルタ上で乾燥させ、次いでCaSOにより真空デシケータで一晩乾燥させた。白色結晶として収率は9.4g(92%)であった。融点は、231〜233℃であった。[α]D25=−18.2(MeOH、1重量%)。H NMR(400MHz,dmso−d)δ:8.25(広幅s,3H)、7.57(m,J=8.1Hz,2H),7.45(dd,J=8.1Hz,1H)、7.24(dd,J=2.6,8.1Hz,1H)、6.90(dd,J=2.6,9.6Hz,1H)、5.05(d,J=9.2,7.9,7.0,4.5Hz,1H)、3.45(dd,J=9.2,16.6Hz,1H)、3.17(dd,J=7.0,16.6Hz)、3.10(dd,J=13.4,4.5Hz,1H)、3.04(dd,J=13.4,7.9Hz,1H)。13C NMR(400MHz,dmso−d)δ:156.4(d,J=257Hz)、151.9、134.5、134.2、133.5、130.5、128.7(d,J=11Hz)、128.2(d,J=21Hz)、118.3(d,J=9Hz)、115.0(d,J=25Hz)、112.9(d,J=25Hz)、80.0、42.1、32.8。ES MS、m/z:312(M+H)、Clアイソトープパターン。鏡像異性体純度:99.4%ee(Chiracel OD−H0.46×25cmによるキラルHPLC、1mL/分90%ヘプタン/DIEA、10%エタノール、280nmにおける面積%)。分析純度:99.8%(Prodigy ODS30.46×15cmによるHPLC、1mL/分 水/TFA−MeCN/TFA 100分 勾配0−100%、215nmにおける面積%)。0.003〜0.06面積%の範囲の合計0.19%の17の不純物が検出された。C1513ClFNOについて、実測値では、C:51.59%、H:3.81%、N:3.87%、陰イオンCl:10.49%;計算値では、C:51.68%、H:3.76%、N:4.02%、陰イオンCl:10.17%。
実施例8
Figure 2008517919
2,6−ジクロロブロモベンゼン(0.6Kg、2.6556mol)、ホウ酸(0.588Kg、3.46mol)およびパラジウムテトラキストリフェニルホスフィン(0.0614Kg、0.053mol)をジメトキシエタン(6.0L)に溶解させた70℃の攪拌溶液に対して、水酸化ナトリウムの水溶液(0.53Kg、3.0Kg水中13.25mol)を添加する。混合物を18時間還流させる。混合物を冷却し、相を分離させる。反応混合物を濃縮し、ヘプタンを添加する。溶液を水で洗浄する。生成物溶液に対して、シリカゲルを添加する。懸濁物を2時間攪拌し、次いで濾過する。ヘプタンにおける溶液中の中間生成物である2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシ−ビフェニルを濃縮し、臭化工程にそのまま使用する。スズキカップリングの反応収率は、(88〜92%)である。
実施例9
Figure 2008517919
実施例8から得られた中間体の溶液を真空下で分解させ、チェイサーに酢酸を使用する。残渣に対して、N−ブロモスクシンイミド(0.575Kg)、パラ−トルエンスルホン酸(0.086Kg)および酢酸(3.35L)を添加する。懸濁物を(50〜55℃)に加熱し、24時間攪拌する。反応物をメタ重亜硫酸ナトリウムの水溶液で急冷し、濾過によって生成物を回収する。臭化の収率は、(88〜92%)である。全体収率は、(77〜85%)である。粗生成物を次の工程にそのまま使用するか、または作酸および水またはヘプタンから再結晶させることが可能である。
実施例10
Figure 2008517919
THF(2.0M)に含めた2.0M塩化イソプロピルマグネシウム(1.04Kg、2.14mol)を、実施例9の臭化物をTHF(2.64L)に溶解させた(−6から−3℃に予め冷却した)低温の溶液に一滴ずつ添加した後に、−3から2℃で2から3時間さらに攪拌して、グリニャール試薬の形成を完了することによって、グリニャール試薬を生成する。グリニャール試薬を−25〜−30℃に冷却し、触媒量のCuI(25.1g、0.132mol)を添加し、この温度範囲で30〜45分間にわたって混合物を攪拌する。低温反応混合物に対して、(2S)−(+)−グリシジルトシレート(0.409Kg、1.70mol)をTHF(0.413L)に溶解させた溶液を一滴ずつ添加し、添加中は反応温度を−29℃と−21℃の間に維持し、混合物をこの温度範囲でさらに3〜4時間攪拌する。低温反応混合物を15%塩化アンモニウム溶液で急冷した後に、適正に放置して、油としてのグリニャール反応生成物を得る。この生成物をDMFに溶解させ、カリウムフタルイミド(0.523Kg、2.82mol、1.5当量)とともに80から86℃で8〜10時間攪拌し、反応を進めて粗フタルイミド保護化合物を得、それをiPrOAc−ヘプタンから再結晶させる。
実施例11
Figure 2008517919
(2S)−3−[3−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2−メトキシフェニル]−1−N−フタルイミドプロパン−2−オール(0.374Kg、0.789mol)をTHF(1.75L)に溶解させた攪拌溶液に対して、トロエチルアミン(0.1194Kg、1.18mol)を添加した後に、塩化メタンスルホニル(0.1352Kg、1.18mol)を一滴ずつ添加する。混合物を室温で1〜2時間攪拌する。水(1.87L)を混合物に添加した後に、白色の懸濁物を室温で2時間攪拌する。生成物を濾過によって回収した。生成物は、収率95.0%、強度98.5%、全不純物1.06%、単一最大不純物0.47%、鏡像異性体過剰率98.7%で与えられ、スループットは、18.0%(R)、10.4%(W)である。
実施例12
Figure 2008517919
出発材料(400g、0.724mol)をトルエンに懸濁させた攪拌(18〜22℃)懸濁物に対して、三臭化ホウ素(200g、0.797mol)を添加する。反応混合物を(18〜22℃)で18時間攪拌する。反応混合物を(0〜5℃)に冷却し、混合物に対してメタノールを添加する。懸濁物を減圧蒸留で濃縮し、メタノールを残渣に添加する。懸濁物を加熱して還流させ、次いで(0〜5℃)に冷却し、1時間攪拌する。生成物を濾過により回収する。収率は、(80〜85%)である。
実施例13
Figure 2008517919
2R−7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロ−2−(N−フタルイミドメチル)ベンゾフラン(370g、0.837mol)をエタノール:水(3:2)に懸濁させた攪拌(18〜22℃)懸濁物に対して、ヒドラジン水化物(126g、2.51mol、3当量)を添加する。反応混合物を加熱して還流させ、2時間攪拌する。反応混合物に対して水(1.110L)およびTBME(1.110L)を添加する。相を分離させ、水相をTBMEで洗浄する。生成物溶液を1%水酸化ナトリウムで洗浄した後に、水で洗浄する。
TBME中の粗アミンを減圧下で濃縮し、TBMEをイソプロパノールに代える。アミン溶液に対して、塩酸をIPA(1.2当量)に溶解させた溶液を添加する。懸濁物に対して、水を3.8%添加し、混合物を加熱して、(75〜78℃)で透明な溶液を得る。この溶液を65℃に冷却し、接種し、65℃で30分間攪拌し、次いで55℃に冷却し、1時間攪拌する。懸濁物を(30〜35℃)に冷却し、真空下で濃縮し、次いで−10℃に冷却する。生成物を濾過により単離する。全体収率は(82〜92%)である。鏡像異性体過剰率は、出発材料における97.8%から98.6%に向上する。生成物をIPA/水から再結晶させて、鏡像異性体過剰率を98.9%に向上させ、回収率を91.5%にすることが可能である。
実施例14
Figure 2008517919
実施例14a
(S)−4−(2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニル−3−イル)−3−ヒドロキシブタンニトリル
(S)−2[(2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニル−3−イル)−メチル]オキシラン(2.28g、7.0mmol)およびシアン化ナトリウム(1.7g、34.8mmol)をDMF(90mL)および水(15mL)に溶解させた溶液を70℃で18時間加熱した。反応物を水で急冷した。混合物を塩化メチレンで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機溶媒を真空下で除去した。ヘキサン中10〜40%酢酸エチルによるクロマトグラフィーにより、淡黄色の油としての生成物1.65g(66%)を得た。MS ESI m/e 371.1(M+NH;[α]=+5.0°(MeOH中1%溶液)。
実施例14b
メタンスルホン酸(S)−1−シアノ−3−(2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニル−3−イル)プロパン−2−イル
(S)−4−(2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニル−3−イル)−3−ヒドロキシブタンニトリル(2.0g、5.6mmol)を塩化メチレン(20ml)に溶解させた溶液に対して、塩化メタンスルホニル(1.48ml、8.4mmol)およびトリエチルアミン(1.2ml、8.4mmol)を0℃で添加した。得られた混合物を室温で2時間攪拌した。反応物を水で急冷した。混合物を塩化メチレンで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機溶媒を真空下で除去した。ヘキサン中0〜40%酢酸エチルによるクロマトグラフィーにより、透明な油としての生成物1.77g(72.5%)を得た。MS ESI m/e 449.0(M+NH;[α]=−19.0°(MeOH中1%溶液)。
実施例14c
(R)−2−[7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−2−イル]アセトニトリル
メタンスルホン酸(S)−1−シアノ−3−(2’,6’−ジクロロ−5−フルオロ−2−メトキシビフェニル−3−イル)プロパン−2−イル(1.77g、4.1mmol)を塩化メチレンに溶解させた溶液に対して、三臭化ホウ素(0.58ml、6.2mmol)を−78℃で添加した。得られた混合物を−78°から15℃で一晩攪拌した。混合物を氷に注ぎ、塩化メチレンで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機溶媒を真空下で除去した。ヘキサン中0〜30%酢酸エチルによるクロマトグラフィーにより、透明な油としての生成物1.07g(81%)を得た。MS EI m/e 321M;[α]=−35.0°(MeOH中1%溶液)。
実施例14d
(R)−2−[7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−2−イル]エタンアミン
(R)−2−[7−(2,6−ジクロロフェニル)−5−フルオロ−2,3−ジヒドロベンゾフラン−2−イル]アセトニトリル(1.0g、3.1mmol)の溶液に対して、ホウ素−テトラヒドロフラン錯体(THF中1.0M、15.5mmol、16.5ml)を室温で添加した。得られた混合物を3時間還流させた。反応物を飽和塩化アンモニウムで急冷し、塩化メチレンで抽出した。有機層を水で洗浄した。溶媒を真空下で除去した。塩化メチレン中0〜10%酢酸エチル+1%水酸化アンモニウムによるクロマトグラフィーにより、透明な油を得た。油を酢酸エチルに溶解させ、過剰のエーテル性塩酸を使用してその塩酸塩にして、白色の固体0.56g(融点:238〜240℃)を得た。[α]=+49.0°(MeOH中1%溶液)。C1614FClNO・1HCl・0.6HOに対する元素分析 理論値:C、51.46 H、4.37 N,3.75;実測値:C、51.19 H、3.94 N、3.56
本明細書に引用されているすべての特許、刊行物および他の文献は、その内容を出典明示により本明細書の一部とする。

Claims (30)

  1. 式I−a:
    Figure 2008517919
    F−1
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    は、CN、NまたはN(R)(R)であり、
    およびRは、それぞれ独立に、水素、アミン保護基、C〜Cアルキル、低級ハロアルキル、3〜6員の脂環式基、またはアルキル脂環式基であるか、あるいはRおよびRは、それらが結合している窒素と一緒になって、環式アミン保護基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する3〜6員の飽和または部分不飽和環を形成し、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    Arは、置換されていてもよい6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
    の化合物を調製するための方法であって、
    式F−1:
    Figure 2008517919
    F−1
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    は、水素、または好適なヒドロキシル保護基であり、
    ORは、好適な脱離基であり、
    は、CN、NまたはN(R)(R)であり、
    およびRは、それぞれ独立に、水素、アミン保護基、C〜Cアルキル、低級ハロアルキル、3〜6員の脂環式基、またはアルキル脂環式基であるか、あるいはRおよびRは、それらが結合している窒素と一緒になって、環式アミン保護基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する3〜6員の飽和または部分不飽和環を形成し、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    Arは、置換されていてもよい6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
    の化合物を得る工程と、
    式F−1の化合物を式I−aの化合物、またはその医薬上許容される塩に変換する工程とを含む方法。
  2. Arが、
    Figure 2008517919
    (式中、
    nは、0〜5であり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    である請求項1に記載の方法。
  3. (a)式C−1:
    Figure 2008517919
    C−1
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    Xは、ハロゲンであり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物を得る工程と、
    (b)式C−1の化合物を、式C−2:
    Figure 2008517919
    C−2
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    X’は、ハロゲンであり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物に変換する工程と、
    (c)式C−2の化合物を、式:
    Figure 2008517919
    (式中、Lは、脱離基である)
    のキラル非ラセミ体エポキシドと反応させて、式D−1:
    Figure 2008517919
    D−1
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物を生成する工程と、
    (d)式D−1の化合物を式E−1の化合物に変換する工程とをさらに含む請求項2に記載の方法。
  4. (a)式:
    Figure 2008517919
    C−1
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    Xは、ハロゲンであり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物を得る工程と、
    (b)式C−1の化合物を、式C−2:
    Figure 2008517919
    C−2
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    Xは、ハロゲンであり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物に変換する工程と、
    (c)式C−2の化合物を、式:
    Figure 2008517919
    (式中、Lは脱離基である)
    のキラル非ラセミ体エポキシドと反応させて、式:
    Figure 2008517919
    の少なくとも1つの化合物を生成する工程と、
    (d)式D−1またはD’−1の化合物を式E−1の化合物に変換する工程とをさらに含む請求項2に記載の方法。
  5. (a)式:
    Figure 2008517919

    (式中、
    mは、0〜3であり、
    は、水素または好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Rは、独立に、水素またはC〜Cアルキルである)
    の化合物を得る工程と、
    (b)式Aの化合物を、パラジウム触媒の存在下で、式A−1:
    Figure 2008517919
    A−1
    (式中、
    nは、0〜5であり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシであり、
    は、Cl、Br、I、トリフリルオキシ(−OSOCF)または他のパーフルオロアルキルスルホニルオキシである)
    の化合物に接触させて、式B−1:
    Figure 2008517919
    B−1
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    は、水素または好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物を生成する工程と、
    (c)式B−1の化合物をハロゲン化剤に接触させて、式C−1:
    Figure 2008517919
    C−1
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    Xは、ハロゲンであり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物を生成する工程とをさらに含む請求項4に記載の方法。
  6. は、C〜Cアルキルである請求項5に記載の方法。
  7. Xは、Brである請求項5に記載の方法。
  8. 式C−1の化合物の式D−1の化合物への変換が、
    (a)式C−1の化合物をグリニャール試薬に接触させて、式C−2:
    Figure 2008517919
    C−2
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    X’は、ハロゲンであり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物を形成する工程と、
    (b)式C−2の化合物を、式:
    Figure 2008517919
    (式中、Lは脱離基である)のキラル非ラセミ体エポキシドに接触させて、式D’−1:
    Figure 2008517919
    D’−1
    の化合物を形成する工程と、
    (c)式D’−1の化合物を好適な塩基に接触させて、式D−1:
    Figure 2008517919
    D−1
    の化合物を生成する工程とを含む請求項3に記載の方法。
  9. 式C−2の化合物と
    Figure 2008517919
    の接触は、銅塩の存在下で行われる請求項8に記載の方法。
  10. 銅塩は、CuCN、LiCuClまたはCuIの少なくとも1つである請求項9に記載の方法。
  11. 式C−2の化合物と
    Figure 2008517919
    の接触は、約−15℃から約−35℃の温度で行われる請求項8から10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 式C−2の化合物と
    Figure 2008517919
    の接触は、約−25℃から約−20℃の温度で行われる請求項8から10のいずれか一項に記載の方法。
  13. グリニャール試薬は、塩化イソプロピルマグネシウムである請求項8から10のいずれか一項に記載の方法。
  14. 式I−a:
    Figure 2008517919
    I−a
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物を調製するための方法であって、
    (a)式E−2:
    Figure 2008517919
    E−2
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)
    の化合物をRClおよび好適な塩基に接触させて、式F−2:
    Figure 2008517919
    F−2
    (式中、Rは、置換されていてもよいアルキルスルホニル、置換されていてもよいアルケニルスルホニルオキシ、または置換されていてもよいアリールスルホニルオキシである)
    の化合物を生成する工程と、
    (b)式F−2の化合物をメチルエーテル開裂剤に接触させて、式G−2:
    Figure 2008517919
    G−2
    の化合物を生成する工程と、
    (c)式G−2の化合物を式I−aの化合物に変換する工程とを含む方法。
  15. メチルエーテル開裂剤が、BBrである請求項14に記載の方法。
  16. 式G−2の化合物をヒドラジンに接触させる工程を含む方法において、式G−2の化合物を式I−aの化合物に変換する請求項14に記載の方法。
  17. ヒドラジンが、ヒドラジン水化物、または式RNHNH(式中、Rは、H、C〜Cアルキル、または5〜10員のアリールである)の置換ヒドラジンである請求項16に記載の方法。
  18. ヒドラジン接触工程が、アルコールまたはTHF溶媒の存在下で行われる請求項17に記載の方法。
  19. 式I−aの化合物が、
    Figure 2008517919
    またはその医薬上許容される塩である請求項2に記載の方法。
  20. 式I’:
    Figure 2008517919
    I’
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    Arは、置換されていてもよい6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
    の化合物、またはその医薬上許容される塩を調製するための方法であって、
    (a)式D:
    Figure 2008517919

    (式中、
    mは、0〜3であり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    Arは、置換されていてもよい6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
    の化合物を与える工程と、
    (b)式Dの前記化合物を、Mが好適な金属である化合物M−CNで処理して、式H:
    Figure 2008517919

    (式中、
    mは、0〜3であり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    Arは、置換されていてもよい6〜10員のアリール、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリールである)
    の化合物を形成する工程と、
    (c)化合物Hのヒドロキシル基を好適な脱離基に変換する工程と、
    (d)得られた化合物を環化して、式J:
    Figure 2008517919

    (式中、m、ArおよびYは、本明細書に定められている通りである)の化合物を形成する工程と、
    (e)シアノ基を還元して、式I’の化合物を形成する工程とを含む方法。
  21. 式F−1またはE−1:
    Figure 2008517919
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    は、水素、または好適なヒドロキシル保護基であり、
    ORは、脱離基であり、
    は、CN、NまたはN(R)(R)であり、
    およびRは、それぞれ独立に、水素、アミン保護基、C〜Cアルキル、低級ハロアルキル、3〜6員の脂環式基、またはアルキル脂環式基であり、あるいはRおよびRは、それらが結合している窒素と一緒になって、環式アミン保護基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1〜2個のヘテロ原子を有する3〜6員の飽和または部分不飽和環を形成し、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    Arは、
    Figure 2008517919
    (式中、nは0〜5である)であり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシである)を有する化合物。
  22. は、Nまたは保護アミノ基である請求項21または22に記載の化合物。
  23. 式D−1またはD’−1:
    Figure 2008517919
    (式中、
    mは、0〜3であり、
    nは、0〜5であり、
    は、好適なヒドロキシル保護基であり、
    各Yは、独立に、水素、塩素、フッ素、CN、−OH、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜Cアルコキシ、C〜Cパーフルオロアルコキシ、6〜10員のアリール、6〜10員のアリールオキシ、窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から4個のヘテロ原子を有する5〜10員のヘテロアリール、C〜Cアルケニル、C〜Cアルカンスルホンアミド、アルキル部分毎に1から6個の炭素原子を有するジアルキルアミノ、C〜Cの脂環式基、または窒素、酸素もしくは硫黄から独立に選択される1から3個のヘテロ原子を有する3〜8員のヘテロシクロアルキルであり、
    各Zは、独立に、Cl、F、CN、−OH、シアノ、C〜Cアルキル、C〜Cパーフルオロアルキル、C〜CアルコキシまたはC〜Cパーフルオロアルコキシであり、
    Lは、脱離基である)を有する化合物。
  24. は、C〜Cアルキルである請求項21から23のいずれか一項に記載の化合物。
  25. 式I−a:
    Figure 2008517919
    I−a
    (式中、Y、mおよびArは、請求項22または23に定められている通りであり、Rは、アミノ基である)を有する化合物、またはその医薬上許容される塩を調製するための請求項22または23の一項に記載の化合物の使用。
  26. 式F−1(式中、Rは、Nまたは保護アミノ基であり、Y、mおよびArは、請求項22に定められている通りである)を有する化合物を環化して、式I−a(式中、Rは、Nまたは保護アミノ基である)を有する化合物を形成し、環化生成物に処理を施して、Nまたは保護アミノ基をアミノ基に変換する請求項25に記載の使用。
  27. 式I−aの化合物が、
    Figure 2008517919
    またはその医薬上許容される塩である請求項25または26に記載の使用。
  28. は、C〜Cアルキルである請求項25から27のいずれか一項に記載の使用。
  29. 式I’:
    Figure 2008517919
    (式中、m、YおよびArは、請求項21に定められている通りである)
    の化合物、またはその医薬上許容される塩を調製するための方法であって、式F−1(式中、Rは、CNから独立に選択され、m、YおよびArは、請求項21に定められている通りである)を有する請求項21に記載の化合物を環化する工程と、得られた環化生成物を還元して、シアノ基をアミノメチルに変換する工程とを含む方法。
  30. は、C〜Cアルキルである請求項29に記載の方法。
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