JP2008516889A5 - - Google Patents

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  1. (a)約10〜1000nmの平均全粒子径を有する親水性シリカ粒子を約5〜70重量%含む水性コロイドシリカ分散液を用意し、
    (b)前記分散液を、約7以上のpHを有しかつ約50重量%以下の有機溶媒を含む反応混合物を与えるために約3〜75μmol/m(親水性シリカ粒子のBET表面積に基いて)のシリルアミン処理剤と混ぜ合わせ、そして
    (c)疎水性のシリカ粒子を与えるために分散液を乾燥する、
    ことを含む疎水性シリカ粒子の製造法。
  2. 前記反応混合物が約5〜100℃の温度で約5分間以上維持される請求項1に記載の製造法。
  3. 前記シリルアミン処理剤が一般式
    (RSi)NR’(3−n)
    (式中、nは1〜3で、
    各Rは独立に水素、C−C18のアルキル又は分岐アルキル、C−C18のハロアルキル、ビニル、C−C14の芳香族基、C−C18のアルケニル基、C−C18のエポキシアルキル基、および直鎖又は分岐のC2mX、式中のmは1〜18である、から選ばれ、
    各R’は独立に水素、C−C18のアルキル又は分岐アルキル、又はn=1のときC−Cの環状アルキレンで、
    XはNR”、SH、OH、OC(O)CR”=CR”、COR”、又はCNで、そして
    R”は独立に水素、C−C18のアルキル又は分岐アルキル、C−C18の不飽和基、C−C18のアシル又はC−C18の不飽和アシル、C−Cの環状アルキレン又はC−C18の芳香族基である。)
    を有する請求項1に記載の製造法。
  4. 前記シリルアミン処理剤がビスアミノジシランである請求項1に記載の製造法。
  5. 前記シリルアミン処理剤がビス(トリフルオロプロピル)テトラメチルージシラザン(F−HMDZ)である請求項1に記載の製造法。
  6. 前記シリルアミン処理剤がヘキサメチルジシラザンである請求項1に記載の製造法。
  7. 前記シリルアミン処理剤が下記式
    Figure 2008516889
    式中、R、Rは独立に水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アリール、およびアリーロキシからなる群から選ばれ、
    は水素、(CHCH(式中、nは0〜3の整数)、C(O)NH
    C(O)NH(CHCH(式中、nは0〜3の整数)およびC(O)N[(CHCH](CHCH(式中、nおよびmは0〜3の整数)であり、そしてRは[(CH(CHX)(CYZ)](式中、X、YおよびZは独立に水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アリール、およびアリーロキシからなる群から選ばれ、a、bおよびcは(a+b+c)が2〜6の整数であるとの条件を満足する0〜6の整数)である、
    を有するシラザンである請求項1に記載の製造法。
  8. 前記分散液が40〜250℃で乾燥される請求項1に記載の製造法。
  9. 前記の親水性シリカ粒子がヒュームドシリカ粒子である請求項1に記載の製造法。
  10. 前記のシリカ分散液が約8〜36μmole/m(シリカのBET表面積に基いて)のシリルアミン処理剤と混ぜ合わされる請求項1に記載の製造法。
  11. 前記の反応混合物が実質的にコロイダルシリカ分散液とシリルアミン処理剤とからなる請求項1に記載の製造法。
  12. (a)請求項1に記載の方法によって疎水性シリカ粒子を調製し、そして
    (b)トナー組成物を与えるために前記の疎水性シリカ粒子をトナー粒子と混ぜ合わせる、
    ことを含むトナー組成物の製造法。
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