JP2008516889A5

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Publication number: JP2008516889A5
Application number: JP2007538024A
Authority: JP
Filing date: 2005-10-20
Publication date: 2008-12-11
Anticipated expiration: 2025-10-20

Claims

（ａ）約１０〜１０００ｎｍの平均全粒子径を有する親水性シリカ粒子を約５〜７０重量％含む水性コロイドシリカ分散液を用意し、
（ｂ）前記分散液を、約７以上のｐＨを有しかつ約５０重量％以下の有機溶媒を含む反応混合物を与えるために約３〜７５μｍｏｌ／ｍ^２（親水性シリカ粒子のＢＥＴ表面積に基いて）のシリルアミン処理剤と混ぜ合わせ、そして
（ｃ）疎水性のシリカ粒子を与えるために分散液を乾燥する、
ことを含む疎水性シリカ粒子の製造法。
前記反応混合物が約５〜１００℃の温度で約５分間以上維持される請求項１に記載の製造法。
前記シリルアミン処理剤が一般式
（Ｒ_３Ｓｉ）_ｎＮＲ’_{（３−ｎ）}
（式中、ｎは１〜３で、
各Ｒは独立に水素、Ｃ_１−Ｃ_１８のアルキル又は分岐アルキル、Ｃ_３−Ｃ_１８のハロアルキル、ビニル、Ｃ_６−Ｃ_１４の芳香族基、Ｃ_２−Ｃ_１８のアルケニル基、Ｃ_３−Ｃ_１８のエポキシアルキル基、および直鎖又は分岐のＣ_ｍＨ_２ｍＸ、式中のｍは１〜１８である、から選ばれ、
各Ｒ’は独立に水素、Ｃ_１−Ｃ_１８のアルキル又は分岐アルキル、又はｎ＝１のときＣ_２−Ｃ_６の環状アルキレンで、
ＸはＮＲ”_２、ＳＨ、ＯＨ、ＯＣ（Ｏ）ＣＲ”＝ＣＲ”_２、ＣＯ_２Ｒ”_２、又はＣＮで、そして
Ｒ”は独立に水素、Ｃ_１−Ｃ_１８のアルキル又は分岐アルキル、Ｃ_２−Ｃ_１８の不飽和基、Ｃ_１−Ｃ_１８のアシル又はＣ_３−Ｃ_１８の不飽和アシル、Ｃ_２−Ｃ_６の環状アルキレン又はＣ_６−Ｃ_１８の芳香族基である。）
を有する請求項１に記載の製造法。
前記シリルアミン処理剤がビスアミノジシランである請求項１に記載の製造法。
前記シリルアミン処理剤がビス（トリフルオロプロピル）テトラメチルージシラザン（Ｆ−ＨＭＤＺ）である請求項１に記載の製造法。
前記シリルアミン処理剤がヘキサメチルジシラザンである請求項１に記載の製造法。
前記シリルアミン処理剤が下記式

式中、Ｒ_１、Ｒ_２は独立に水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アリール、およびアリーロキシからなる群から選ばれ、
Ｒ_３は水素、（ＣＨ_２）_ｎＣＨ_３（式中、ｎは０〜３の整数）、Ｃ（Ｏ）ＮＨ_２、
Ｃ（Ｏ）ＮＨ（ＣＨ_２）_ｎＣＨ_３（式中、ｎは０〜３の整数）およびＣ（Ｏ）Ｎ［（ＣＨ_２）_ｎＣＨ_３］（ＣＨ_２）_ｍＣＨ_３（式中、ｎおよびｍは０〜３の整数）であり、そしてＲ_４は［（ＣＨ_２）_ａ（ＣＨＸ）_ｂ（ＣＹＺ）_ｃ］（式中、Ｘ、ＹおよびＺは独立に水素、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アリール、およびアリーロキシからなる群から選ばれ、ａ、ｂおよびｃは（ａ＋ｂ＋ｃ）が２〜６の整数であるとの条件を満足する０〜６の整数）である、
を有するシラザンである請求項１に記載の製造法。
前記分散液が４０〜２５０℃で乾燥される請求項１に記載の製造法。
前記の親水性シリカ粒子がヒュームドシリカ粒子である請求項１に記載の製造法。
前記のシリカ分散液が約８〜３６μｍｏｌｅ／ｍ^２（シリカのＢＥＴ表面積に基いて）のシリルアミン処理剤と混ぜ合わされる請求項１に記載の製造法。
前記の反応混合物が実質的にコロイダルシリカ分散液とシリルアミン処理剤とからなる請求項１に記載の製造法。
（ａ）請求項１に記載の方法によって疎水性シリカ粒子を調製し、そして
（ｂ）トナー組成物を与えるために前記の疎水性シリカ粒子をトナー粒子と混ぜ合わせる、
ことを含むトナー組成物の製造法。