JP2008512565A5

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Publication number: JP2008512565A5
Application number: JP2007530232A
Authority: JP
Filing date: 2005-08-29
Publication date: 2012-03-29
Anticipated expiration: 2025-08-29

Description

図１１は、コンベヤ上に蓄積するオーバーコートが、特に大きな作業面一面に分布されるようにコンベヤ１６０８の長さを長くした実施形態を例示するものである。この種の幾つかの実施形態において、コンベヤベッドの各端部において１８０度未満のコンベヤラップを有するコンベヤベッドに必要とされるであろう長さより少なくとも約５０％、７５％、１００％、または更に１５０％長いコンベヤベルトが設けられる。本発明のある実施形態において、コンベヤは、搬送中、基板の重量を支える上部回転体（または、「担持回転体」）６２６の概ね水平な列（または「ベッド」）の周り、および担持回転体６２６のそのようなベッドの下方にそれぞれ位置する１つ以上の（好ましくは、複数の）下側回転体６２７の周りを移動する。これは、担持ローラのベッドの２つの端部それぞれにおいてローラが１８０度未満のコンベヤラップを有する類の実施形態を代表するものである。図１１の実施形態において、例えば、各コンベヤ１６０８の各ベッドの各端部における担持体６２６は、約９０度未満のコンベヤラップを有する。従って、本発明のある実施形態は、少なくとも１つの上方向コーティング源（例えば、少なくとも１つの上方向コーティング装置）と、（この段落に記載の特徴、またはこの段落に記載の特徴の組み合わせを有する）表面部拡大コンベヤと、少なくとも１つの上方向コーティング堆積ギャップとを組み合わせで有するコータを含む。１つのそのような実施形態において、上方向コーティング源は、スパッタリングターゲット（例えば、その回転により落下した粒子から分離しやすいであろう回転ターゲット）を含む。

Claims

シート状基板上に薄膜を塗布するためのコータであって、前記コータを通って延びる基板走行路に沿って前記基板を搬送するよう適合させた、上方向コーティング堆積ギャップによって隔てられた２つのコンベヤループを含む基板移送システムを有し、
前記コンベヤループの少なくとも一つが、搬送中、前記基板の重量を支える上部回転体の概ね水平な列の周りを移動し、かつ、搬送中、１以上の下側担持回転体の周りを移動し［前記上部回転体の列の２つの端部のそれぞれにおいて、前記上部回転体が、１８０度未満のコンベヤラップを有するように、前記１以上の下側担持回転体が前記上部回転体の下方に位置する］、
前記基板が、前記上方向コーティング堆積ギャップを渡って延びる前記基板走行路の所望の一部に沿って搬送されるにつれて、コーティング材料を、前記基板の底主面上に、当該ギャップを通って上方向に供給するよう適合させたコーティング材料源を有するコータ。
当該２つのコンベヤループがそれぞれ、少なくとも１メートルの幅を有するコンベヤシートを含む請求項１に記載のコータ。
当該２つのコンベヤループがそれぞれ、少なくとも２メートルの幅を有するコンベヤシートを含む請求項１に記載のコータ。
当該２つのコンベヤループがそれぞれ、概ね対向する横方向側端を有し、その間にギャップの無い連続的な壁を形成するコンベヤシートを含む請求項１〜３のいずれかに記載のコータ。
当該２つのコンベヤループがそれぞれ、概ね対向する横方向側端と、実質的に全体が概ね平面である主面とを有するコンベヤシートを含み、前記基板の底主面が当該主面上に直接位置する時、当該主面と前記基板の底面との間に横方向接触長部が存在し、当該横方向接触長部が、前記コンベヤシートの横方向側端間に実質的に全体に延びる請求項１〜３のいずれかに記載のコータ。
前記コーティング材料源の少なくとも一部が、前記上方向コーティング堆積ギャップの真下に位置している請求項１〜５のいずれかに記載のコータ。
前記コータが、内部キャビティを画定する堆積チャンバを含み、前記基板走行路が、前記堆積チャンバを通って延び、当該コーティング材料源が、前記堆積チャンバ内に少なくとも部分的に配置されている請求項１〜６のいずれかに記載のコータ。
前記堆積チャンバが、少なくとも１つの真空堆積工程を実施するよう適合させた真空堆積チャンバである請求項７に記載のコータ。
前記真空堆積チャンバが、０．１トル未満の当該内部キャビティのガス圧を確立し、かつ維持するよう適合させられている請求項８に記載のコータ。
当該コーティング材料源が、スパッタ堆積装置、イオンアシスト堆積装置、化学気相蒸着装置、および真空蒸着装置からなる群から選択される薄膜堆積装置を含む請求項１〜６のいずれかに記載のコータ。
当該コーティング材料源が、スパッタリングターゲットを含むスパッタ堆積装置を含む請求項１０に記載のコータ。
前記スパッタリングターゲットが長さを有し、前記上方向コーティング堆積ギャップが長さを有し、前記ターゲットの長さが前記ギャップの長さに対して概ね平行であるように前記ターゲットが当該ギャップの真下に位置している請求項１１に記載のコータ。
前記スパッタリングターゲットに電荷を供給するよう適合させた電源を更に含む請求項１１または１２に記載のコータ。
前記コータが、大面積コータであり、前記基板移送システムが、少なくとも１．５メートルの幅をそれぞれ有する基板を搬送するよう適合させられている請求項１〜１３のいずれかに記載のコータ。
前記コータが、大面積コータであり、前記基板移送システムが、少なくとも２メートルの幅をそれぞれ有する基板を搬送するよう適合させられている請求項１〜１３のいずれかに記載のコータ。
前記コータが、大面積コータであり、当該コーティング材料源が、少なくとも１メートルの長さを有するスパッタリングターゲットを含む請求項１〜１３のいずれかに記載のコータ。
前記コータが、大面積コータであり、当該コーティング材料源が、少なくとも１．５メートルの長さを有するスパッタリングターゲットを含む請求項１〜１３のいずれかに記載のコータ。
前記上方向コーティング堆積ギャップが長さを有し、当該コーティング材料源が、前記上方向コーティング堆積ギャップの長さの少なくとも５０％の大きさである長さを有するコーティング材料の流束を供給するよう適合させられている請求項１〜１１のいずれかに記載のコータ。
前記上方向コーティング堆積ギャップが長さを有し、当該コーティング材料源が、前記上方向コーティング堆積ギャップの長さの少なくとも７５％の大きさである長さを有するコーティング材料の流束を供給するよう適合させられている請求項１〜１１のいずれかに記載のコータ。
前記基板が幅を有し、前記上方向コーティング堆積ギャップが、前記基板の幅と少なくとも同じ位の大きさである長さを有する請求項１〜１９のいずれかに記載のコータ。
当該コーティング材料源が、前記基板の幅と少なくとも同じ位の大きさである長さを有するコーティング材料の流束を供給するよう適合させられ、それにより、当該コーティング材料源が、前記基板の底主面の全面コーティングに適合させられている請求項２０に記載のコータ。
前記基板が幅を有し、当該コーティング材料源が、前記基板の幅の少なくとも７０％の大きさである長さを有するスパッタリングターゲットである請求項１〜１９のいずれかに記載のコータ。
前記基板が長さを有し、前記上方向コーティング堆積ギャップが幅を有し、当該ギャップの前記幅が、前記基板の長さの２分の１未満である請求項１〜１９のいずれかに記載のコータ。
シート状基板上に薄膜を塗布する方法であって、
コータを通って延びる基板走行路を画定し、上方向コーティング堆積ギャップによって隔てられた第１および第２のコンベヤループを含む基板移送システムを有し、当該ギャップの下方に位置する下部コーティング材料源を有し、前記コンベヤループの少なくとも一つが、搬送中、前記基板の重量を支える上部回転体の概ね水平な列の周りを移動し、かつ、搬送中、１以上の下側担持回転体の周りを移動し、前記上部回転体の列の２つの端部のそれぞれにおいて、前記上部回転体が、１８０度未満のコンベヤラップを有するように、前記１以上の下側担持回転体が前記上部回転体の下方に位置する前記コータを準備することと
当該第１のコンベヤループ上に前記基板を位置させることと、
前記基板を、当該第１のコンベヤループから当該第２のコンベヤループまで、前記基板走行路に沿って搬送し、それにより、当該搬送中、前記基板が前記コーティング材料源の上方を移動するように前記移送システムを操作することと、
コーティング材料を、当該下部コーティング材料源から、前記基板の底主面上に、当該ギャップを通って上方向に供給するよう前記コータを操作することとを含む方法。
前記コータが、前記基板走行路の上方にあるように前記基板走行路の共通の側に位置する一連の薄膜堆積装置を含み、当該一連の堆積装置が、前記基板の上主面上に低輻射率コーティングを堆積させるように操作される請求項２４に記載の方法。
当該一連の堆積装置の当該操作が、前記基板の上主面上に少なくとも１層の銀含有膜を堆積させることを含む請求項２５に記載の方法。
当該下部コーティング材料源が、前記基板走行路に沿って、当該一連の堆積装置より遠い位置に配置されているか、または当該一連の堆積装置が、前記基板走行路に沿って、当該下部コーティング材料源より遠い位置に配置されている請求項２５または２６に記載の方法。
当該２つのコンベヤループがそれぞれ、幅を有するコンベヤシートを含み、前記基板が、前記コンベヤシートの幅と同じ、またはそれより小さい幅を有するよう選択される請求項２４〜２７のいずれかに記載の方法。
前記基板の幅が、前記コンベヤシートの幅より少なくとも２インチ小さい請求項２８に記載の方法。
前記基板の幅が、前記コンベヤシートの幅より少なくとも８インチ小さい請求項２８に記載の方法。
前記第１のコンベヤループが、概ね対向する横方向側端を有するコンベヤシートを含み、前記基板が、前記第１のコンベヤループ上に位置する時、前記基板のどの部分も前記コンベヤシートの横方向側端の何れからも横方向に突出することがないよう配置される請求項２４〜２７のいずれかに記載の方法。
前記第１のコンベヤループが、概ね対向する横方向側端を有し、その間にギャップの無い連続的な壁を形成するコンベヤシートを含み、前記基板が、当該第１のコンベヤループ上にある時、前記基板の底主面と前記コンベヤシートとの間に、前記コンベヤシートの横方向側端間に実質的に全体に伸びる横方向接触長部が存在する請求項２４〜２７のいずれかに記載の方法。
前記上方向コーティング堆積ギャップが長さを有し、前記基板が、前記ギャップの長さより小さい、またはそれと同じ幅を有するよう選択される請求項２４〜３２のいずれかに記載の方法。
当該下部コーティング材料源が、長さを有するコーティング材料の流束を供給するよう適合させられ、前記基板が、その幅が前記流束の長さより小さい、またはそれと同じであるように選択され、それにより、当該下部コーティング材料源が、前記基板の底主面の全面コーティングに適合させられている請求項３３に記載の方法。
当該下部コーティング材料源が、前記基板の幅の少なくとも７０％の大きさである長さを有するスパッタリングターゲットである請求項３２〜３４のいずれかに記載の方法。
前記上方向コーティング堆積ギャップが幅を有し、前記基板が、当該ギャップの幅の２倍より大きい長さを有するよう選択される請求項２４〜３５のいずれかに記載の方法。
当該下部コーティング材料源の当該操作が、前記コータの所望のチャンバの下部領域において行われ、当該所望のチャンバが、上部薄膜堆積装置を備えないか、または当該下部コーティング材料源の当該操作中、非堆積状態に維持される上部堆積装置を備えた上部領域を含む請求項２４〜３６のいずれかに記載の方法。
当該下部コーティング材料源の当該操作が、前記コータの当該所望のチャンバの当該下部領域において酸化雰囲気を維持しながら行われる請求項３７に記載の方法。
シート状基板の２つの概ね対向する主面上に薄膜を塗布するためのコータであって、前記コータは、前記コータを通って延びる基板走行路に沿って前記基板を搬送するよう適合させた基板移送システムを含み、
前記基板移送システムは、上方向コーティング堆積ギャップによって隔てられた２つのコンベヤループを含み、
前記コンベヤループの少なくとも一つが、搬送中、前記基板の重量を支える上部回転体の概ね水平な列の周りを移動し、かつ、搬送中、１以上の下側担持回転体の周りを移動し、
前記上部回転体の列の２つの端部のそれぞれにおいて、前記上部回転体が、１８０度未満のコンベヤラップを有するように、前記１以上の下側担持回転体が前記上部回転体の下方に位置し、
前記コータは、前記基板走行路上方に位置する上部コーティング材料源と前記基板走行路下方に位置する下部コーティング材料源とを有し、
当該上部源は、コーティング材料を、前記基板走行路に向かって下方向に供給するよう適合させられており、当該下部源は、コーティング材料を、前記基板走行路に向かって、当該ギャップを通って上方向に供給するよう適合させられているコータ。
前記コータが、内部キャビティを画定する真空堆積チャンバを含み、前記基板進行路が、前記真空堆積チャンバを通って延び、前記真空堆積チャンバが、０．１トル未満の当該内部キャビティのガス圧を確立し、かつ維持するよう適合させられている請求項３９に記載のコータ。
当該上部コーティング材料源が、スパッタリングターゲットを含み、当該下部コーティング材料源が、スパッタ堆積装置、イオンアシスト堆積装置、化学気相蒸着装置、および真空蒸着装置からなる群から選択される薄膜堆積装置を含む請求項３９に記載のコータ。
前記コータが、前記基板走行路上方または下方の何れかにあるように前記基板走行路の共通の側に位置する一連の薄膜堆積装置を含み、当該一連の堆積装置が、前記基板上に低輻射率コーティングを堆積させるよう適合させられている請求項３９に記載のコータ。
当該一連の堆積装置が、前記基板上に銀含有膜を堆積させるよう適合させた少なくとも１つの装置を含む請求項４２に記載のコータ。
当該一連の堆積装置が、前記基板走行路の上方に位置する請求項４２または４３に記載のコータ。
当該一連の堆積装置が、スパッタリングターゲットを含む請求項４２〜４４のいずれかに記載のコータ。
少なくとも１メートルの主要寸法を有するシート状ガラス基板の２つの概ね対向する主面上に薄膜を塗布するためのコータであって、前記コータが、前記コータを通って延びる基板走行路に沿って前記ガラス基板を搬送するよう適合させられ、上方向コーティング堆積ギャップを備えたコンベヤを有する基板移送システムを有し、
前記コンベヤループの少なくとも一つが、搬送中、前記基板の重量を支える上部回転体の概ね水平な列の周りを移動し、かつ、搬送中、１以上の下側担持回転体の周りを移動し、
前記上部回転体の列の２つの端部のそれぞれにおいて、前記上部回転体が、１８０度未満のコンベヤラップを有するように、前記１以上の下側担持回転体が前記上部回転体の下に位置し、
前記コータが、前記基板走行路上方に位置する上部コーティング材料源と、前記基板走行路下方に位置する下部コーティング材料源とを有し、当該上部源は、コーティング材料を、前記基板走行路に向かって下方向に供給するよう適合させられており、当該下部源は、コーティング材料を、前記基板走行路に向かって、当該ギャップを通って上方向に供給するように適合させられており、前記上部コーティング材料源がスパッタリングターゲットを含み、前記下部コーティング材料源が、スパッタ堆積装置、イオンアシスト堆積装置、化学気相蒸着装置、および真空蒸着装置からなる群から選択される薄膜堆積装置を含むコータ。
当該コンベヤが、当該上方向コーティング堆積ギャップによって隔てられた２つのコンベヤループを含み、各コンベヤループがコンベヤシートを含む請求項４６に記載のコータ。
少なくとも１メートルの主要寸法を有するシート状ガラス基板の２つの概ね対向する主面上に薄膜を塗布する方法であって、
コータを通って延びる基板走行路に沿って前記ガラス基板を搬送するよう適合させられた基板移送システムであって、前記基板移送システムが、上方向コーティング堆積ギャップにより離された２つのコンベヤループを含み、前記コンベヤループの少なくとも一つが、搬送中、前記基板の重量を支える上部回転体の概ね水平な列の周りを移動し、かつ、搬送中、１以上の下側担持回転体の周りを移動し、前記上部回転体の列の２つの端部のそれぞれにおいて、前記上部回転体が、１８０度未満のコンベヤラップを有するように、前記１以上の下側担持回転体が前記上部回転体の下方に位置する基板移送システムを有する前記コータであって、前記コータが、前記基板走行路上方に位置する上部コーティング材料源と、前記基板走行路下方に位置する下部コーティング材料源とを有し、当該上部源は、コーティング材料を、前記基板走行路に向かって下方向に供給するよう適合させられており、当該下部源は、コーティング材料を、前記基板走行路に向かって、当該ギャップを通って上方向に供給するように適合させられており、前記上部コーティング材料源がスパッタリングターゲットを含み、前記下部コーティング材料源が、スパッタ堆積装置、イオンアシスト堆積装置、化学気相蒸着装置、および真空蒸着装置からなる群から選択される薄膜堆積装置を含む前記コータを準備することと、
前記基板を前記コンベヤ上に位置させることと、
前記基板を、前記基板走行路に沿って搬送し、それにより、当該搬送中、前記基板が前記下部コーティング材料源の上方を移動するように前記移送システムを操作することと、
コーティング材料を、前記下部コーティング材料源から、前記基板の底主面上に、当該ギャップを通って上方向に供給するよう前記コータを操作することと、
コーティング材料を、前記上部コーティング材料源から、前記基板の上主面上に、下方向に供給するよう前記コータを操作することとを含む方法。
前記基板の上主面および底主面が、前記コータを通る前記基板の単一通過で、全面的に被覆される請求項４８に記載の方法。
前記下部コーティング材料源がチタンを含み、前記基板の底主面が、酸化チタン膜で被覆される請求項４８または４９に記載の方法。
前記上部回転体の列の２つの端部のそれぞれにおける前記上部回転体の少なくとも一つが、９０度未満のコンベヤラップを有する請求項１〜２３のいずれかに記載のコータ。
前記上部回転体の列の２つの端部のそれぞれにおける前記上部回転体の少なくとも一つが、９０度未満のコンベヤラップを有する請求項３９〜４５のいずれかに記載のコータ。
前記上部回転体の列の２つの端部のそれぞれにおける前記上部回転体の少なくとも一つが、９０度未満のコンベヤラップを有する請求項４６に記載のコータ。