JP2008507109A - 分布したゲッター材料を有するプラズマディスプレイの製造方法、及びそのようにして得られたディスプレイ - Google Patents

Abstract

ディスプレイのチャンネル（Ｃ）又はセルに存在する雰囲気と接触するゲッター材料堆積物（８１、８１’、．．．）が内部に存在するディスプレイを簡単な方法で得ることを可能にする、プラズマディスプレイパネル（８０）を作るための製造方法を記載する。

Description

本発明は分布したゲッター材料を有するプラズマディスプレイの製造方法に関する。また、本発明は本発明の方法によって得られたディスプレイに関する。

プラズマディスプレイパネルはＰＤＰの略称で知られており、その略称を以下使用する。

ＰＤＰは２枚の平面ガラス部品である前面ガラスと背面ガラスからなり、それらの周縁部で低融点ガラスペーストにより封着されている。このようにして２枚のガラス部品の間に閉じた空間が作られ、そこは希ガス混合物で満たされ、以下に説明するように機能部品を含んでいる。一般に希ガス混合物はネオン及びキセノンからなり、後者は約４〜１５％の量で存在している。

ＰＤＰの動作原理は、希ガス混合物中に放電を発生させたときに、いわゆる蛍光体によって紫外線が可視光へと変換されることに基づく。画像を生成するために小さい寸法の複数の光源、従って局在化した放電を発生する複数の電極が必要であり、このように形成した全ての光源はフィールドの「ピクセル」内に画定される。

図１及び２はそれぞれ、既知のＰＤＰ及びその前面ガラスパネルのみの一部を横断面で示す（相対寸法は縮尺どおりではない）。詳しくは、この２つの図は２つの相互に直交する断面に沿って見たものである。前面ガラスパネルＦＰ上に一連の平行電極対Ｅ₁及びＥ₂が存在し、それぞれを維持電極及び走査電極とする。それらは誘電体層ＤＦで保護され、次いでその誘電体層は酸化マグネシウム（ＭｇＯ）層Ｍで被覆される。後者は、放電によって引き起こされるプラズマに起因するイオン衝撃から誘電体層を保護し、及び放電を維持するための２次電子を供給するといった２重の機能を有している。背面ガラスパネルＲＰ上には、一連のいわゆるアドレス電極ＡＥが存在し（電極Ｅ₁及びＥ₂と直交する方向である）、誘電体層ＤＲで被覆されている。互いに平行であって電極ＡＥに対しても平行である一連の隔壁Ｒ（「リブ」として本技術分野で知られている）は、この後者の層の上に形成されている。ディスプレイの内部圧が大気圧より低いため、このリブの上部は層Ｍと接触しており、そのためディスプレイの内部空間は図中Ｃで示される、幅が０．１〜０．３ｍｍの平行なチャンネルに分割される。これらチャンネルのそれぞれは内部が蛍光体で被覆される。詳しくは、チャンネル内には交互に蛍光体が存在し、紫外光をそれぞれ赤（蛍光体ＰＲ）、緑（ＰＧ）及び青（ＰＢ）の可視光に変換できる。所定の電極対Ｅ₁及びＥ₂に対して、並びに電極ＡＥに対して電位差を印加することにより、ピクセル区域内に放電が発生し図１に矢印で示す発光が生じる。これらチャンネルの区域に相当する前面ガラスパネルの領域が、その上に画像が生成される部分である。

最近、１つのチャンネル内の隣接する複数のピクセルにおける放電間の妨害効果が注目されており（「クロストーク」として知られる現象）、特に高精細度ディスプレイの（すなわちピクセルの寸法が小さい）場合、その妨害効果が画像品質の劣化を招いてしまう。この現象を軽減するために図３〜５に示すようなより複雑な形状のリブが提案されている。図３の場合、リブの高さより低い隔壁によってチャンネルが横方向に分割されている。図４の場合、リブが本質的に六角形の形状のピクセルを画定しており、ピクセルは断面積の減ったネックにより分割されている。最後に図５では、ディスプレイの内部空間が完全に閉じたセル（１個ずつがピクセルに対応する）の規則的な列に結果的に分割されるように、リブと同じ高さの横方向の隔壁が内部にある構造が示されている。

ＰＤＰの製造プロセスは本質的には２種類である。すなわち現在使用されているいわゆる「ポンピングチューブレーション（pumping tubulation）」プロセス、又は開発中の「チャンバプロセス」である。ポンピングチューブレーション型の方法では、ディスプレイを形成する２枚のガラスパネルのうち１枚（普通は背面パネル）に開口部を形成し、ガラスチューブを接続する。２枚のガラスパネルの周縁部を封着した後、最初に内部空間の排気をそのチューブを通してポンプ引きすることで行い、続いてその内部空間を所望の希ガス混合物で満たし、最後にそのチューブを高温で圧縮して閉じることにより、ディスプレイの内部空間を封着する。代わりにチャンバプロセスでは、ＰＤＰの動作に必要な希ガス混合物の組成及び圧力に相当する組成及び圧力の雰囲気で満たされたチャンバ内に、２枚の仕上がったガラスパネルを導入し、そのチャンバ内で互いに封着して適切な雰囲気を封入する。従ってポンピングチューブレーションプロセスの場合、ガス混合物をディスプレイに充填するのは２枚のガラスパネルを封着した後であり、一方チャンバプロセスの場合、２つの工程は同時である。一般にいずれのプロセスを選択するかは自由であるが、図５に示すように、閉じたセルを有する内部構造を備えたディスプレイの特殊な場合、２枚のガラスパネルを封着した後に、チューブを介してセルを排気すること又は希ガス混合物をセルに充填することが不可能になることがあり、そのためチャンバプロセスを用いる必要がある。

これらデバイスの適切な動作のために、その中にプラズマが発生するガス状混合物の化学組成は一定に保たれる必要がある。実際にガス状混合物中に窒素、酸素、水又は二酸化炭素などの大気ガスが痕跡量存在すると、ＰＤＰの電気的な動作パラメータが変化する効果が生じる。これは、"IBM J. RES. DEVELOP." Vol. 22, No. 6 (1978), p. 622に発表されている、W.E. Ahearnらの記事である"Effect of reactive gas dopants on the MgO surface in AC plasma display panels"、SID 00 Digest, p. 212に発表されている、H. Doyeuxの"Color plasma displays: status of cell structure designs"、及び"Journal of Information Display", Vol. 2, No. 4 (2001), p. 29に発表されている、J. -E. Heoらの"Relationships between impurity gas and luminance/discharge characteristics of AC PDP"に述べられている。特にＰＤＰ製造者の間では水が最も危険な不純物であると考えられている。これら不純物は製造プロセスの後にパネル中に残る可能性があり、あるいは構成材料自身のガス放出の結果として、経時で内部に蓄積していく場合もある。ポンピングチューブレーションプロセスの場合は最初の寄与が特に重要であり、このプロセスでは、内部空間の排気速度における制約因子はチャンネル内のガス伝導性が低いことであって、そのため不純物の除去をＰＤＰの工業的製造プロセスに適合する排気時間（数時間）内に完了させることができない。この問題は図３及び図４に示したような内部構造を備えたＰＤＰの場合はさらに悪化する。（既に述べたがタイプ５の構造を備えたディスプレイはこの方法では製造できない。）その代わり、耐用期間中のガス放出による寄与はこの２つの方法で製造したＰＤＰについて同じである。

これらの問題を解決するために、ＰＤＰのゲッター材料、すなわち不純物と反応して化学的に固定することが可能であるためにディスプレイの内部空間からその不純物を完全に除去する材料を様々な方法で導入することが提案されている。

米国特許第６４７２８１９号、米国特許出願公開２００３／００７１５７９及び韓国特許出願公開２００１−１０４４６９には、周縁区域において、前面及び背面ガラスパネルと画像生成区域との間の封着区域内部にゲッター材料の堆積物が存在しているＰＤＰが開示されている。ディスプレイの製造プロセス中に不純物を除去する速度を増大し、及びディスプレイの耐用期間中にガス放出によって生成する不純物を除去するという両方の点で、これら文献のゲッター堆積物は効果的である。これらの利点が得られるにもかかわらず、これら文献のゲッターシステムは完全に満足行く結果を依然として生み出さない。実際のところ、特にディスプレイの耐用期間中、不純物はゲッター材料に到達するのにいくらかの時間を要し、その間ＰＤＰ全体のガス組成が不均一となり、結果的にその不均一さがディスプレイの異なる部分での明度又は画像品質の違いを引き起こす場合がある。

この問題を克服するために、いくつかの特許文献にはゲッター材料が画像生成領域に分布している様々な構造が記載されている。

韓国特許第３６６０９５号及び韓国特許出願公開２００１／０４９１２６には、ゲッター堆積物がディスプレイのいわゆる「ブラックマトリクス」（ディスプレイのコントラストを増大するピクセル周囲の黒い要素）も形成するように、（図１のＥ₁及びＥ₂のタイプの）電極に平行な線状のゲッター材料堆積物が前面ガラスパネル上に存在するＰＤＰが記載されている。しかしながら、これら文献に記載された構造においてゲッター堆積物は発光のために設けられた表面の部分を被覆するため、かなり複雑な製造プロセスを用いてこれら堆積物の寸法及び位置を非常に正確に制御する必要がある。その上少なくとも韓国特許第３６６０９５号の場合は、ゲッター堆積物の表面が酸化マグネシウム層の表面に関してアンダーカットを形成し、そのため全てのゲッター堆積物が隣接するチャンネル間でガスの行き交う潜在的な経路を提供して、クロストークの増大を伴う可能性がある。

韓国特許出願公開２００１／０９１３１３にはリブがゲッター材料から作られているＰＤＰが開示されている一方、米国特許第６４８３２３８号及び日本特許出願公開２００２／０７５１７０には、リブがゲッター材料を含有する多孔質材料から作られたＰＤＰが開示されている。しかしながら、スクリーン印刷技術を用いて所望の材料の粒子懸濁物を連続的に堆積し、層の堆積後に毎回乾燥し、及び熱処理によってリブを最終的に連結することによってリブを一般的に構築する限りにおいて、これらの構造にはいくつかの構成上の問題がある。堆積に使用した溶媒の蒸気によって乾燥及び連結の熱処理中にゲッターが汚染される可能性があって、ディスプレイの耐用期間中に不活性となってしまうために、その中にゲッターが含まれる様々な材料の混合物を使用することにはいくつか問題がある。反対にゲッター粒子が存在するとリブを通常形成しているセラミック材料粒子の相互接着が引き替えに下がる場合があり、そのためリブの機械抵抗が減少する。

最後に米国特許第６６０３２６０号では、ゲッター材料がリブの上面に堆積され、前面ガラスパネルと接触しているＰＤＰが開示されている。しかしながらこの解決方法にも顕著な構成上の問題があり、実際にリブの上面のみに選択的にゲッターを堆積するためには、材料が側壁に沿って広がり蛍光体のために割り当てた区域を占有する（あるいは蛍光体が既に存在する場合はそれらを被覆する）ことを避けるために、非常に正確なマスキング操作を必要とする。

本発明の目的は先行技術の欠点を克服することであり、詳細には分布したゲッターを含むプラズマディスプレイパネルを製造するための簡単な製造方法を提供することである。

この目的及び他の目的は本発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法を用いて達成することができ、その方法は以下の工程、すなわち
（複数の）対の維持電極及び走査電極、該電極を保護する誘電材料層、並びに該誘電材料層を被覆する酸化マグネシウム層を備えた、プラズマディスプレイパネルの前面ガラスパネルを製造し、
完成したディスプレイにおけるチャンネル又はセルを画定するために設計された隔壁、アドレス電極及び蛍光体を備えた、プラズマディスプレイパネルの背面ガラスパネルを製造し、
該前面及び背面ガラスパネルの外周縁部に沿って封着して、該ディスプレイの内部に閉じた空間又は複数の閉じた空間を画定し、
該ディスプレイの動作に必要な希ガス混合物を該空間に充填する
工程を含み、
該封着工程の前に、該酸化マグネシウム層の自由表面上で、該前面ガラスパネルと該背面ガラスパネル上の該隔壁との間の接触領域に本質的に対応する位置にゲッター材料堆積物を形成することを特徴とする。

図１〜５は導入部で説明した。

リブの上面との接触領域に本質的に対応する位置であって、完成したディスプレイにおいて内部空間に面する表面上に多数のゲッター堆積物を形成する工程が前面ガラスパネルの製造に含まれることのみが、本発明の方法が既知の方法と異なる点である。ゲッター堆積物は、ＭｇＯ層（図１のＭ）の平面上、又はこの層に形成された奥部の中のいずれかに形成されてもよい。本発明はＰＤＰのポンピングチューブレーション又はチャンバ製造プロセスのいずれに対しても区別なく適用可能である。

図６には本発明に特徴的である様々な操作工程が示されている（この図では図１〜５について前面ガラスパネルが上下逆さまに示されている）。工程ａの間、その上にゲッター堆積物を形成しなくてはならない酸化マグネシウム層の表面上方に、完成したディスプレイにおけるリブの上側部分と前面ガラスパネルが接触する区域に幾何学的に対応する開口部６１、６１’、．．．を備えたマスク６０を揃えて配置する。図を分かり易くするためにマスク６０を層Ｍの表面から離し間隔を空けて示しているが、マスクは層Ｍに接触していてもよい。工程ｂでは、採用した堆積手法によって様々な方法でゲッター材料の粒子（一般に要素６２と呼ばれる）をマスク６０の上面上にもたらして、ゲッター材料の粒子は開口部６１、６１’、．．．の区域のみで層Ｍの自由表面に到達する。最後に工程ｃでゲッター材料粒子の堆積物６３、６３’、．．．が形成され、堆積プロセスによってはこれら堆積物を結合させるための熱処理が必要であってもよく不要であってもよい。

図６と同様に図７には、別の実施態様において本発明に特徴的である様々な追加の操作工程が示されている。この場合ＭｇＯ層の自由表面はマスク６０の開口部６１、６１’、．．．に対応する奥部７１、７１’、．．．を有する。層Ｍの形成中に、あるいはこの操作中に（図中に示していない）同じマスク６０を用い、例えばイオン衝撃により層Ｍから選択的に材料除去することによって、これら奥部を得てもよい。図に示す奥部７１、７１’、．．．は層Ｍの内部のみに延在するが、層Ｍを貫通して下にある層ＤＦに到達させてもよい。工程ａ’は第１の実施態様の工程ａに対応し、この場合は層Ｍの表面に関するマスク６０の位置決めをより正確に行う必要があることのみが異なる。続く工程ｂ’及びｃ’は第１の実施態様の工程ｂ及びｃと同様であり、ゲッター材料堆積物７２、７２’、．．．が形成される結果となる。奥部７１、７１’、．．．を完全に満たし、及び層Ｍの自由表面から突き出るような高さに堆積物７２、７２’、．．．を形成することを可能にする（こうして堆積物６３、６３’、．．．と同様の結果を得る）ためには、好ましくは工程ｂ’を工程ｂより長時間とする。このことは、完成したディスプレイ中の吸着されるガスと堆積物７２、７２’、．．．の側面との間の接触を有利にする効果がある。

マスク６０の材料及び構造、並びにゲッター材料粒子６２の堆積中のマスク及び層Ｍの距離は採用した堆積手法に依存し、その堆積手法自体が堆積する材料の性質に依存する場合もある。

導入部で述べたように吸着される主な不純物は水であり、そのためゲッターとして水分吸着性材料を使用することができる。この効果について好ましい材料はアルカリ土類金属の酸化物であり、次の反応式に従い水と反応する。
ＭＯ＋Ｈ₂Ｏ → Ｍ（ＯＨ）₂
（Ｍはカルシウム、ストロンチウム又はバリウムであってよく、これら酸化物の混合物も使用することができ、酸化マグネシウムを追加することも可能である。）

これら酸化物の堆積物（６３、６３’、．．．；７２、７２’、．．．）を作るために、例えばスクリーン印刷、スパッタリング、化学気相堆積（ＣＶＤ）又は電子線蒸着が含まれる様々な手法を用いることが可能である。

スクリーン印刷法は布地、セラミックス又は他の材料の上にパターンを複製する分野で周知であって、その手法はゲッター堆積物を調製する場合について、例えば米国特許第５８８２７２７号に記載されており、詳細は同文献を参照する。この場合、マスク６０はポリマー材料で選択的に塞がれて開口部を備えた網からなり、開口部６１、６１’、．．．に相当する開口部は遮られていない。次に堆積する材料粒子の懸濁物を適当な懸濁媒体中で調製する。マスクを好ましくは前面ガラスパネルの層Ｍの上に置き、懸濁物を網の上に広げ、その開口部を通して強制的に下にある支持体へと抜けさせる。本発明の特定の場合、堆積する材料の性質を理由として（この手法の他の用途では一般的であるように）懸濁媒体を水系にできないのは明らかである。そのため室温で液体の炭化水素のような有機溶媒が使用可能である。異なる酸化物粒子の混合物から始めるときは、この手法によれば混合堆積物を製造することが特に容易である。

スパッタリング、ＣＶＤ及び電子線蒸着という手法は、マイクロエレクトロニクス産業で幅広く使われて本技術分野の技術者に周知であり、さらなる説明を要しない。この場合マスク６０は別個の要素、例えば開口部６１、６１’、．．．に相当する穴を備えた金属ホイルであってよい。あるいは本技術分野で周知であるように層Ｍ上に形成した高分子堆積物を使用することも可能であり、そこでは紫外線による増感に続いてその増感した区域を化学的攻撃することにより開口部が形成される。堆積物６３、６３’、．．．又は７２、７２’、．．．を形成した後、全ての高分子材料は第１のものとは異なる化学的攻撃を用いて除去される。スパッタリングの場合、１種以上の酸化物の堆積物は、酸化物のターゲットから直接始めて、あるいはいわゆる「反応性スパッタリング」条件、すなわち反応雰囲気中に酸素をわずかな比率で用いて運転することにより金属ターゲットから開始して得ることが可能である。ＣＶＤの場合、有機前駆体の分解及び酸化物の形成が同時に起こるように、目的金属を有する有機成分が分解するのに十分高い温度かつ酸化性雰囲気中に基板を保持する。この場合、異なる金属の前駆体からなる蒸気混合物を基板（層Ｍ）上に輸送すれば十分なため、混合酸化物を形成するのが特に容易である。最後に電子線蒸着の場合、堆積物のために目的とする材料に相当する材料（又は材料の混合物）を電子衝撃にさらせば十分である。この材料（又は混合物）は例えば上面開口部を備えたるつぼに入れてもよく、そのるつぼは堆積物がその上に形成される支持体と同じチャンバ内に配置される。

水とは異なる不純物を吸着するために、非蒸発性のゲッター金属又は合金からなる堆積物を形成することが可能である。（ＮＥＧとして知られる）これらの材料は、真空又は不活性ガスの純度を維持する必要のある全ての用途において、反応性ガスを吸着するのに幅広く使用されている。これら材料の例は金属チタン及びジルコニウム、又は遷移金属及びアルミニウムから選択される１種以上の元素を含んでなるそれらの合金である。特に米国特許第３２０３９０１号に記載されている合金Ｚｒ−Ａｌ、詳しくは商品名Ｓｔ１０１で出願人が製造及び販売している質量パーセント組成がＺｒ８４％−Ａｌ１６％の合金、米国特許第４３１２６６９号に記載されている合金Ｚｒ−Ｖ−Ｆｅ、詳しくは商品名Ｓｔ７０７で出願人が製造及び販売している質量パーセント組成がＺｒ７０％−Ｖ２４．６％−Ｆｅ５．４％の合金、及び米国特許第５９６１７５０号に記載されている３元合金Ｚｒ−Ｃｏ−Ａ（Ａはイットリウム、ランタン、希土類又はそれらの混合物から選択される元素を示す。）、詳しくは商品名Ｓｔ７８７で出願人が製造及び販売している質量パーセント組成がＺｒ８０．８％−Ｃｏ１４．２％−Ａ５％の合金を挙げることができる。これら材料の堆積物は好ましくはスパッタリング又は電子線蒸着により製造される。

図８は本発明のプラズマディスプレイパネル８０を、その最も一般的な実施態様においてチャンネルと直交する方向から見た横断面図であり、その中でゲッター材料の堆積物が８１、８１’、．．．によって後者の性質とは無関係に示されている。

ＮＥＧ材料は例えば３００℃を超える比較的高温でより良好に作用し、それゆえＰＤＰの製造プロセス中において、ガス放出に有利な状態にディスプレイの構成要素をさらす、又は２枚の（前面及び背面）ガラスパネルを封着するための一般的な熱工程の最中にＮＥＧ材料は主に活性である。それとは反対に水分吸着材料は室温でより良好に作用し、酸化カルシウムの場合は、ＰＤＰの製造プロセス中に生じる温度で水が放出されることさえある。従って、ＮＥＧはＰＤＰの製造中に不純物を除去するのにより有用である一方、水分吸着剤はＰＤＰの耐用期間中により有用である。この２種類の材料が相補的であることを考慮すると、本発明の方法について水分吸着性材料及びＮＥＧの堆積物を交互に形成することを予見することも可能である。図９はこのように代替する可能性を図８と同様の図で示し、ディスプレイ９０において水分吸着性材料の堆積物９１、９１’、．．．はＮＥＧ材料の堆積物９２、９２’、．．．と交互になっている。こうして、ＮＥＧはＰＤＰの製造中にチャンネル（又はセル）の内部雰囲気を清浄に維持するのに寄与し、同時にこの工程中に水分吸着剤から放出されるであろう水を吸着し、一方水分吸着剤はＰＤＰの耐用期間中に各チャンネル(又はセル）から水を除去する機能を発揮するように、ＰＤＰの全てのチャンネル（又はセル）は両方の材料表面にさらされている。この構造を得るためには、例えば２つの連続した堆積段階において、２つの隣接するリブ間の距離と同じ長さの間隔で２つの段階の間にマスク６０を注意深く動かしてスパッタすることにより、２つの異なる材料の堆積物を製造すれば十分であろう。

いずれの場合もこれら堆積物中に気孔が存在するとガスと接触する材料表面が増大し、その結果吸着特性、特に速度が増大するので、あまり圧縮されていないゲッター堆積物を製造するような方法で操作することが好ましいであろう。ガス吸着に特に効果的なＮＥＧ堆積物をスパッタして製造する１つの方法は、出願人の名前で欧州特許出願公開１５１８５９９ Ａ２に記載されている。

好ましくはアルカリ土類金属酸化物又はＮＥＧ材料のいずれかのゲッター堆積物は、一般に手間がかかってプロセス全体のコストに影響する、異なるプロセスチャンバへの移送回数を制限するために、前面ガラスパネルのＭｇＯ層を製造するのに用いた手法と同じもので製造する。

さらなる変形においては、二酸化チタンＴｉＯ₂をゲッター材料に追加することが可能である。実際に、この材料は紫外線に照射されると触媒的に炭化水素をより簡単な種に変換し、さらに含酸素ガスの存在下で水及びＣＯ₂に変換する能力があることが知られている。ゲッター材料による炭化水素の吸着効率が低いため、（動作中内部で紫外線が発生する）プラズマディスプレイパネル中にＴｉＯ₂を追加すると、これらの種をより効率的に吸着される他の種へと変換することが可能となる。例えばスクリーン印刷によって形成する水分吸着性材料の堆積物の場合、ＴｉＯ₂粒子を初期懸濁物に添加することが可能である。他の場合では、ＴｉＯ₂堆積物は（完成したディスプレイ中でリブと接触するように）ゲッター材料堆積物の上、又は（ゲッター材料と酸化マグネシウムの間になるように）その下に好ましくは追加される。

本発明の方法を用いれば、ゲッター材料の堆積物の寸法及び局在化に関する要求を緩和することが可能であるため、ＰＤＰ中にそのような材料を導入することが容易となる。特に、正確な位置決め及び寸法でリブ上にゲッターを堆積するのに際して、米国特許第６６０３２６０号が直面する問題は回避される。これらの利点は、図４に図示する場合のような複雑な形状のリブを用いてＰＤＰを製造しなければならない場合に特に評価されるだろう。

先行技術のプラズマディスプレイパネルのチャンネルに対して直角に見た横断面図である。 先行技術のプラズマディスプレイパネルの前面ガラスパネルのみの、図１の横断面図と直交する横断面の部分図である。 本技術分野で既知のディスプレイのチャンネル又はセルを画定するリブの特定の実施態様である。 本技術分野で既知のディスプレイのチャンネル又はセルを画定するリブの特定の実施態様である。 本技術分野で既知のディスプレイのチャンネル又はセルを画定するリブの特定の実施態様である。 本発明の第１の実施態様において本発明の方法を特徴付ける主な操作工程を、図２と同様の図で示したものである。 図６と同様に、別の実施態様において本発明の方法を特徴付ける主な操作工程を示したものである。 本発明の最も一般的な実施態様における本発明のプラズマディスプレイパネルを、図１と同様の横断面図で示したものである。 別の実施態様によるプラズマディスプレイパネルを、図８と同様の図で示したものである。

Claims (16)

1. （複数の）対の維持電極（Ｅ₁）及び走査電極（Ｅ₂）、該電極を保護する誘電材料層（ＤＦ）、並びに該誘電材料層を被覆する酸化マグネシウム層（Ｍ）を備えた、プラズマディスプレイパネルの前面ガラスパネル（ＦＰ）を製造し、
   完成したディスプレイにおけるチャンネル（Ｃ）又はセルを画定するために設計された隔壁（Ｒ）、アドレス電極（ＡＥ）及び蛍光体（ＰＲ；ＰＧ；ＰＢ）を備えた、プラズマディスプレイパネルの背面ガラスパネル（ＲＰ）を製造し、
   該前面及び背面ガラスパネルの外周縁部に沿って封着して、該ディスプレイの内部に閉じた空間又は複数の閉じた空間を画定し、
   該ディスプレイの動作に必要な希ガス混合物を該空間に充填する
   工程を含み、
   該封着工程の前に、該酸化マグネシウム層の自由表面上で、該前面ガラスパネルと該背面ガラスパネル上の該隔壁との間の接触領域に本質的に対応する位置にゲッター材料堆積物（６３、６３’、．．．；７２、７２’、．．．；８１、８１’、．．．；９１、９１’、．．．；９２、９２’、．．．）を形成することを特徴とする、
   プラズマディスプレイパネル（８０；９０）の製造方法。
2. 前記堆積物が前記酸化マグネシウム層の奥部（７１、７１’、．．．）に形成される、請求項１に記載の方法。
3. 前記封着及び充填工程の間に、前記ガラスパネルのうち１つにある開口部に接続されたチューブ（tubulation）を通してポンプ引きすることにより前記内部空間の排気操作を行い、最後に該チューブを高温で圧縮することにより前記ディスプレイを封着する、請求項１に記載の方法。
4. 前記ディスプレイの動作に必要な前記希ガス混合物に相当する雰囲気が中に存在するチャンバ内で前記封着工程を行い、かつ前記封着及び充填工程が同時である、請求項１に記載の方法。
5. 前記堆積物の形成がスクリーン印刷、スパッタリング、化学気相堆積及び電子線蒸着の中から選択される手法により行われる、請求項１に記載の方法。
6. 前記使用する手法がスクリーン印刷の場合に、前記形成される堆積物がその結合のために熱処理を受ける、請求項５に記載の方法。
7. 前記ゲッター材料が水分吸着性材料である、請求項１に記載の方法。
8. 前記水分吸着性材料がカルシウム、ストロンチウム及びバリウムの酸化物、これらの混合物、又はそれらを酸化マグネシウムと混合したものの中から選択される、請求項７に記載の方法。
9. 前記ゲッター材料が非蒸発性ゲッター材料である、請求項１に記載の方法。
10. 前記非蒸発性ゲッター材料が金属チタン及びジルコニウム、又は遷移金属及びアルミニウムの中から選択される１種以上の元素を含んでなるそれらの合金の中から選択される、請求項９に記載の方法。
11. 前記酸化マグネシウム層の上に水分吸着性材料の堆積物（９１、９１’、．．．）が非蒸発性ゲッター材料の堆積物（９２、９２’、．．．）と交互に形成されている、請求項１に記載の方法。
12. 前記ゲッター材料堆積物の寸法及び位置合せが、形状及び位置について前記堆積物の寸法及び位置合わせに適合した開口部（６１、６１’、．．．）を有するマスク（６０）により得られ、前記マスクは前記堆積工程中に前記酸化マグネシウム層の自由表面に接触するか、その近傍にあるように配置される、請求項１に記載の方法。
13. 前記交互した堆積物がマスク（６０）を用いた２つの連続する堆積段階で得られ、該マスクは該２つの堆積段階の間に前記隔壁と直交する方向に２つの隣接する隔壁間の距離に相当する間隔で動かされる、請求項１１に記載の方法。
14. 請求項１に記載の方法で得られるプラズマディスプレイパネル（８０）。
15. 請求項１１に記載の方法で得られるプラズマディスプレイパネル（９０）。
16. 前記ゲッター材料の粒子と混合された粒子の状態又は前記ゲッター材料堆積物と接触する堆積物の状態の二酸化チタンも含む、請求項１４又は１５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル。

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