JP2008303161A - 含フッ素アルコキシアルカンの製造方法 - Google Patents
含フッ素アルコキシアルカンの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】一般式(1)R1−O−R2−O−R3で表され、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つがフッ素原子を含む含フッ素アルコキシアルカンの製造方法であり、一般式(2)R1−OH、一般式(3)R3−O−R2−OH、一般式(4)R1−O−R2−OHおよび一般式(5)R3−OHで表される化合物よりなる群から選ばれる最も酸性度の高いアルコールと、一般式(6)Lg−R2−O−R3、一般式(7)Lg−R1、一般式(8)Lg−R3および一般式(9)Lg−R2−O−R1(Lgはアニオン性の脱離基を表す)で表される化合物よりなる群から選ばれる1種とを、塩基性化合物の存在下で反応させる。
【選択図】なし
Description
ROCH2CH2OR'
(式中、RはCF3CH2−または(CF3)2CH−で表される1価の基を示し、R'は−CH3、−C2H5、−CH(CH3)2、−CH2CF3または(CF3)2CH−を示す)で表されるジアルコキシエタンをフッ素化した化合物等を提案している。フッ素化されたジアルコキシエタンを含む非水溶媒は、粘度が小さいため、出力と耐酸化性とを向上させる効果がある。
非特許文献4、5には、アルコールが有する水酸基の酸性度に関する情報が記載されている。
R1−O−R2−O−R3 (1)
(R1およびR3は炭素数1〜6のアルキル基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよく、R2は炭素数2〜4のアルキレン基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよい)で表され、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つがフッ素原子を含む、含フッ素アルコキシアルカンの製造方法であって、
第1化合物と、第1化合物と反応する第2化合物とを、塩基性化合物または塩基性化合物を含む溶媒中で反応させる工程を含み、
第1化合物が、一般式(2)〜(5):
R1−OH (2)
R3−O−R2−OH (3)
R1−O−R2−OH (4)
R3−OH (5)
で表される化合物よりなる群から選ばれる最も酸性度の高いアルコールであり、
第2化合物が、一般式(6)〜(9):
Lg−R2−O−R3 (6)
Lg−R1 (7)
Lg−R3 (8)
Lg−R2−O−R1 (9)
(Lgはアニオン性の脱離基を表す)
で表される化合物よりなる群から選ばれる1種であり、かつ、第1化合物と反応して上記の含フッ素アルコキシアルカンを与える化合物である、含フッ素アルコキシアルカンの製造方法(製造方法Aとも称する)に関する。
製造方法Aでは、第1化合物の共役塩基は、見かけ上、生成物である含フッ素アルコキシアルカンを求核攻撃しないため、副生成物の生成を抑制することができる。このため、高い収率を達成することができる。
すなわち、一般式(2)〜(5)のうち、一般式(2)の化合物の酸性度が最も高い場合には、第1化合物として一般式(2)の化合物を用い、第2化合物として一般式(6)の化合物を用いる。
同様に、一般式(2)〜(5)のうち、一般式(3)の酸性度が最も高い場合には、第1化合物として一般式(3)の化合物を用い、第2化合物として一般式(7)の化合物を用いる。
また、一般式(2)〜(5)のうち、一般式(4)の酸性度が最も高い場合には、第1化合物として一般式(4)の化合物を用い、第2化合物として一般式(8)の化合物を用いる。
また、一般式(2)〜(5)のうち、一般式(5)の酸性度が最も高い場合には、第1化合物として一般式(5)の化合物を用い、第2化合物として一般式(9)の化合物を用いる。
R5−O−R4−O−R5 (10)
(R4は炭素数2〜4のアルキレン基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよく、R5は炭素数1〜6のアルキル基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよい)で表され、R4およびR5のうちの少なくとも一方がフッ素原子を含む、含フッ素アルコキシアルカンの製造方法であって、
第3化合物と、第3化合物と反応する第4化合物とを、塩基性化合物または塩基性化合物を含む溶媒中で反応させる工程を含み、
第3化合物が、一般式(11)および(12):
HO−R4−OH (11)
R5−OH (12)
で表される化合物よりなる群から選ばれる酸性度の高い方のアルコールの共役塩基であるアルコキシドであり、
第4化合物が、一般式(13)および(14):
Lg−R5 (13)
Lg−R4−Lg' (14)
(LgおよびLg'は、それぞれアニオン性の脱離基を表す)
で表される化合物よりなる群から選ばれる1種であり、かつ、第3化合物と反応して上記の含フッ素アルコキシアルカンを与える化合物である、含フッ素アルコキシアルカンの製造方法(製造方法Bとも称する)に関する。
すなわち、一般式(12)よりも一般式(11)の化合物の酸性度の方が高い場合には、第3化合物として一般式(11)の共役塩基であるアルコキシドを用い、第4化合物として一般式(13)の化合物を用いる。
同様に、一般式(11)よりも一般式(12)の酸性度が最も高い場合には、第3化合物として一般式(12)の共役塩基であるアルコキシドを用い、第4化合物として一般式(14)の化合物を用いる。
R1−O−R2−O−R3 (1)
(R1およびR3は炭素数1〜6のアルキル基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよく、R2は炭素数2〜4のアルキレン基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよい)で表され、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つがフッ素原子を含む含フッ素アルコキシアルカンを高い収率で生成する。
R1−OH (2)
R3−O−R2−OH (3)
R1−O−R2−OH (4)
R3−OH (5)
で表される化合物よりなる群から選ばれる最も酸性度の高いアルコールである。
Lg−R2−O−R3 (6)
Lg−R1 (7)
Lg−R3 (8)
Lg−R2−O−R1 (9)
(Lgはアニオン性の脱離基を表す)
で表される化合物よりなる群から選ばれる1種であり、第1化合物と反応して、一般式(1)で表される含フッ素アルコキシアルカンを生成する。
R2の具体例としては、例えばエチレン基などが挙げられる。
アニオン性の脱離基(Lg)は、フッ素以外のハロゲン原子、例えば塩素、臭素、ヨウ素の他、パラトルエンスルホン基(p−CH3C6H4SO3−)およびトリフルオロメタンスルホン基(CF3SO3−)などが好ましい。
アルコールが有する水酸基の酸性度の測定方法は、特に限定されないが、有機化学の通常の知識を有する者もしくは当業者であれば、当然に酸性度を求めることができる。例えば、非特許文献4および5に示されている方法や、同文献中の表および引用されている参考文献から、酸性度を直接求め、または間接的に類推することができる。
また、第1化合物の共役塩基であるアルコキシドを予め調製する場合には、ピリジン、ピコリン、ルチジンなどの塩基性化合物や第1化合物自身を溶媒とすることが好ましい。これらの溶媒に対するアルコキシドの溶解度は高いため、反応を均一に行うことができ、含フッ素アルコキシアルカンの収率が更に向上する。
R5−O−R4−O−R5 (10)
(R4は炭素数2〜4のアルキレン基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよく、R5は炭素数1〜6のアルキル基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよい)で表され、R4およびR5のうちの少なくとも一方がフッ素原子を含む含フッ素アルコキシアルカンを高い収率で生成する。
HO−R4−OH (11)
R5−OH (12)
で表される化合物よりなる群から選ばれる酸性度の高い方のアルコールの共役塩基であるアルコキシドである。
Lg−R5 (13)
Lg−R4−Lg' (14)
(LgおよびLg'は、それぞれアニオン性の脱離基を表す)
で表される化合物よりなる群から選ばれる1種であり、第3化合物と反応して、一般式(10)で表される含フッ素アルコキシアルカンを与える。
R4の具体例としては、例えばエチレン基などが挙げられる。
アニオン性の脱離基(Lg、Lg')は、フッ素以外のハロゲン原子、例えば塩素、臭素、ヨウ素の他、パラトルエンスルホン基(p−CH3C6H4SO3−)およびトリフルオロメタンスルホン基(CF3SO3−)などが好ましい。
溶媒中では、第3化合物であるアルコキシドは、第4化合物中の脱離基(Lg、Lg')が結合している炭素を求核攻撃し、第4化合物から脱離基を脱離させる。これにより、一般式(10)で表される含フッ素アルコキシアルカンが生成する。この反応を式[5]に示す。
また、一般式(12)〜(13)で表されるアルコールから第3化合物であるアルコキシドを予め生成させる場合には、ピリジン、ピコリン、ルチジンなどの塩基性化合物や第3化合物自身を溶媒とすることが好ましい。これらの溶媒に対するアルコキシドの溶解度は高い。そのため、反応を均一に行うことができ、含フッ素アルコキシアルカンの収率が更に向上する。
第3化合物と第4化合物とを反応させる際の溶媒の温度は、特に限定されないが、−85〜80℃が好適である。
《実施例1》
一般式(1)で表される含フッ素アルコキシアルカンとして、2,2,2−トリフルオロエトキシメトキシエタン(一般式(1)のR1=CF3CH2−、R2=−CH2CH2−、R3=CH3−の場合に相当)を合成した。
回転子を備えた500mLの三口フラスコに、塩基性化合物である関東化学(株)製の水素化ナトリウム(純度>55%)30gを投入した。滴下ロートと三方コックとを取り付けたジムロート(Dimroth)冷却管で、フラスコ内を密閉化した後、フラスコの内部をアルゴンで置換した。
フラスコ内に、溶媒であるAldrich社製の脱水ジメチルスルホキシドを250mL加えて、懸濁液を調製した。懸濁液に対して、第2化合物である、東京化成工業(株)製の2−メトキシエチルパラトルエンスルホネート(一般式(6)のR2=−CH2CH2−、R3=CH3−、Lg=パラトルエンスルホン基の場合に相当)132mLをシリンジで加え、混合溶液を得た。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、混合溶液に対して、第1化合物である2,2,2−トリフルオロエタノール(一般式(2)のR1=CF3CH2−の場合に相当)50mLを滴下し、均一溶液とした。均一溶液を2時間攪拌し、減圧下、液体窒素トラップを用いて低沸点成分を分取した。これにより、2,2,2−トリフルオロエトキシメトキシエタンを得た。
溶媒には、関東化学(株)製の脱水ジエチルエーテルを用いた。第2化合物には、東京化成工業(株)製の2−ブロモエチルメチルエーテル(一般式(6)のR2=−CH2CH2−、R3=CH3−、Lg=Brの場合に相当)60mLを用いた。それ以外は、実施例1と同様にして、2,2,2−トリフルオロエトキシメトキシエタンを得た。
回転子を備えた500mLの三口フラスコに、塩基性化合物である関東化学(株)製の水素化ナトリウム(純度>55%)30gを投入した。滴下ロートおよび三方コックを取り付けたジムロート(Dimroth)冷却管で、フラスコ内を密閉化した後、フラスコの内部をアルゴンで置換した。
フラスコ内に、関東化学(株)製のβ−ピコリンを250mL加えて懸濁液を調製した。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、懸濁液に対して、滴下ロートを用いて、第1化合物である2,2,2−トリフルオロエタノール(一般式(2)のR1=CF3CH2−の場合に相当)50mLを滴下し、混合溶液とした。滴下ロートをピリジン20mLで洗浄後、さらに第2化合物である東京化成工業(株)製の2−メトキシエチルパラトルエンスルホネート(一般式(6)のR2=−CH2CH2−、R3=CH3−、Lg=パラトルエンスルホン基の場合に相当)132mLを、滴下ロートを用いて混合溶液に加えた。第2化合物を加えた混合溶液は2時間攪拌し、減圧下(20kPa)、分留にて沸点70℃付近の成分を分取した。これにより、2,2,2−トリフルオロエトキシメトキシエタンを得た。
回転子を備えた1000mLの三口フラスコに、関東化学(株)製のパラトルエンスルホニルクロリド153gを投入した。滴下ロートおよび三方コックを付けたジムロート(Dimroth)冷却管でフラスコ内を密閉化した後、フラスコの内部をアルゴンで置換した。
フラスコ内に、関東化学(株)製の脱水ピリジン330mLをシリンジで加えた。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、2,2,2−トリフルオロエタノール57.6mLを滴下し、混合溶液とした。混合溶液を2時間攪拌した後、混合溶液を氷冷しながら、5Nの塩酸を約200mL加えた。5Nの塩酸は、関東化学(株)製の濃塩酸を希釈して調製した。関東化学(株)製のジエチルエーテル約200mLを加えて有機層を抽出した後、これを水洗し、さらに関東化学(株)製の炭酸水素ナトリウムの飽和溶液200mLで洗浄した。洗浄後、関東化学(株)製の無水硫酸マグネシウムを用いて有機層を乾燥し、ジエチルエーテルをエバポレーターにて除去した。得られた生成物の主成分は、2,2,2−トリフルオロエチルパラトルエンスルホネートであった。2,2,2−トリフルオロエチルパラトルエンスルホネートの収率は約95%であった。
フラスコ内に、Aldrich社製の脱水ジメチルスルホキシドを250mL加え、さらに関東化学(株)製の2−メトキシエタノール132mLをシリンジで加えた。
一方、上記で調製した生成物50mLをDMSO100mLに溶解させ、溶液を調製した。
水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、上記で調製した生成物の溶液をフラスコ内に滴下し、混合溶液とした。混合溶液は2時間攪拌し、減圧下、液体窒素トラップを用いて低沸点成分を分取した。これにより、2,2,2−トリフルオロエトキシメトキシエタンを得た。
回転子を備えた500mLの三口フラスコに関東化学(株)製の水素化ナトリウム(純度>55%)30gを投入し、滴下ロートおよび三方コックを付けたDimroth冷却管でフラスコ内を密閉化した後、フラスコの内部をアルゴンで置換した。
フラスコ内に関東化学(株)製の脱水ピリジンを250mL加え、さらに東京化成工業(株)製の2−メトキシエチルパラトルエンスルホネート132mLをシリンジで加えた。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、Fluorochem社製1−ヨード−2,2,2−トリフルオロエタン67mLをフラスコ内に滴下した。滴下後、さらに撹拌を2時間継続した後、減圧下、液体窒素トラップを用いて低沸点成分を分取した。これにより、2,2,2−トリフルオロエトキシメトキシエタンを得た。
一方、比較例1および2では、いずれも2,2,2−トリフルオロエトキシメトキシエタンの収率が10%を下回っていた。また、比較例1〜2の生成物の1H−NMR解析では、ジグリムおよびビス(2,2,2−トリフルオロエチル)エーテルが生成していることが認められた。この原因は、以下のように考えられる。
一般式(10)で表される含フッ素アルコキシアルカンとして、ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)エタン(一般式(10)のR5=CF3CH2−、R4=−CH2CH2−の場合に相当)を合成した。
まず、以下の要領で第4化合物を調製した。回転子を備えた1000mLの三口フラスコに、関東化学(株)製のパラトルエンスルホニルクロリド153gを投入した。滴下ロートおよび三方コックを取り付けたジムロート(Dimroth)冷却管でフラスコ内を密閉化した後、フラスコの内部をアルゴンで置換した。
フラスコ内に、関東化学(株)製の脱水ピリジン330mLをシリンジで加えた。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、2−ブロモエタノール57mLをフラスコ内に滴下して、混合溶液とした。混合溶液を2時間攪拌した後、混合溶液を氷冷しながら、5Nの塩酸を約200mL加えた。5Nの塩酸は、関東化学(株)製の濃塩酸を希釈して調製した。関東化学(株)製のジエチルエーテル約200mLを加えて有機層を抽出した後、これを水洗し、さらに関東化学(株)製の炭酸水素ナトリウムの飽和溶液200mLで洗浄した。洗浄後、関東化学(株)製の無水硫酸マグネシウムを用いて有機層を乾燥し、ジエチルエーテルをエバポレーターにて除去した。これにより、第4化合物として用いる2−ブロモエチルパラトルエンスルホネート(一般式(14)のR4=−CH2CH2−、Lg=Br、Lg'=パラトルエンスルホン基の場合に相当)を得た。2−ブロモエチルパラトルエンスルホネートの収率は約95%であった。
フラスコ内に、関東化学(株)製のβ−ピコリンを250mL加えて懸濁液を調製した。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、懸濁液に2,2,2−トリフルオロエタノール(一般式(12)のR5=CF3CH2−の場合に相当)50mLを滴下し、混合溶液とした。混合溶液中では、2,2,2−トリフルオロエタノールから、第3化合物である2,2,2−トリフルオロエトキシドを生成させた。
一方、第4化合物である2−ブロモエチルパラトルエンスルホネート96.3gをβ−ピコリン150mLに溶解させた。この溶液を、ピリジン20mLで洗浄後の滴下ロートを用いて、混合溶液に加えた。第4化合物を加えた混合溶液は2時間攪拌し、減圧下(20kPa)、分留にて沸点70℃付近の成分を分取した。
回転子を備えた500mLの三口フラスコに、関東化学(株)製の水素化ナトリウム(純度>55%)30gと、第4化合物として、2,2,2−トリフルオロエチルパラトルエンスルホネート(一般式(13)のR5=CF3CH2−、Lg=パラトルエンスルホン基の場合に相当)175gとを投入した。滴下ロートおよび三方コックを取り付けたジムロート(Dimroth)冷却管でフラスコ中を密閉化した後、フラスコの内部をアルゴンで置換した。
フラスコ内に、関東化学(株)製の脱水ジメチルスルホキシドを250mL加えて懸濁液を調製した。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、Aldrich社製の脱水エチレングリコール(pKa:15.4(水中))19mLをフラスコ内に滴下し、混合溶液とした。混合溶液を2時間攪拌した後、減圧下、液体窒素トラップを用いて低沸点成分を分取した。しかし、ビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)エタンは得られなかった。
一方、比較例3では、目的化合物であるビス(2,2,2−トリフルオロエトキシ)エタンが全く得られなかった。また、1H−NMR解析では、エチレンオキシドとビス(2,2,2−トリフルオロエチル)エーテルが生成していることが認められた。この原因は、以下のように考えられる。
まず、式[8]に示すように、エチレングリコールから生成したジアルコキシドは、2,2,2−トリフルオロエチルパラトルエンスルホネートを求核攻撃する。これにより、中間体である2,2,2−トリフルオロエチルエトキシドが生成し、この中間体が分子内環化しものと考えられる。
このようにして生成した2,2,2−トリフルオロエトキシドは、2,2,2−トリフルオロエチルパラトルエンスルホネートを求核攻撃する。その結果、ビス(2,2,2−トリフルオロエチル)エーテルが生成したと考えられる。
このように、HOCH2CH2OH、CF3CH2OCH2CH2OHおよびCF3CH2OHのうち、水酸基の酸性度が最も高いアルコールのアルコキシドを用いることが、副生成物の生成を抑制するのに有効であることがわかった。
一般式(10)で表される含フッ素アルコキシアルカンとして、1,2−ジメトキシ−1,1,2,2−テトラフルオロエタン(一般式(10)のR5=−CH3、R4=−CF2CF2−の場合に相当)を合成した。
回転子を備えた200mLの三口フラスコに、関東化学(株)製の水素化ナトリウム(純度>55%)8.73gとを投入した。滴下ロートおよび三方コックを取り付けたジムロート(Dimroth)冷却管で、フラスコ中を密閉化した後、フラスコの内部をアルゴンで置換した。
フラスコ内に関東化学(株)製の脱水ジメチルスルホキシドを80mL加えて懸濁液を調製した。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、Aldrich社製の脱水メタノール8.1mLをフラスコ内に滴下し、混合溶液を得た。
混合溶液にAlfa Aesar社製の1,2−ジヨードテトラフルオロエタン(一般式(11)のR4=−CF2CF2−の場合に対応するジアルコキシド(第3化合物)を生成する化合物)6.7mLを滴下後、2時間攪拌した。引き続き、混合溶液に東京化成工業(株)製のメチルパラトルエンスルホネート(一般式(13)のR5=−CH3、Lg=パラトルエンスルホネート基の場合に相当)18.6gを、ジメチルスルホキシド10mLに溶解させたものを滴下し、その後、さらに2時間撹拌した。減圧下、液体窒素トラップを用いて低沸点成分を分取した。
回転子を備えた200mLの三口フラスコに、関東化学(株)製の水素化ナトリウム(純度>55%)4.36gとを投入した。滴下ロートおよび三方コックを取り付けたジムロート(Dimroth)冷却管でフラスコ中を密閉化した後、フラスコの内部をアルゴンで置換した。
フラスコ内に関東化学(株)製の脱水ジメチルスルホキシドを80mL加えて懸濁液を調製した。水浴を用いて反応系を室温付近に保ちながら、滴下ロートを用いて、Aldrich社製脱水メタノール4.0mLをフラスコ内に滴下し、混合溶液を得た。
混合溶液にAlfa Aesar社製1,2−ジヨードテトラフルオロエタン6.7mLを滴下後、さらに撹拌を2時間継続した。減圧下、液体窒素トラップを用いて、低沸点成分を分取した。
比較例4では1,2−ジヨードテトラフルオロエタンに対して、それぞれ2当量の水素化ナトリウムとメタノールとを用いたため、式[9]に示す反応が期待された。
Claims (14)
- 一般式(1):
R1−O−R2−O−R3 (1)
(R1およびR3は炭素数1〜6のアルキル基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよく、R2は炭素数2〜4のアルキレン基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよい)で表され、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つがフッ素原子を含む、含フッ素アルコキシアルカンの製造方法であって、
第1化合物と、前記第1化合物と反応する第2化合物とを、塩基性化合物または塩基性化合物を含む溶媒中で反応させる工程を含み、
前記第1化合物が、一般式(2)〜(5):
R1−OH (2)
R3−O−R2−OH (3)
R1−O−R2−OH (4)
R3−OH (5)
で表される化合物よりなる群から選ばれる最も酸性度の高いアルコールであり、
前記第2化合物が、一般式(6)〜(9):
Lg−R2−O−R3 (6)
Lg−R1 (7)
Lg−R3 (8)
Lg−R2−O−R1 (9)
(Lgはアニオン性の脱離基を表す)
で表される化合物よりなる群から選ばれる1種であり、かつ、前記第1化合物と反応して前記含フッ素アルコキシアルカンを与える化合物である、含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。 - 前記第1化合物と前記第2化合物との組み合わせが、一般式(2)と一般式(6)の化合物、一般式(3)と一般式(7)の化合物、一般式(4)と一般式(8)の化合物、または、一般式(5)と一般式(9)の化合物の組み合わせである、請求項1記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記脱離基が、塩素、臭素、ヨウ素、パラトルエンスルホン基(p−CH3C6H4SO3−)およびトリフルオロメタンスルホン基(CF3SO3−)よりなる群から選ばれる1種である、請求項1または2記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記溶媒が、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、2−メチルピロリジノン、ピリジン、ピコリン、ルチジンおよびジオキサンよりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記塩基性化合物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、金属ナトリウム、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリンおよびルチジンよりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項1〜4のいずれかに記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記第1化合物と前記塩基性化合物とを前記溶媒に添加した後、前記第2化合物を前記溶媒に添加する、請求項1〜5のいずれかに記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記第2化合物と前記塩基性化合物とを前記溶媒に添加した後、前記第1化合物を前記溶媒に添加する、請求項1〜5のいずれかに記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 一般式(10):
R5−O−R4−O−R5 (10)
(R4は炭素数2〜4のアルキレン基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよく、R5は炭素数1〜6のアルキル基であり、水素原子の一部がフッ素原子で置換されていてもよい)で表され、R4およびR5のうちの少なくとも一方がフッ素原子を含む、含フッ素アルコキシアルカンの製造方法であって、
第3化合物と、前記第3化合物と反応する第4化合物とを、塩基性化合物または塩基性化合物を含む溶媒中で反応させる工程を含み、
前記第3化合物が、一般式(11)および(12):
HO−R4−OH (11)
R5−OH (12)
で表される化合物よりなる群から選ばれる酸性度の高い方のアルコールの共役塩基であるアルコキシドであり、
前記第4化合物が、一般式(13)および(14):
Lg−R5 (13)
Lg−R4−Lg' (14)
(LgおよびLg'は、それぞれアニオン性の脱離基を表す)
で表される化合物よりなる群から選ばれる1種であり、かつ、前記第3化合物と反応して前記含フッ素アルコキシアルカンを与える化合物である、含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。 - 前記第3化合物と前記第4化合物との組み合わせが、一般式(11)の共役塩基であるアルコキシドと一般式(13)の化合物、または、一般式(12)の共役塩基であるアルコキシドと一般式(14)の化合物の組み合わせである、請求項8記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記脱離基が、塩素、臭素、ヨウ素、パラトルエンスルホン基(p−CH3C6H4SO3−)およびトリフルオロメタンスルホン基(CF3SO3−)よりなる群から選ばれる1種である、請求項8または9記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記溶媒が、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、2−メチルピロリジノン、ピリジン、ピコリン、ルチジンおよびジオキサンよりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項8〜10のいずれかに記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記塩基性化合物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、金属ナトリウム、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、ルチジンおよびナトリウムアミドよりなる群から選ばれる少なくとも1種を含む、請求項8〜11のいずれかに記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記第3化合物と前記塩基性化合物とを前記溶媒に添加した後、前記第4化合物を前記溶媒に添加する、請求項8〜12のいずれかに記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
- 前記第4化合物と前記塩基性化合物とを前記溶媒に添加した後、前記第3化合物を前記溶媒に添加する、請求項8〜12のいずれかに記載の含フッ素アルコキシアルカンの製造方法。
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