JP2008294290A - 基板及び電気光学装置並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】マイクグレーションなどの腐食を防止することが可能な基板を提供する。
【解決手段】基板は、ベース層と、その少なくとも一方の面に形成された配線パターンと、その少なくとも一部を覆うカバー層とを備える。配線パターンの少なくとも一部には、カバー層から例えば大気中に露出する端子が設けられている。端子の表面はメッキ層により覆われており、少なくともカバー層と端子の境界に位置する領域はレジストなどの材料によりなる保護層により覆われている。これにより、カバー層と端子の境界に位置する領域において、当該端子が大気中に露出することを防止できる。これにより、基板が高温高湿の環境下に置かれたような場合でも、大気中に存在する水分がカバー層と端子の境界に位置する当該端子へ侵入することを保護層により阻まれ、その結果、端子にマイグレーション等の腐食が発生することを防止できる。
【選択図】図3
【解決手段】基板は、ベース層と、その少なくとも一方の面に形成された配線パターンと、その少なくとも一部を覆うカバー層とを備える。配線パターンの少なくとも一部には、カバー層から例えば大気中に露出する端子が設けられている。端子の表面はメッキ層により覆われており、少なくともカバー層と端子の境界に位置する領域はレジストなどの材料によりなる保護層により覆われている。これにより、カバー層と端子の境界に位置する領域において、当該端子が大気中に露出することを防止できる。これにより、基板が高温高湿の環境下に置かれたような場合でも、大気中に存在する水分がカバー層と端子の境界に位置する当該端子へ侵入することを保護層により阻まれ、その結果、端子にマイグレーション等の腐食が発生することを防止できる。
【選択図】図3
Description
本発明は、電気光学装置に好適に用いられる基板の構造に関する。
従来より、液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマディスプレイ装置、及びフィールドエミッション表示装置などに代表される各種の電気光学装置が知られている。
そのような電気光学装置では、携帯機器などの電子機器と電気的に接続するために、FPC(Flexible Printed Circuit)などの基板が用いられる。かかる基板は、電子機器から出力される電気信号を電気光学装置へ出力する媒体として重要な役割を有している。
ここで、前記基板の一例としてのFPCは、例えばポリイミド樹脂等からなる可撓性を有するベース層と、ベース層の一方の面に形成され、銅等の導電材料からなる配線パターンと、配線パターンの大半を覆うカバー層と、を有して構成される。そして、配線パターンの両端には端子が設けられており、端子の表面には、腐食の発生を防止して、導電性を高めるために、例えば電解金メッキなどのメッキ処理が施される。配線パターンの両端側に設けられた端子のうち、一方の端子は、電気光学装置に実装された半導体回路(例えば、ドライバICなど)の入力端子と電気的に接続される一方、他方の端子は、ZIF(Zero Insertion Force)型コネクタなどのコネクタ端子と電気的に接続される。なお、当該コネクタの端子は、電子機器のコネクタ端子と電気的に接続される。
例えば、特許文献1には、この種の構成を有するフレキシブル配線基板等とZIF型コネクタとの接続部の構成が記載されている。この特許文献1によれば、フレキシブル配線基板等の銅配線端子部の少なくともZIF型コネクタのピンと導通させる部分に予め薄い樹脂皮膜層を形成することで、ウイスカーと称する髭状の結晶が銅配線端子部にて急速に発生するのを抑制することとしている。
上記したFPCや特許文献1に記載のFPCの製造過程において、端子又は銅配線端子部をメッキで完全に覆うことはメッキ処理の技術上困難を伴う。
このため、特に、カバー層又はカバーレイフィルムと、端子又は銅配線端子部との境界付近、或いは端子又は銅配線端子部のエッジ付近などにおいて、端子又は銅配線端子部にメッキが形成されない虞がある。
そうすると、前記のFPCが高温高湿の環境下に置かれたような場合には、前記の境界付近又は前記のエッジ付近に位置する端子又は銅配線端子部へ水分が浸入し、その水分などを原因として、端子又は銅配線端子部に、例えばマイクグレーションなどの腐食が発生してしまうといった課題ある。
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、マイクグレーションなどの腐食を防止することが可能な基板及びそれを用いた電気光学装置並びに電子機器を提供することを課題とする。
本発明の1つの観点では、基板は、ベース層と、前記ベース層の少なくとも一方の面に形成された配線パターンと、前記配線パターンの少なくとも一部を覆うカバー層と、を備え、前記配線パターンの少なくとも一部には、前記カバー層から露出する端子が設けられており、前記端子の表面はメッキ層により覆われており、少なくとも前記カバー層と前記端子の境界に位置する領域は保護層により覆われている。
上記の基板は、ベース層と、前記ベース層の少なくとも一方の面に形成された配線パターンと、前記配線パターンの少なくとも一部(例えば、配線パターンの一端又は両端)を覆うカバー層と、を備える。好適な例では、ベース層は、例えばポリイミド樹脂等からなる可撓性を有する材料にて形成されていることが好ましい。また、配線パターンは、銅等の導電材料からなることが好ましい。また、カバー層は、例えば、耐薬品性、耐熱性等に優れた可撓性を有するカバーレイフィルムであることが好ましい。
そして、配線パターンの少なくとも一部には、カバー層から、例えば大気中に露出する端子が設けられている。好適な例では、前記端子は一方向に向かって千鳥状に配列されている。また、端子の表面はメッキ層により覆われており、少なくともカバー層と端子の境界に位置する領域は保護層により覆われている。好適な例では、保護層は、例えば感光性を有するレジストなどの材料により形成されていることが好ましい。
これにより、カバー層と端子との境界に位置する領域において、当該端子が例えば大気中に露出してしまうことを防止できる。これによって、基板が高温高湿の環境下に置かれたような場合でも、大気中に存在する水分が、カバー層と端子との境界に位置する、当該端子へ侵入することを保護層により阻まれる。その結果、複数の端子を有し、且つ隣り合う各端子の間隔が極めて狭い構成の下でも、前記の水分などを原因として端子にマイグレーションなどの腐食が発生してしまうことを防止できる。
上記の基板の一つの態様では、少なくとも前記端子のエッジ部分に位置する領域は前記保護層により覆われている。
これにより、カバー層と端子との境界に位置する領域、及び少なくとも端子のエッジ部分に位置する領域において、当該端子が例えば大気中に露出してしまうことを防止できる。これによって、基板が高温高湿の環境下に置かれたような場合でも、大気中に存在する水分が、カバー層と端子との境界に位置する、端子の部分、及び少なくとも端子のエッジ部分へ夫々侵入することを保護層により阻まれる。その結果、複数の端子を有し、且つ隣り合う各端子の間隔が極めて狭い構成の下でも、前記の水分などを原因として端子にマイグレーションなどの腐食が発生してしまうことを防止できる。
上記の基板の他の態様では、前記端子は外部端子と接続するための接続部を有し、前記接続部を除く前記端子に対応する部分は前記保護層により覆われており、前記接続部に位置する前記保護層には開口が設けられていると共に、前記メッキ層により覆われた前記接続部は前記開口の位置において露出している。
この態様によれば、端子は、例えばZIF型コネクタの外部端子と接続するための接続部を有する。そして、接続部を除く端子に対応する部分は保護層により覆われている。また、接続部に位置する保護層には開口が設けられていると共に、メッキ層により覆われた接続部は開口の位置において、例えば大気中に露出している。
これにより、端子の接続部以外の部分が、例えば大気中に露出してしまうといったことを防止できる。これによって、基板が高温高湿の環境下に置かれたような場合でも、大気中に存在する水分が、カバー層と端子との境界に位置する、端子の部分、及び端子のエッジ部分へ夫々侵入することを保護層により阻まれる。その結果、複数の端子を有し、且つ隣り合う各端子の間隔が極めて狭い構成の下でも、前記の水分などを原因として端子にマイグレーションなどの腐食が発生してしまうことを防止できる。
また、この態様では、端子においてメッキ層により覆われた接続部のみが例えば大気中に露出するため、メッキ層により覆われた、隣り合う端子の間隔に比べて、メッキ層により覆われてない、隣り合う接続部の間隔が大きくなる。よって、隣り合う端子間にてマイグレーションがより起き難くなるので、その分だけ、隣り合う端子の間隔を小さくすることができ、その結果、端子の数を増やすことが可能となる。
本発明の他の観点では、上記の基板を備える電気光学装置を構成することができる。これにより、高品質な表示画像が得られる。また、本発明の更に他の観点では、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。
以下、図面を参照して本発明を実施するための最良の形態について説明する。
[第1実施形態]
(基板の構成)
まず、図1乃至図3を参照して、本発明の第1実施形態に係る基板70の構成等について説明する。
(基板の構成)
まず、図1乃至図3を参照して、本発明の第1実施形態に係る基板70の構成等について説明する。
図1は、第1実施形態に係る基板70の概略構成を示す平面図である。図2は、図1の破線領域A1を拡大した基板70の要部拡大平面図であり、特に、基板70の端子71付近の平面構造を示す。図3(a)は、図2の切断線X1−X2に沿った基板70の端子71付近の構成を示す断面図である。図3(b)は、図2の切断線X3−X4に沿った基板70の端子71付近の構成を示す断面図である。
基板70は、例えばFPCなどの可撓性を有する配線基板であり、好適な例では携帯機器などの電子機器と画像表示手段としての電気光学装置とを電気的に接続する媒体としての役割を有する。
まず、図1及び図2において、基板70の平面構成に着目すると、基板70の両端側には、配線パターン82と電気的に接続された複数の端子71、72が設けられている。一方の各端子71は、例えばZIF型コネクタ80の外部端子と電気的に接続される一方、他方の各端子72は、例えば電気光学装置の電気光学物質を駆動する半導体回路(例えば、ドライバIC)の入力端子と電気的に接続される。ZIF型コネクタ80の外部端子(図示略)は、例えば携帯機器などの電子機器の出力側のコネクタ端子と電気的に接続される。なお、複数の端子71、72のうち、少なくとも一方の端子71は、一方向(端子71の延在方向に対し直交する方向)に向かって千鳥状に且つ一定の間隔をおいて配列されている。但し、本発明では、少なくとも一方の端子71の配列構造に限定はない。
次に、図3において、基板70の断面構成に着目すると、基板70は、例えばポリイミド樹脂等からなる可撓性を有するベース層81と、ベース層81の少なくとも一方の面81aに形成され、銅等の導電材料からなる配線パターン(回路)82と、配線パターン82の少なくとも一部を覆うカバー層83と、を有して構成される。ここで、カバー層83は、例えば、耐薬品性、耐熱性等に優れた可撓性を有するカバーレイフィルムであることが好ましい。カバー層83は、接着剤84を用いて配線パターン82等に接合されている。配線パターン82の少なくとも一部(本例では、両端)には、図1乃至図3に示すように、カバー層83から露出する複数の端子71、端子72が設けられている。複数の端子71、72のうち、少なくとも一方の各端子71の表面は、メッキ層85により覆われている。メッキ層85は、少なくとも一方の各端子71の表面に対してメッキ処理を施すことにより形成される。好適な例では、メッキ層85は、電解金メッキ層であることが好ましい。カバー層83と各端子71との境界に位置する領域(太い破線にて囲まれる領域)は保護層86により覆われている。ここで、保護層86は、例えば感光性を有するレジストなどの材料により形成されていることが好ましい。
次に、比較例と比較した、第1実施形態に係る基板70の有利な点について説明する。
まず、比較例に係る基板700の構成及びその課題について説明する。なお、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。
図4は、図2に対応する、比較例に係る基板700の端子71x付近の平面構造を示す。図5(a)は、図4の切断線X1−X2に沿った基板700の端子71付近の構成を示す断面図である。図5(b)は、図4の切断線X3−X4に沿った基板700の端子71付近の構成を示す断面図である。
比較例と第1実施形態とを比較した場合、比較例では、カバー層83と各端子71の境界部分(破線領域A2の部分)が保護層86により覆われていない点のみが第1実施形態と異なる。このため、比較例では次のような課題が生じる。
一般的に、基板の製造過程では、各端子の表面をメッキ層により完全に覆うことはメッキ処理の技術上困難を伴う。
このため、比較例において、各端子71の表面に対して、メッキ処理を施しメッキ層85を形成した場合、カバー層83と各端子71との境界に位置する領域(破線領域A2)、或いは、ベース層71と各端子71のエッジ部分71eとの境界に位置する領域(破線領域A3)では、メッキ処理の技術上、端子71の表面にメッキ層85が形成され難く、破線領域A2及びA3に位置する端子71の部分が大気中に露出してしまうことがある。さらに、比較例では、カバー層83と各端子71との境界に位置する、隣り合う各端子71の間隔が極めて狭い。
このため、比較例に係る基板700が高温高湿の環境下に置かれたような場合には、大気中に存在する水分が破線領域A2及びA3に位置する各端子71側へと浸入し、その水分などを原因として、端子71に、マイクグレーションなどの腐食が発生してしまうといった課題ある。ここで、マイグレーションとは、端子間に電圧が印加されたとき、陽極の端子側から金属イオンが溶出して端子間に析出し、絶縁性能を低下させる現象をいい、最悪の場合には、端子間の短絡を引き起こす現象をいう。
このような課題を踏まえ、第1実施形態に係る基板70では、カバー層83と各端子71との境界に位置する領域(太い破線にて囲まれる領域)を、例えばレジストなどからなる保護層86により覆う。これにより、カバー層83と各端子71との境界に位置する領域において、当該各端子71が大気中に露出してしまうことを防止できる。これによって、基板70が高温高湿の環境下に置かれたような場合でも、大気中に存在する水分が、カバー層83と各端子71との境界に位置する、各端子71へ侵入することを保護層86により阻まれる。その結果、隣り合う各端子71の間隔が極めて狭い構成の下でも、前記の水分などを原因として各端子71にマイグレーションなどの腐食が発生してしまうことを防止できる。
[第2実施形態]
(基板の構成)
次に、図6を参照して、本発明の第2実施形態に係る基板70xの構成等について説明する。なお、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。
(基板の構成)
次に、図6を参照して、本発明の第2実施形態に係る基板70xの構成等について説明する。なお、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。
図6は、図2に対応する、第2実施形態に係る基板70xの端子71付近の平面構造を示す。
第1実施形態では、図2及び図3に示すように、カバー層83と各端子71との境界に位置する領域は保護層86により覆われていたが、少なくとも各端子71のエッジ部分71eに位置する領域、具体的にはベース層71と各端子71のエッジ部分71eとの境界に位置する領域(破線領域A3)は、保護層86により覆われていない。つまり、第1実施形態では、メッキ処理の技術上、ベース層71と各端子71のエッジ部分71eとの境界に位置する領域(破線領域A3)において、各端子71のエッジ部分71eが大気中に露出してしまう虞がある。そうすると、第1実施形態に係る基板70が高温高湿の環境下に置かれたような場合には、大気中に存在する水分が破線領域A3に位置する各端子71側へと浸入し、その水分などを原因として、各端子71にマイグレーションなどの腐食が発生してしまう虞がある。
そこで、このような課題を改善するため、第2実施形態では、カバー層83と各端子71との境界に位置する領域(破線領域A2)を保護層86により覆うのに加えて、さらに、少なくとも各端子71のエッジ部分71e、具体的にはベース層71と各端子71のエッジ部分71eとの境界に位置する領域(破線領域A3)を保護層86により覆う。
これにより、カバー層83と各端子71との境界に位置する領域(破線領域A2)、及びベース層71と各端子71のエッジ部分71eとの境界に位置する領域(破線領域A3)において、当該各端子71が大気中に露出してしまうことを防止できる。これによって、基板70xが高温高湿の環境下に置かれたような場合でも、大気中に存在する水分が、カバー層83と各端子71との境界に位置する、各端子71の部分、及び各端子71のエッジ部分71eへ夫々侵入することを保護層86により阻まれる。その結果、隣り合う各端子71の間隔が極めて狭い構成の下でも、前記の水分などを原因として各端子71にマイグレーションなどの腐食が発生してしまうことを防止できる。
[第3実施形態]
次に、図7及び図8等を参照して、本発明の第3実施形態に係る基板70yの構成等について説明する。なお、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。
次に、図7及び図8等を参照して、本発明の第3実施形態に係る基板70yの構成等について説明する。なお、以下では、第1実施形態と同一の要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。
図7は、図2に対応する、第3実施形態に係る基板70yの端子71付近の平面構造を示す。図8(a)は、図7の切断線X1−X2に沿った基板70yの端子71付近の構成を示す断面図である。図8(b)は、図7の切断線X3−X4に沿った基板70yの端子71付近の構成を示す断面図である。
第3実施形態に係る基板70yでは、その設計上の制約{ZIF型コネクタ80の外部端子に対する、必要最小限の端子パッド(後述の接続部71cに相当)の接触面積を確保すること、当該端子パッドの大きさのバラツキ、当該端子パッドとZIF型コネクタ80の外部端子との接続時の公差など}を考慮して、各端子71の全体に対応する部分を保護層86により覆うと共に、ZIF型コネクタ80の外部端子と各端子71とを接続するために、当該端子71の端子パッドに対応する保護層86に開口86hを設ける。
具体的には、基板70yでは、各端子71は、ZIF型コネクタ80などの外部端子と接続するための接続部71cを有し、各接続部71cを除く各端子71に対応する部分は保護層86により覆われており、各接続部71cに位置する保護層86には開口86hが設けられていると共に、メッキ層85により覆われた各接続部71cは各開口86hの位置において大気中に露出している。つまり、第3実施形態では、大気中に露出する各端子71に対応する部分がメッキ層85により覆われた接続部71cのみであり、第3実施形態は、第1及び第2実施形態と比較して、大気中に露出する各端子71に対応する部分が極めて少なくなっている。
これにより、各端子71の接続部71c以外の部分が大気中に露出してしまうといったことを防止できる。これによって、基板70yが高温高湿の環境下に置かれたような場合でも、大気中に存在する水分が、カバー層83と各端子71との境界に位置する、各端子71の部分、及び各端子71のエッジ部分71eへ夫々侵入することを保護層86により阻まれる。その結果、隣り合う各端子71の間隔が極めて狭い構成の下でも、前記の水分などを原因として各端子71にマイグレーションなどの腐食が発生してしまうことを防止できる。
また、第3実施形態では、各端子71においてメッキ層85により覆われた各接続部71cのみが大気中に露出するため、第1実施形態と比較して、次のような有利な点も存する。即ち、第1実施形態では、カバー層83と端子71の境界に対応する領域を除いて、一方向(端子71の延在方向に対し直交する方向)に隣り合う端子71同士に対応する部分は大気中に露出しており、その間隔はd1である。これに対して、第3実施形態では、前記一方向に隣り合う端子71同士に対応する部分は、メッキ層85により覆われた接続部71c以外の部分を除いて保護層86により覆われており、大気中に露出していない。このため、第3実施形態では、大気中に露出する、前記一方向に隣り合う端子71に対応する部分、即ちメッキ層85により覆われた接続部71cの間隔はd2(>d1)である。このため、第3実施形態では、第1実施形態と比べて、隣り合う端子71間にてマイグレーションがより起き難くなるので、その分だけ、前記一方向に隣り合う端子71の間隔d1を小さくすることができ、その結果、端子71の数を増やすことが可能となる。
[変形例]
上記の各種の実施形態では、配線パターン82と電気的に接続された複数の端子71、72、メッキ層85、カバー層83、保護層86などは、ベース層81の一方の面81aに設けられていたが、それらの要素は、前記一方の面81aに対しベース層81の反対側の面、或いは前記一方の面81a及び前記反対側の面の両方に設けられていても構わない。
上記の各種の実施形態では、配線パターン82と電気的に接続された複数の端子71、72、メッキ層85、カバー層83、保護層86などは、ベース層81の一方の面81aに設けられていたが、それらの要素は、前記一方の面81aに対しベース層81の反対側の面、或いは前記一方の面81a及び前記反対側の面の両方に設けられていても構わない。
また、上記の各種の実施形態では、複数の端子71の腐食し易い部分を保護層86により覆うこととしたが、これに限らず、本発明では、複数の端子72の腐食し易い部分を保護層86により覆うようにしても構わない。
その他、本発明では、その趣旨を逸脱しない範囲において、種々の変形をすることが可能である。
[電気光学装置への適用例]
次に、図9を参照して、上記した基板70、70x又は70yを適用した電気光学装置の一例としての液晶装置の構成について説明する。なお、本発明では、液晶装置の構成及び駆動方法等に限定はなく、以下の構成等はあくまで一例を示すものである。
次に、図9を参照して、上記した基板70、70x又は70yを適用した電気光学装置の一例としての液晶装置の構成について説明する。なお、本発明では、液晶装置の構成及び駆動方法等に限定はなく、以下の構成等はあくまで一例を示すものである。
(液晶装置の構成)
図9は、本実施形態に係る液晶装置100の構成を模式的に示す平面図である。図9では、紙面手前側(観察側)にカラーフィルタ基板102が、また、紙面奥側に素子基板101が夫々配置されている。図9において、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の各着色層6に対応する領域は1つのサブ画素領域SGを示していると共に、それら3つのサブ画素領域SGにより構成される1行3列の画素配列は、1つの画素領域Gを示している。
図9は、本実施形態に係る液晶装置100の構成を模式的に示す平面図である。図9では、紙面手前側(観察側)にカラーフィルタ基板102が、また、紙面奥側に素子基板101が夫々配置されている。図9において、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の各着色層6に対応する領域は1つのサブ画素領域SGを示していると共に、それら3つのサブ画素領域SGにより構成される1行3列の画素配列は、1つの画素領域Gを示している。
そして、1つの画素領域Gがマトリクス状に並べられた領域が有効表示領域V(2点鎖線により囲まれる領域)である。この有効表示領域Vに、文字、数字、図形等の画像が表示される。なお、有効表示領域Vの外側の領域は表示に寄与しない額縁領域38となっている。
液晶装置100は、素子基板101と、その素子基板101に対向して配置されるカラーフィルタ基板102とが枠状のシール材5を介して貼り合わされ、そのシール材5の内側に、例えば、TN(Twisted Nematic)型の液晶が封入されて液晶層4が形成されてなる。
液晶装置100は、3色の着色層6を用いて構成されるカラー表示用の液晶装置であると共に、スイッチング素子の一例としてα−Si型のTFT素子を用いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置である。また、液晶装置100は、本実施形態の例では透過型表示のみを行う透過型の液晶装置であるが、当該液晶装置100は、反射表示型又は半透過反射型の液晶装置であっても構わない。
まず、素子基板101の平面構成について説明する。素子基板101の構成要素である透明基板101xの液晶層4側の内面上には、主として、複数のソース線32、複数のゲート線33、複数のα−Si型TFT素子21、複数の画素電極10、電気光学物質の一例としての液晶を駆動する半導体回路の一例としてのドライバIC40、外部接続用端子35、配線15、及び基板70、70x又は70yなどが形成若しくは実装されている。また、素子基板101の外面上には照明装置としてのバックライト(図示略)が配置されている。
図9に示すように、素子基板101の透明基板101xは、カラーフィルタ基板102の一辺側から外側へ張り出してなる張り出し領域36を有しており、その張り出し領域36上には、ドライバIC40が実装されている。ドライバIC40の入力側の端子(図示略)は、各外部接続用端子35の一端側と電気的に接続されていると共に、各外部接続用端子35の他端側は、基板70、70x又は70yの各端子72と電気的に接続されている。また、基板70、70x又は70yの各端子71は、例えばZIF型コネクタ80の外部端子の一端側と電気的に接続されていると共に、ZIF型コネクタ80の外部端子の他端側は、電子機器の出力側のコネクタ端子と電気的に接続される。
各ソース線32は、ドライバIC40の出力側から有効表示領域Vにかけて延在するように形成されている。各ソース線32の一端側は、ドライバIC40の出力側の端子(図示略)に電気的に接続されている。
各ゲート線33は、ソース線32の延在方向と平行な方向に延在するように形成された第1配線33aと、その第1配線33aの終端部から有効表示領域V側にかけて折れ曲がるように形成された第2配線33bとを備えている。各ゲート線33の第1配線33aの一端側は、ドライバIC40の出力側の端子(図示略)に電気的に接続されている。
各α−Si型TFT素子21は、各ソース線32と各ゲート線33の第2配線33bの交差位置に対応して設けられている。そして、各α−Si型TFT素子21は、各ソース線32、各ゲート線33及び各画素電極10等に電気的に接続されている。各画素電極10は、各サブ画素領域SG内に設けられている。
配線15の一端側は、ドライバIC40のCOMに対応する出力端子(接地用端子)に電気的に接続されている。
次に、カラーフィルタ基板102の平面構成について説明する。カラーフィルタ基板102は、遮光層(一般に「ブラックマトリクス」と呼ばれ、以下では、単に「BM」と略記する)、R、G、Bの3色の着色層6、及び共通電極8などを備える。
各着色層6は、サブ画素領域SGに対応する位置に設けられている。BMは、各ゲート線33の第2配線33b及び各α−Si型TFT素子21に対応する位置などに形成されている。共通電極8は、画素電極と同様にITOなどの透明導電材料からなり、シール材5の内側の領域に略一面に亘って形成されている。共通電極8は、シール材5の隅の領域E1において配線15の他端側と電気的に接続されている。
以上の構成を有する液晶装置100は、その駆動時に次のようにして動作を行う。
まず、画像信号が供給されるソース線32はα−Si型TFT素子21のソース電極(図示略)に繋がっており、画素電極10は、α−Si型TFT素子21のドレイン電極(図示略)に接続されている。そして、α−Si型TFT素子21のゲート電極(図示略)にはゲート線33が繋がっており、スイッチング素子であるα−Si型TFT素子21を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、ソース線32から供給される画像信号S1、S2、…、Snを所定のタイミングで書き込む。また、ゲート信号G1、G2、…、Gmは、ゲート線33に所定のタイミングでパルス的に、この順に線順次で印加される。
このような駆動方法によって透過型表示がなされる場合、バックライトから出射した照明光は、画素電極10及びR、G、Bの各着色層6等を通過して観察者に至る。この場合、その照明光は、その各着色層6を通過することにより所定の色相及び明るさを呈する。こうして、所望のカラー表示画像が観察者により視認される。
以上の構成を有する液晶装置100では、少なくとも一方の端子71の腐食防止を図ることが可能な基板70、70x又は70yを用いているので、高品質な表示画像が得られる。
[電子機器]
次に、上述した実施形態に係る液晶装置100を備える電子機器の具体例について図10を参照して説明する。
次に、上述した実施形態に係る液晶装置100を備える電子機器の具体例について図10を参照して説明する。
まず、本実施形態に係る液晶装置100を、可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)の表示部に適用した例について説明する。図10(a)は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ710は、キーボード711を備えた本体部712と、本実施形態に係る液晶装置100を適用した表示部713とを備えている。
続いて、本実施形態に係る液晶装置100を、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図10(b)は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機720は、複数の操作ボタン721のほか、受話口722、送話口723とともに、本実施形態に係る液晶装置100を適用した表示部724を備える。
なお、本実施形態に係る液晶装置100を適用可能な電子機器としては、図10(a)に示したパーソナルコンピュータや図10(b)に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
70、70x、70y 基板、 71、72 端子、 71e エッジ部分、 81 ベース層、 82 配線パターン、 83 カバー層、 85 メッキ層、 86 保護層、 86h 開口、 100 液晶装置
Claims (6)
- ベース層と、前記ベース層の少なくとも一方の面に形成された配線パターンと、前記配線パターンの少なくとも一部を覆うカバー層と、を備え、
前記配線パターンの少なくとも一部には、前記カバー層から露出する端子が設けられており、
前記端子の表面はメッキ層により覆われており、
少なくとも前記カバー層と前記端子の境界に位置する領域は保護層により覆われていることを特徴とする基板。 - 少なくとも前記端子のエッジ部分に位置する領域は前記保護層により覆われていることを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 前記端子は外部端子と接続するための接続部を有し、
前記接続部を除く前記端子に対応する部分は前記保護層により覆われており、
前記接続部に位置する前記保護層には開口が設けられていると共に、前記メッキ層により覆われた前記接続部は前記開口の位置において露出していることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板。 - 前記端子は一方向に向かって千鳥状に配列されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板。
- 請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板を備えることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項5に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
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- 2007-05-25 JP JP2007139256A patent/JP2008294290A/ja active Pending
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