JP2008291224A - ポリエーテルスルホン系高分子電解質,固体高分子電解質膜,燃料電池,およびその製造方法 - Google Patents
ポリエーテルスルホン系高分子電解質,固体高分子電解質膜,燃料電池,およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008291224A JP2008291224A JP2008103364A JP2008103364A JP2008291224A JP 2008291224 A JP2008291224 A JP 2008291224A JP 2008103364 A JP2008103364 A JP 2008103364A JP 2008103364 A JP2008103364 A JP 2008103364A JP 2008291224 A JP2008291224 A JP 2008291224A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer electrolyte
- polyethersulfone
- membrane
- structural unit
- sulfomethylated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/30—Hydrogen technology
- Y02E60/50—Fuel cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Fuel Cell (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】スルホン基含有ビフェニル単位を含有するフェニルエーテルスルホン構造単位(I)と、スルホン基含有ビスフェノ−ルF単位を含有するフェニルエーテルスルホン構造単位(II)とを共に有するポリエーテルスルホン系高分子電解質。該ポリエーテルスルホン系高分子固体電解質膜を用いた固体高分子型燃料電池。
【選択図】なし
Description
(2)式(II)で表される構造単位に対する式(I)で表される構造単位の共重合比Rが,0.1<R<10であることを特徴とする前項(1)に記載のポリエーテルスルホン系高分子電解質、
(3)全てのn=n’=1であることを特徴とする前項(1)又は(2)に記載のポリエーテルスルホン系高分子電解質、
(4)スルホン酸基1モル当たりの当量重量が,200から1000であることを特徴とする,前項(1)から(3)のいずれか一項に記載のポリエーテルスルホン系高分子電解質、
(5)下記式(III)で表される構造単位と下記式(IV)で表される構造単位を有するポリエーテルスルホン系共重合体を,ハロゲノアルキル化し,次いでチオアシル化した後に酸化することを特徴とする前項(1)から(4)のいずれか一項に記載のポリエーテルスルホン系高分子電解質の製造方法、
(7)前項(5)に記載の上記式(III)で表される構造単位と上記式(IV)で表される構造単位を有するポリエーテルスルホン系共重合体にスルホ(C1〜C6)アルキル基を導入して得られるポリエーテルスルホン系高分子電解質を用いることを特徴とする固体高分子電解質膜、
(8)前項(6)又は(7)に記載の固体高分子電解質膜を有する固体高分子型燃料電池、
に関する。
本発明のポリエーテルスルホン系高分子電解質は,下記式(I)と(II)で表される構造単位を共に含有するポリエーテルスルホン系高分子から構成される。
また、本発明のポリエーテルスルホン系高分子電解質において、スルホ(C1〜C6)アルキル基導入量は、繰り返し単位の分子量=(I)の分子量×R+(II)の分子量として、スルホン酸当量重量を測定、算出した後、繰り返し単位の分子量で割ることにより繰り返し単位1つ当りに含まれるスルホ(C1〜C6)アルキル基の導入量((p+q+r+s)×R+p’+q’+r’+s’)として算出出来る。
本発明のポリエーテルスルホン系高分子電解質は,例えば、下記式(III)と(IV)で表される構造単位が共重合した構造を含有するポリエーテルスルホン系共重合体を,好適となる任意の共重合比で重合し,このポリエーテルスルホン系共重合体をハロゲノアルキル化し,次いでチオアシル化した後に酸化することで得られる。
EW=(1000×A)/(0.1×B×F)
プロトン伝導率が0.01S/cm以上,好ましくは,0.03S/cm以上であれば,良好なプロトン伝導性を有すると言うことができ,たとえば,燃料電池電解質膜として公知であるナフィオン(登録商標,デュポン社製)は,本測定条件下で0.078S/cmを示す。
スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−1)の合成
(式(V)中,x=y=1、R=x/y=1)
撹拌機,温度計,DeanStark管,還流管を取り付けた1Lの三つ口フラスコに,4,4’−ジクロロジフェニルスルホン181g(0.63mol),4,4’−ビフェノール(BP)56g(0.3mol),2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(BisAF)101g(0.3mol),炭酸カリウム99g(0.72mol),DMAc1000mL,トルエン100mLを入れ,窒素雰囲気下150℃で2時間還流・撹拌した。反応が進行するにつれて生成する水はトルエンと共沸させることで系外に除去した。その後トルエンも留去し反応温度を160℃に上げて20時間還流・撹拌を続けた。得られた反応液をろ過して生成した無機塩を除去し,メタノール4Lで再沈殿することでポリマーを取り出し,ろ過後乾燥することでポリエーテルスルホン系共重合体280gを得た。
スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(A−1膜)の作製
実施例1で合成したスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−1)16gをN,N−ジメチルアセトアミド44gに溶解して27wt%のキャスト用のワニスを調製した。ワニスをガラス基板上に塗膜し,これを真空恒温槽にて120℃で90分,減圧乾燥した。乾燥後膜を所定のサイズにカットし,ガラス基板上から剥離することで,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(A−1膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
プロトン伝導率 0.10S/cm
膨潤性(水) 47%
膨潤性(メタノール) 246%
フェントン試験 重量減少率4%
スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(B−1)の合成
(前記式(V)中,x=2,y=1、R=x/y=2)
撹拌機,温度計,DeanStark管,還流管を取り付けた1Lの三つ口フラスコに,4,4’−ジクロロジフェニルスルホン181g(0.63mol),4,4’−ビフェノール(BP)74g(0.4mol),2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(BisAF)67g(0.2mol),炭酸カリウム99g(0.72mol),DMAc1000mL,トルエン100mLを入れ,窒素雰囲気下150℃で2時間還流・撹拌した。反応が進行するにつれて生成する水はトルエンと共沸させることで系外に除去した。その後トルエンも留去し反応温度を160℃に上げて20時間還流・撹拌を続けた。得られた反応液をろ過して生成した無機塩を除去し,メタノール4Lで再沈殿することでポリマーを取り出し,ろ過後乾燥することでポリエーテルスルホン系共重合体263gを得た。
スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(B−1膜)の作製
実施例2と同様の方法で、実施例3で得られたスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(B−1)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(B−1膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
プロトン伝導率 0.098S/cm
膨潤性(水) 44%
膨潤性(メタノール) 274%
フェントン試験 重量減少率7%
スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(B−2)の合成
(前記式(V)中,x=2,y=1、R=x/y=2)
実施例3で合成したポリエーテルスルホン系共重合体20gを原料にして,ジメトキシメタン50g,塩化チオニル50g,四塩化スズ2.4gを用いて,実施例3と同様の方法でクロロメチル化したポリエーテルスルホン系共重合体22gを合成した。後工程は比較例3と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(B−2)11gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で67000,重量平均分子量で178000であった。
スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(B−2膜)の作製
実施例2と同様の方法で実施例5で得られたスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(B−2)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(B−2膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
プロトン伝導率 0.10S/cm
膨潤性(水) 52%
膨潤性(メタノール) 611%
フェントン試験 重量減少率38%
スルホメチル化ポリエーテルスルホン(VI)膜
撹拌機,温度計,還流管,滴下ロートを取り付けた3000mLの三つ口フラスコに,ポリエーテルスルホン(住友化学製スミカエクセル5200P)150g,ジメトキシメタン75g,塩化チオニル113g,ニトロベンゼン1500mLを入れ,撹拌しながら四塩化スズ50gを滴下し,65℃で5時間反応させた。反応液をメタノール3Lに投入しポリマーを再沈殿させ,ろ過,乾燥することでクロロメチル化ポリエーテルスルホン190gを得た。
プロトン伝導率 0.069S/cm
膨潤性(水) 69%
膨潤性(メタノール) 304%
フェントン試験 60分で溶解した
スルホメチル化ポリフェニルスルホン(VII)膜
ポリフェニルスルホン(Aldrich製)150gを原料にして,ニトロベンゼンの代わりにテトラクロロエタン1500mL,ジメトキシメタン255g,塩化チオニル208g,四塩化スズ35gを用いて,比較例1と同様の方法でクロロメチル化したポリフェニルスルホン270gを合成した。後工程は比較例1と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリフェニルスルホン(VII)91gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で87800,重量平均分子量で333000であった。
プロトン伝導率 0.13S/cm
膨潤性(水) 60%
膨潤性(メタノール) 溶解した
フェントン試験 60分で溶解した
スルホメチル化ポリスルホンAF(VIII)膜
撹拌機,温度計,DeanStark管,還流管を取り付けた1Lの三つ口フラスコに,4,4’−ジクロロジフェニルスルホン90.5g(0.315mol),2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(BisAF)103g(0.3mol),炭酸カリウム50g(0.36mol),DMAc500mL,トルエン100mLを入れ,窒素雰囲気下150℃で2時間還流・撹拌した。反応が進行するにつれて生成する水はトルエンと共沸させることで系外に除去した。その後トルエンも留去し反応温度を160℃に上げて20時間還流・撹拌を続けた。得られた反応液をろ過して生成した無機塩を除去し,メタノール2Lで再沈殿することでポリマーを取り出し,ろ過後乾燥することでポリスルホンAF171gを得た。
プロトン伝導率 0.15S/cm
膨潤性(水) 溶解した
膨潤性(メタノール) 溶解した
フェントン試験 30分で溶解した
プロトン伝導率 膨潤性(水) 膨潤性(メタノール) フェントン試験
(S/cm) (面積増加%) (面積増加%) (重量減少%)
実施例2 0,10 47 246 4
実施例4 0.098 44 274 7
実施例6 0.10 52 611 38
比較例1 0.069 69 304 60分で溶解
比較例2 0.13 60 溶解 60分で溶解
比較例3 0.15 溶解 溶解 30分で溶解
(前記式(V)中,x=y=1、R=x/y=1)
実施例1で合成したポリエーテルスルホン系共重合体40gを原料にして,ジメトキシメタン100g,塩化チオニル100g,四塩化スズ14g,ニトロベンゼン400mLを用いて40℃で3時間反応させ,実施例1と同様の方法でクロロメチル化したポリエーテルスルホン系共重合体43gを合成した。後工程は実施例1と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−2)40gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で54800,重量平均分子量で113000であった。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−2)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(A−2膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 628
プロトン伝導率 0.068S/cm
膨潤性(水) 36%
膨潤性(メタノール) 97%
フェントン試験 重量減少率20%
(前記式(V)中,x=y=1、R=x/y=1)
実施例1で合成したポリエーテルスルホン系共重合体20gを原料にして,ジメトキシメタン50g,塩化チオニル50g,四塩化スズ7g,ニトロベンゼン230mLを用いて40℃で4時間反応させ,実施例1と同様の方法でクロロメチル化したポリエーテルスルホン系共重合体20gを合成した。後工程は実施例1と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−3)13gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で54700,重量平均分子量で128000であった。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−3)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(A−3膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 599
プロトン伝導率 0.078S/cm
膨潤性(水) 40%
膨潤性(メタノール) 180%
フェントン試験 重量減少率9%
(前記式(V)中,x=y=1、R=x/y=1)
撹拌機,温度計,DeanStark管,還流管を取り付けた1Lの三つ口フラスコに,4,4’−ジクロロジフェニルスルホン175.6g(0.612mol),4,4’−ビフェノール(BP)55.9g(0.3mol),2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(BisAF)100.9g(0.3mol),炭酸カリウム99g(0.72mol),DMAc1000mL,トルエン150mLを入れ,窒素雰囲気下150℃で2時間還流・撹拌した。反応が進行するにつれて生成する水はトルエンと共沸させることで系外に除去した。その後トルエンも留去し反応温度を160℃に上げて20時間還流・撹拌を続けた。得られた反応液をろ過して生成した無機塩を除去し,メタノール4Lで再沈殿することでポリマーを取り出し,ろ過後乾燥することでポリエーテルスルホン系共重合体311gを得た。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−4)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(A−4膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 656
プロトン伝導率 0.059S/cm
膨潤性(水) 28%
膨潤性(メタノール) 60%
フェントン試験 重量減少率23%
(前記式(V)中,x=y=1、R=x/y=1)
実施例11で得られたポリエーテルスルホン系共重合体20gを原料にして,ジメトキシメタン50g,塩化チオニル50g,四塩化スズ8g,ニトロベンゼン280mLを用いて40℃で4.5時間反応させ,実施例1と同様の方法でクロロメチル化したポリエーテルスルホン系共重合体19gを合成した。後工程は実施例1と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−5)16gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で83100,重量平均分子量で217000であった。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−5)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(A−5膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 441
プロトン伝導率 0.13S/cm
膨潤性(水) 60%
膨潤性(メタノール) 587%
フェントン試験 重量減少率34%
(前記式(V)中,x=y=1、R=x/y=1)
実施例11で得られたポリエーテルスルホン系共重合体100gを原料にして,ジメトキシメタン250g,塩化チオニル250g,四塩化スズ82g,ニトロベンゼン1400mLを用いて40℃で10時間反応させ,実施例1と同様の方法でクロロメチル化したポリエーテルスルホン系共重合体92gを合成した。後工程は得られた樹脂の一部を実施例1と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−6)10gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で83100,重量平均分子量で217000であった。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−6)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(A−6膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 537
プロトン伝導率 0.10S/cm
膨潤性(水) 52%
膨潤性(メタノール) 156%
フェントン試験 重量減少率20%
(前記式(V)中,x=y=1、R=x/y=1)
実施例11で得られたポリエーテルスルホン系共重合体120gを原料にして,ジメトキシメタン300g,塩化チオニル300g,四塩化スズ18g,ニトロベンゼン1140mLを用いて40℃で7時間反応させ,反応液の一部(250mL)を取り出し実施例1と同様の方法でクロロメチル化したポリエーテルスルホン系共重合体11.2gを合成した。後工程は実施例1と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−7)10gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で131000,重量平均分子量で506000であった。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(A−7)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(A−7膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 510
プロトン伝導率 0.12S/cm
膨潤性(水) 52%
膨潤性(メタノール) 341%
フェントン試験 重量減少率71%
(前記式(V)中,x=2,y=1、R=x/y=2)
実施例3で合成したポリエーテルスルホン系共重合体20gを原料にして,ジメトキシメタ50g,塩化チオニル50g,四塩化スズ2.4g,ニトロベンゼン200mLを用いて40℃で8時間反応させ,実施例1と同様の方法でクロロメチル化したポリエーテルスルホン系共重合体21gを合成した。後工程は実施例1と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(B−3)15gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で54800,重量平均分子量で142000であった。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(B−3)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(B−3膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 592
プロトン伝導率 0.075S/cm
膨潤性(水) 36%
膨潤性(メタノール) 248%
フェントン試験 重量減少率29%
(前記式(V)中,x=1,y=2、R=x/y=0.5)
撹拌機,温度計,DeanStark管,還流管を取り付けた1Lの三つ口フラスコに,4,4’−ジクロロジフェニルスルホン181g(0.63mol),4,4’−ビフェノール(BP)37g(0.2mol),2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン(BisAF)134g(0.4mol),炭酸カリウム99g(0.72mol),DMAc1000mL,トルエン150mLを入れ,窒素雰囲気下150℃で2時間還流・撹拌した。反応が進行するにつれて生成する水はトルエンと共沸させることで系外に除去した。その後トルエンも留去し反応温度を160℃に上げて24時間還流・撹拌を続けた。得られた反応液をろ過して生成した無機塩を除去し,メタノール5Lで再沈殿することでポリマーを取り出し,ろ過後乾燥することでポリエーテルスルホン系共重合体330gを得た。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(C−1)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(C−1膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 661
プロトン伝導率 0.064S/cm
膨潤性(水) 36%
膨潤性(メタノール) 248%
フェントン試験 重量減少率75%
(前記式(V)中,x=1,y=2、R=x/y=0.5)
実施例19で合成したポリエーテルスルホン系共重合体20gを原料にして,ジメトキシメタン50g,塩化チオニル50g,四塩化スズ10g,ニトロベンゼン200mLを用いて40℃で6.5時間反応させ,実施例1と同様の方法でクロロメチル化したポリエーテルスルホン系共重合体18gを合成した。後工程は実施例1と同様の方法で合成し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(C−2)13gを得た。分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィによるポリスチレン換算数平均分子量で49600,重量平均分子量で110000であった。
実施例2と同様の方法でスルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質(C−2)を製膜し,スルホメチル化ポリエーテルスルホン系高分子電解質膜(C−2膜)を作製した。この膜を各種の試験法にて評価した。
イオン交換基当量重量 577
プロトン伝導率 0.088S/cm
膨潤性(水) 44%
膨潤性(メタノール) 508%
フェントン試験 重量減少率5%
プロトン伝導率 膨潤性(水) 膨潤性(メタノール) フェントン試験
(S/cm) (面積増加%) (面積増加%) (重量減少%)
実施例8 0.068 36 97 20
実施例10 0.078 40 180 9
実施例12 0.059 28 60 23
実施例14 0.13 60 587 34
実施例16 0.10 52 156 20
実施例18 0.12 52 341 71
実施例20 0.075 36 248 29
実施例22 0.064 36 248 75
実施例24 0.088 44 508 5
比較例1 0.069 69 304 60分で溶解
比較例2 0.13 60 溶解 60分で溶解
比較例3 0.15 溶解 溶解 30分で溶解
Claims (8)
- 式(II)で表される構造単位に対する式(I)で表される構造単位の共重合比Rが,0.1<R<10であることを特徴とする請求項1に記載のポリエーテルスルホン系高分子電解質。
- 全てのn=n’=1であることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリエーテルスルホン系高分子電解質。
- スルホン酸基1モル当たりの当量重量が,200から1000であることを特徴とする,請求項1から3のいずれか一項に記載のポリエーテルスルホン系高分子電解質。
- 請求項1から4のいずれか一項に記載のポリエーテルスルホン系高分子電解質を用いることを特徴とする固体高分子電解質膜。
- 請求項5に記載の上記式(III)で表される構造単位と上記式(IV)で表される構造単位を有するポリエーテルスルホン系共重合体にスルホ(C1〜C6)アルキル基を導入して得られるポリエーテルスルホン系高分子電解質を用いることを特徴とする固体高分子電解質膜。
- 請求項6又は7に記載の固体高分子電解質膜を有する固体高分子型燃料電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008103364A JP4757274B2 (ja) | 2007-04-23 | 2008-04-11 | ポリエーテルスルホン系高分子電解質,固体高分子電解質膜,燃料電池,およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007112478 | 2007-04-23 | ||
JP2007112478 | 2007-04-23 | ||
JP2008103364A JP4757274B2 (ja) | 2007-04-23 | 2008-04-11 | ポリエーテルスルホン系高分子電解質,固体高分子電解質膜,燃料電池,およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008291224A true JP2008291224A (ja) | 2008-12-04 |
JP4757274B2 JP4757274B2 (ja) | 2011-08-24 |
Family
ID=40166285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008103364A Expired - Fee Related JP4757274B2 (ja) | 2007-04-23 | 2008-04-11 | ポリエーテルスルホン系高分子電解質,固体高分子電解質膜,燃料電池,およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4757274B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010038306A1 (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 日本化薬株式会社 | ポリエーテルスルホン系高分子電解質、固体高分子電解質膜、燃料電池、およびその製造方法 |
WO2010067769A1 (ja) | 2008-12-08 | 2010-06-17 | 日本化薬株式会社 | 1,5-アンヒドログルシトールの電気化学的測定用バイオセンサ、それを用いた測定方法および測定用キット |
JP2013539459A (ja) * | 2010-08-04 | 2013-10-24 | コンパニー ゼネラール デ エタブリッスマン ミシュラン | イオウ含有のスルホン化芳香族ペルフルオロアルカンモノマー |
CN103435805A (zh) * | 2013-09-06 | 2013-12-11 | 重庆杰博科技有限公司 | 含氟联苯聚醚砜共聚物及其制备方法 |
CN111499867A (zh) * | 2020-05-15 | 2020-08-07 | 浙江工业大学 | 一种侧链型无规聚芳醚砜及其制备方法和均相阴离子交换膜 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11116679A (ja) * | 1997-10-16 | 1999-04-27 | Sumitomo Chem Co Ltd | 高分子電解質、高分子電解質膜、及び燃料電池 |
JP2002110174A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質、それを用いた膜、電極触媒被覆用溶液、膜/電極接合体及び燃料電池 |
JP2003100317A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質と膜電極接合体および燃料電池 |
WO2004035660A1 (ja) * | 2002-10-15 | 2004-04-29 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | スルホアルキル基含有高分子の製造方法 |
JP2004131662A (ja) * | 2002-10-15 | 2004-04-30 | Nippon Kayaku Co Ltd | スルホアルキル化ポリスルホン系イオン交換樹脂及びそれを含有するイオン交換膜 |
JP2004190003A (ja) * | 2002-10-15 | 2004-07-08 | Sumitomo Chem Co Ltd | ブロック共重合体およびその用途 |
JP2005126532A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Nippon Kayaku Co Ltd | ポリスルホン系高分子のハロメチル化体の製造法 |
JP2007329120A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-12-20 | Nippon Kayaku Co Ltd | 芳香族炭化水素系イオン伝導性高分子電解質,電解質膜,及びその製造方法 |
JP2008074946A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Toyobo Co Ltd | スルホン酸基含有ポリマー及び該ポリマーを用いた組成物、高分子電解質膜、膜/電極接合体及び燃料電池 |
WO2010038306A1 (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 日本化薬株式会社 | ポリエーテルスルホン系高分子電解質、固体高分子電解質膜、燃料電池、およびその製造方法 |
-
2008
- 2008-04-11 JP JP2008103364A patent/JP4757274B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11116679A (ja) * | 1997-10-16 | 1999-04-27 | Sumitomo Chem Co Ltd | 高分子電解質、高分子電解質膜、及び燃料電池 |
JP2002110174A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質、それを用いた膜、電極触媒被覆用溶液、膜/電極接合体及び燃料電池 |
JP2003100317A (ja) * | 2001-09-21 | 2003-04-04 | Hitachi Ltd | 固体高分子電解質と膜電極接合体および燃料電池 |
WO2004035660A1 (ja) * | 2002-10-15 | 2004-04-29 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | スルホアルキル基含有高分子の製造方法 |
JP2004131662A (ja) * | 2002-10-15 | 2004-04-30 | Nippon Kayaku Co Ltd | スルホアルキル化ポリスルホン系イオン交換樹脂及びそれを含有するイオン交換膜 |
JP2004190003A (ja) * | 2002-10-15 | 2004-07-08 | Sumitomo Chem Co Ltd | ブロック共重合体およびその用途 |
JP2005126532A (ja) * | 2003-10-22 | 2005-05-19 | Nippon Kayaku Co Ltd | ポリスルホン系高分子のハロメチル化体の製造法 |
JP2007329120A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-12-20 | Nippon Kayaku Co Ltd | 芳香族炭化水素系イオン伝導性高分子電解質,電解質膜,及びその製造方法 |
JP2008074946A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Toyobo Co Ltd | スルホン酸基含有ポリマー及び該ポリマーを用いた組成物、高分子電解質膜、膜/電極接合体及び燃料電池 |
WO2010038306A1 (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 日本化薬株式会社 | ポリエーテルスルホン系高分子電解質、固体高分子電解質膜、燃料電池、およびその製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010038306A1 (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-08 | 日本化薬株式会社 | ポリエーテルスルホン系高分子電解質、固体高分子電解質膜、燃料電池、およびその製造方法 |
WO2010067769A1 (ja) | 2008-12-08 | 2010-06-17 | 日本化薬株式会社 | 1,5-アンヒドログルシトールの電気化学的測定用バイオセンサ、それを用いた測定方法および測定用キット |
JP2013539459A (ja) * | 2010-08-04 | 2013-10-24 | コンパニー ゼネラール デ エタブリッスマン ミシュラン | イオウ含有のスルホン化芳香族ペルフルオロアルカンモノマー |
CN103435805A (zh) * | 2013-09-06 | 2013-12-11 | 重庆杰博科技有限公司 | 含氟联苯聚醚砜共聚物及其制备方法 |
CN111499867A (zh) * | 2020-05-15 | 2020-08-07 | 浙江工业大学 | 一种侧链型无规聚芳醚砜及其制备方法和均相阴离子交换膜 |
CN111499867B (zh) * | 2020-05-15 | 2022-07-22 | 浙江工业大学 | 一种侧链型无规聚芳醚砜及其制备方法和均相阴离子交换膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4757274B2 (ja) | 2011-08-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Ko et al. | Cross-linked sulfonated poly (arylene ether sulfone) membranes formed by in situ casting and click reaction for applications in fuel cells | |
US7923492B2 (en) | Polymer electrolyte composition | |
KR101383938B1 (ko) | 고분자 전해질 재료, 이를 이용한 고분자 전해질 성형체 및그의 제조 방법, 막 전극 복합체 및 고체 고분자형 연료 전지 | |
JP4131216B2 (ja) | ポリアリーレンおよびその製造方法、ならびに高分子固体電解質およびプロトン伝導膜 | |
JP4375170B2 (ja) | ブロック共重合体及びその用途 | |
JP5760312B2 (ja) | 新規スルホン酸基含有セグメント化ブロック共重合体ポリマー及びその用途、新規ブロック共重合体ポリマーの製造方法 | |
JP4424129B2 (ja) | ブロック共重合体及びその用途 | |
JPH1021943A (ja) | 燃料電池用高分子電解質及び燃料電池 | |
KR101161483B1 (ko) | 고분자 전해질막 | |
JP4428181B2 (ja) | ニトリル型疎水性ブロックを有するスルホン化ポリマーおよび固体高分子電解質 | |
WO2011016444A1 (ja) | 新規スルホン酸基含有セグメント化ブロック共重合体ポリマー及びその用途 | |
JP4830610B2 (ja) | 芳香族化合物及びスルホン化ポリアリーレン系重合体 | |
JP4757274B2 (ja) | ポリエーテルスルホン系高分子電解質,固体高分子電解質膜,燃料電池,およびその製造方法 | |
JP2004131662A (ja) | スルホアルキル化ポリスルホン系イオン交換樹脂及びそれを含有するイオン交換膜 | |
WO2005063854A1 (ja) | 高分子電解質およびその用途 | |
JP2009185250A (ja) | 単離ポリマーの製造方法 | |
JP2007109472A (ja) | 燃料電池用膜−電極接合体 | |
KR101223708B1 (ko) | 트리 블록 공중합체, 및 그로부터 제조되는 전해질 막 | |
JP4139967B2 (ja) | ポリアリーレンおよびその製造方法、ならびに高分子固体電解質およびプロトン伝導膜 | |
JP3852108B2 (ja) | ポリアリーレン系重合体およびプロトン伝導膜 | |
WO2010038306A1 (ja) | ポリエーテルスルホン系高分子電解質、固体高分子電解質膜、燃料電池、およびその製造方法 | |
EP1862489B1 (en) | Block Copolymer and Use Thereof | |
JP2008270003A (ja) | 高分子電解質組成物,固体高分子電解質膜及びそれを用いた固体高分子型燃料電池 | |
JP2009277532A (ja) | ポリエーテルスルホン系高分子電解質、固体高分子電解質膜、燃料電池、およびその製造方法 | |
JPWO2008078810A1 (ja) | 芳香族化合物およびスルホン酸基を有するポリアリーレン系共重合体、ならびにその用途 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20091028 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110309 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110315 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110531 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110531 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140610 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |