JP2008275966A - 液晶表示装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】量産性を考慮して液晶層の厚さを増大させた場合でも、反射領域で好適に黒表示を行うことのできる液晶表示装置、およびそれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】FFS方式の半透過反射型の液晶表示装置100において、複数の画素100aは、透過表示光を出射する透過領域100t、および反射表示光を出射する反射領域100rを備え、反射領域100rは、液晶層50と第1の偏光板51との間に位相差層27を備えている。偏光板51、52は透過軸同士が直交し、かつ、液晶層50における配向方向が第1の偏光板51の透過軸に平行または直交しており、位相差層27の遅相軸が第1の偏光板51の透過軸となす角が20度以上25度以下、または60度以上75度以下であり、反射領域100rにおける液晶層50のリタデーション値は4分の1波長を超え、位相差層27のリタデーション値は2分の1波長を超えている。
【選択図】 図3
【解決手段】FFS方式の半透過反射型の液晶表示装置100において、複数の画素100aは、透過表示光を出射する透過領域100t、および反射表示光を出射する反射領域100rを備え、反射領域100rは、液晶層50と第1の偏光板51との間に位相差層27を備えている。偏光板51、52は透過軸同士が直交し、かつ、液晶層50における配向方向が第1の偏光板51の透過軸に平行または直交しており、位相差層27の遅相軸が第1の偏光板51の透過軸となす角が20度以上25度以下、または60度以上75度以下であり、反射領域100rにおける液晶層50のリタデーション値は4分の1波長を超え、位相差層27のリタデーション値は2分の1波長を超えている。
【選択図】 図3
Description
本発明は、横電界により液晶を駆動する液晶表示装置、およびこの液晶表示装置を備えた電子機器に関するものである。さらに詳しくは、複数の画素の各々が透過領域および反射領域を備え、当該反射領域に位相差層が形成された半透過反射型の液晶表示装置に関するものである。
液晶表示装置の広視野角化を実現することを目的に、いわゆるフリンジフィールドスイッチング(以下、FFS(Fring Field Switching)という)方式やインプレンスイッチング(以下、IPS(In Plane Switching)という)方式等、横電界により液晶を駆動するタイプの液晶表示装置が実用化されつつある。また、かかるタイプの液晶表示装置において、複数の画素の各々が透過領域および反射領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置が提案されている。
さらに、位相差板の視野角依存性の影響を最小限にすることを前提にして、透過モードと反射モードとでは光が辿る経路の長さが相違することに起因するリタデーション値の差を解消することに目的に、以下の構成
(a)反射領域に位相差層を設ける
(b)第1の偏光板と第2の偏光板を透過軸同士が直交するように配置する
(c)液晶配向方向が第1の偏光板の透過軸に平行である
(d)位相差層の遅相軸が第1の偏光板の透過軸となす角が約22.5度である
(e)反射領域における液晶層のリタデーション値は4分の1波長である
(f)位相差層のリタデーション値は2分の1波長である
を採用することが提案されている(特許文献1参照)。
(a)反射領域に位相差層を設ける
(b)第1の偏光板と第2の偏光板を透過軸同士が直交するように配置する
(c)液晶配向方向が第1の偏光板の透過軸に平行である
(d)位相差層の遅相軸が第1の偏光板の透過軸となす角が約22.5度である
(e)反射領域における液晶層のリタデーション値は4分の1波長である
(f)位相差層のリタデーション値は2分の1波長である
を採用することが提案されている(特許文献1参照)。
すなわち、透過モードでの表示を阻害しないという条件のもとに反射領域のみに位相差層を設けるとともに、偏光板の透過軸と液晶配向方向とを平行ないしは直交に設定し、反射領域における液晶層の位相差を4分の1波長、位相差層での位相差を2分の1波長とした構成を採用している。
このような条件において、反射領域で黒表示を行うには、偏光板の透過軸と位相差層の遅相軸との間の角度をα、偏光板の透過軸と液晶配向方向(液晶の配向軸)との間の角度をβとすると、α、βは、以下の式
β=α×2±45度
を概ね満たす必要があり、前記構成を考慮すると、βは0度(あるいは180度)となるので、αは必然的に22.5度(あるいは約67.5度)となる。
特開2005−338256号公報
β=α×2±45度
を概ね満たす必要があり、前記構成を考慮すると、βは0度(あるいは180度)となるので、αは必然的に22.5度(あるいは約67.5度)となる。
しかしながら、特許文献1に開示の構成(a)〜(f)において、構成(e)(f)で規定するように、波長550nmの光に対する反射領域における液晶層のリタデーション値を4分の1波長とすると、液晶層のΔnが約0.12の場合には、液晶層の厚さを1.1μm程度と極めて薄くせざるを得ず、その結果、量産が困難になるという問題点がある。
以上の問題点に鑑みて、本発明では、量産性を考慮して液晶層の厚さを増大させた場合でも、反射領域で好適に黒表示を行うことのできる液晶表示装置、およびそれを備えた電子機器を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明では、複数の画素の各々に形成された画素電極、および前記複数の画素に跨るように形成された共通電極を備えた素子基板と、該素子基板に対して対向配置された対向基板と、該対向基板と前記素子基板との間でホモジニアス配向された液晶層とを備えた液晶パネルを有し、当該液晶パネルに対して表示光の出射側および反対側に第1の偏光板および第2の偏光板が各々配置された液晶表示装置において、前記複数の画素は、透過表示光を出射する透過領域、および反射表示光を出射する反射領域を備え、当該反射領域には、前記液晶層と前記第1の偏光板との間に位相差層が形成され、前記第1の偏光板と前記第2の偏光板は透過軸同士が直交し、かつ、前記液晶層における初期の配向方向が前記第1の偏光板の透過軸に平行または直交しており、前記位相差層の遅相軸が前記第1の偏光板の透過軸となす角が20度以上25度以下、または60度以上75度以下であり、前記反射領域における前記液晶層のリタデーション値は4分の1波長を超える値に設定され、前記位相差層のリタデーション値は2分の1波長を超える値に設定されていることを特徴とする。
本発明では、反射領域における液晶層のリタデーション値を変えた場合においても、電圧無印加時に反射領域で無彩色の暗表示が得られる位相差層のリタデーション値の範囲を求めたところ、反射領域における液晶層のリタデーション値が4分の1波長を超えた場合でも、位相差層のリタデーション値は2分の1波長を超えていれば、電圧無印加時に反射領域で無彩色の暗表示が得られるという新たな知見を得た。従って、かかる知見に基づいて、液晶表示装置を構成すれば、液晶層の厚さを1.1μm程度まで薄くしなくてもよいので、量産に適した液晶表示装置を提供することができる。
本発明において、前記液晶パネルは、前記素子基板および前記対向基板のうち、対向基板が表示光の出射側に配置され、前記位相差層は、前記対向基板において前記液晶層側の面に形成されている構成を採用することができる。
本発明において、前記反射領域における前記液晶層のリタデーション値をRLc(nm)とし、前記位相差層のリタデーション値をRf(nm)としたとき、RLcおよびRfは、以下の関係
1.3148×RLc+91.985−15 ≦ Rf ≦ 1.3148×RLc+91.985+15
を満たしていることが好ましい。
1.3148×RLc+91.985−15 ≦ Rf ≦ 1.3148×RLc+91.985+15
を満たしていることが好ましい。
本発明を適用した液晶表示装置は、FFS方式およびIPS方式のいずれにも適用することができる。但し、FFS方式の液晶表示装置の場合、共通電極をベタに形成することができるとともに、蓄積容量を別途形成する必要がないなどの利点があるので、本発明は、FFS方式の液晶表示装置に適用することが好ましく、この場合、前記素子基板上において、前記画素電極と前記共通電極との層間には電極間絶縁層が形成されることになる。
本発明を適用した液晶表示装置は、携帯電話機あるいはモバイルコンピュータなどの電子機器の表示部などとして用いられる。
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
[実施の形態1]
(全体構成)
図1(a)、(b)は各々、本発明を適用した液晶表示装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのH−H′断面図である。
(全体構成)
図1(a)、(b)は各々、本発明を適用した液晶表示装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのH−H′断面図である。
図1(a)、(b)において、本形態の液晶表示装置100は、半透過反射型のアクティブマトリクス型液晶表示装置であり、液晶パネル100pは、素子基板10と、素子基板10に対して対向配置された対向基板20と、対向基板20と素子基板10との間でホモジニアス配向された液晶層50とを備えている。素子基板10の上には、シール材107が対向基板20の縁に沿うように設けられており、対向基板20と素子基板10とはシール材107によって貼り合わされている。素子基板10において、シール材107の外側の領域には、データ線駆動回路101および実装端子102が素子基板10の一辺に沿って設けられており、実装端子102が配列された辺に隣接する2辺に沿っては、走査線駆動回路104が形成されている。対向基板20は、シール材107とほぼ同じ輪郭を備えており、このシール材107によって対向基板20が素子基板10に固着されている。そして、素子基板10と対向基板20との間に液晶層50が保持されている。液晶層50、配向方向の誘電率がその法線方向よりも大きい正の誘電率異方性を示す液晶組成物であり、広い温度範囲においてネマチック相を示す。
詳しくは後述するが、素子基板10には、画素電極7aがマトリクス状に形成されている。これに対して、対向基板20には、シール材107の内側領域に遮光性材料からなる額縁状の遮光層23aが形成され、その内側が画像表示領域10aになっている。対向基板20では、素子基板10の画素電極7aの縦横の画素境界領域と対向する領域にブラックマトリクス、あるいはブラックストライプなどと称せられる遮光膜23bが形成されている。
本形態の液晶表示装置100は、液晶層50をFFSモードで駆動する。このため、素子基板10の上には、画素電極7aに加えて、後述する共通電極(図1(b)には図示せず)も形成されており、対向基板20には対向電極が形成されていない。なお、液晶表示装置100において、素子基板10側および対向基板20側の各々に第1の偏光板51および第2の偏光板52が配置され、さらに、素子基板10側にはバックライト装置(図示せず)が配置されている。
(液晶表示装置100の電気的な構成)
図2は、本発明を適用した液晶表示装置100に用いた素子基板10の画像表示領域10aの電気的な構成を示す等価回路図である。図2に示すように、液晶表示装置100の画像表示領域10aには複数の画素100aがマトリクス状に形成されている。複数の画素100aの各々には、画素電極7a、および画素電極7aを制御するための画素スイッチング用の薄膜トランジスタ30が形成されており、データ信号を線順次で供給するデータ線5aが薄膜トランジスタ30のソースに電気的に接続されている。薄膜トランジスタ30のゲートには走査線3aが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線3aに走査信号を線順次で印加するように構成されている。画素電極7aは、薄膜トランジスタ30のドレインに電気的に接続されており、薄膜トランジスタ30を一定期間だけそのオン状態とすることにより、データ線5aから供給されるデータ信号を各画素100aに所定のタイミングで書き込む。このようにして画素電極7aを介して、図1(b)に示す液晶層50に書き込まれた所定レベルの画素信号は、素子基板10に形成された共通電極9aとの間で一定期間保持される。ここで、画素電極7aと共通電極9aとの間には保持容量60が形成されており、画素電極7aの電圧は、例えば、ソース電圧が印加された時間よりも3桁も長い時間だけ保持される。これにより、電荷の保持特性は改善され、コントラスト比の高い表示を行うことのできる液晶表示装置100が実現できる。
図2は、本発明を適用した液晶表示装置100に用いた素子基板10の画像表示領域10aの電気的な構成を示す等価回路図である。図2に示すように、液晶表示装置100の画像表示領域10aには複数の画素100aがマトリクス状に形成されている。複数の画素100aの各々には、画素電極7a、および画素電極7aを制御するための画素スイッチング用の薄膜トランジスタ30が形成されており、データ信号を線順次で供給するデータ線5aが薄膜トランジスタ30のソースに電気的に接続されている。薄膜トランジスタ30のゲートには走査線3aが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線3aに走査信号を線順次で印加するように構成されている。画素電極7aは、薄膜トランジスタ30のドレインに電気的に接続されており、薄膜トランジスタ30を一定期間だけそのオン状態とすることにより、データ線5aから供給されるデータ信号を各画素100aに所定のタイミングで書き込む。このようにして画素電極7aを介して、図1(b)に示す液晶層50に書き込まれた所定レベルの画素信号は、素子基板10に形成された共通電極9aとの間で一定期間保持される。ここで、画素電極7aと共通電極9aとの間には保持容量60が形成されており、画素電極7aの電圧は、例えば、ソース電圧が印加された時間よりも3桁も長い時間だけ保持される。これにより、電荷の保持特性は改善され、コントラスト比の高い表示を行うことのできる液晶表示装置100が実現できる。
図2では、共通電極9aが走査線駆動回路104から延びた配線のように示してあるが、共通電極9aは、素子基板10の画像表示領域10aの略全面に形成されており、所定の電位に保持される。
(各画素の構成)
図3(a)、(b)は各々、本発明を適用した液晶表示装置100の画素1つ分の断面図、および素子基板10において相隣接する画素の平面図であり、図3(a)は、図3(b)のC−C′線に相当する位置で液晶表示装置100を切断したときの断面図に相当する。また、図3(b)では、半導体層1aは点線で示し、画素電極7aは長い点線で示し、データ線5aおよびそれと同時形成された薄膜は一点鎖線で示し、走査線3aは二点鎖線で示し、共通電極9aにおいて部分的に除去された部分は実線で示してある。
図3(a)、(b)は各々、本発明を適用した液晶表示装置100の画素1つ分の断面図、および素子基板10において相隣接する画素の平面図であり、図3(a)は、図3(b)のC−C′線に相当する位置で液晶表示装置100を切断したときの断面図に相当する。また、図3(b)では、半導体層1aは点線で示し、画素電極7aは長い点線で示し、データ線5aおよびそれと同時形成された薄膜は一点鎖線で示し、走査線3aは二点鎖線で示し、共通電極9aにおいて部分的に除去された部分は実線で示してある。
図3(a)、(b)に示すように、素子基板10上には、マトリクス状に複数の透明な画素電極7aが各画素100a毎に形成されている。画素電極7aの縦横の画素境界領域には、薄膜トランジスタ30(画素スイッチング素子)に電気的に接続されたデータ線5a、および走査線3aが形成されている。また、素子基板10の画像表示領域10aの略全面にはITO膜からなる共通電極9aが形成されている。本形態において、共通電極9aはベタに形成されている一方、画素電極7aには、スリット状の開口部7b(長い点線で示す)が複数、形成されている。本形態において、複数の開口部7bは、走査線3aに平行に延びている。
図3(a)において、素子基板10の基体は、石英基板や耐熱性のガラス基板などの透明基板10bからなり、対向基板20の基体は、石英基板や耐熱性のガラス基板などの透明基板20bからなる。本形態では、透明基板10b、20bのいずれについてもガラス基板が用いられている。
再び図3(a)、(b)において、素子基板10には、透明基板10bの表面にシリコン酸化膜などからなる下地保護膜(図示せず)が形成されているとともに、その表面側において、各画素電極7aに隣接する位置にトップゲート構造の薄膜トランジスタ30が形成されている。薄膜トランジスタ30は、島状の半導体膜1aに対して、チャネル形成領域1b、ソース領域1c、ドレイン領域1dが形成された構造を備えており、チャネル形成領域1bの両側に低濃度領域を備えたLDD(Lightly Doped Drain)構造を有するように形成されることもある。本形態において、半導体膜1aは、素子基板10に対してアモルファスシリコン膜を形成した後、レーザアニールやランプアニールなどにより多結晶化されたポリシリコン膜である。
半導体膜1aの上層には、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、あるいはそれらの積層膜からなるゲート絶縁膜2が形成され、ゲート絶縁膜2の上層には、走査線3aの一部がゲート電極として重なっている。本形態では、半導体膜1aがコの字形状に屈曲しており、ゲート電極がチャネル方向における2箇所に形成されたツインゲート構造を有している。
ゲート電極(走査線3a)の上層にはシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、あるいはそれらの積層膜からなる層間絶縁膜4が形成されている。層間絶縁膜4の表面にはデータ線5aが形成され、このデータ線5aは、層間絶縁膜4に形成されたコンタクトホール4aを介して最もデータ線5a側に位置するソース領域に電気的に接続している。また、層間絶縁膜4の表面にはドレイン電極5bが形成されており、ドレイン電極5bは、層間絶縁膜4に形成されたコンタクトホール4bを介してドレイン領域1dに電気的に接続している。ドレイン電極5bは、データ線5aと同時形成された導電膜である。
データ線5aおよびドレイン電極5bの上層側には、素子基板10の画像表示領域10aの略全面にわたって樹脂層6が形成されており、樹脂層6は、厚さが例えば1.5〜2.0μmの厚いアクリル樹脂などの感光性樹脂からなる。
樹脂層6の表面には、その全面にわたって下層側電極層としての共通電極9aがベタのITO膜によって形成されている。共通電極9aの表面には電極間絶縁膜8が形成されている。本形態において、電極間絶縁膜8は、膜厚が400nm以下のシリコン酸化膜あるいはシリコン窒化膜からなる。電極間絶縁膜8の上層には、上層側電極層としての画素電極7aがITO膜によって形成されており、画素電極7aには、前述のスリット状の開口部7bが形成されている。画素電極7aの表面側には配向膜16が形成されている。配向膜16は、ラビング法により配向処理されたポリイミド樹脂膜であり、液晶層50において配向膜16に近接する部分をラビング方向に従って配向させる。
このように構成した状態で、共通電極9aと画素電極7aとは電極間絶縁膜8を介して対向し、電極間絶縁膜8を誘電体膜とする保持容量60が形成される。本形態において、画素電極7aは、樹脂層6に形成されたコンタクトホール6aを介してドレイン電極6bに電気的に接続されている。このため、共通電極9aには、コンタクトホール6aが形成されている部分に矩形の切り欠き9dが形成されている。このように構成した素子基板10では、画素電極7aと共通電極9aとの間に形成された横電界によって、スリット状の開口部7b、およびその周辺で液晶層50を駆動する。
対向基板20では、透光性基板20bの内面(液晶層50が位置する側の面)に、画素配線領域100sおよび薄膜トランジスタ30に対向するように遮光層23bが形成され、遮光層23bで囲まれた領域内には各色のカラーフィルタ22が形成されている。遮光層23bおよびカラーフィルタ22は絶縁保護膜24で覆われている。絶縁保護膜24の表面側には配向膜26が形成されている。配向膜26は、ラビング法により配向処理されたポリイミド樹脂膜であり、液晶層50において配向膜26に近接する部分をラビング方向に従って配向させる。
また、素子基板10と対向基板20との間には、感光性樹脂によって素子基板10に柱状突起(図示せず)を形成し、この柱状突起によって、素子基板10と対向基板20との間隔を所定の値に設定してある。
(各画素の詳細構成)
本形態の液晶表示装置100は半透過反射型であり、複数の画素100aは各々、透過モードで画像を表示する透過領域100tと、反射モードで画像を表示する反射領域100rとを備えている。ここで、樹脂層6は、反射領域100rに相当する領域に凹凸6cを備えた感光性樹脂からなり、透過領域100tおよび薄膜トランジス30の形成領域などに対しては平坦化膜としての機能を果たしている。
本形態の液晶表示装置100は半透過反射型であり、複数の画素100aは各々、透過モードで画像を表示する透過領域100tと、反射モードで画像を表示する反射領域100rとを備えている。ここで、樹脂層6は、反射領域100rに相当する領域に凹凸6cを備えた感光性樹脂からなり、透過領域100tおよび薄膜トランジス30の形成領域などに対しては平坦化膜としての機能を果たしている。
樹脂層6の凹凸6cは、例えば、感光性樹脂をハーフ露光、現像した後、加熱する際、感光性樹脂を流動させることにより形成することができる。また、凹凸6cに対応するように露光、現像された感光性樹脂の上層側にさらに感光性樹脂層を塗布することによっても、凹凸6cを備えた樹脂層6を形成することができる。
樹脂層6の上層のうち、反射領域100rには、アルニウム、銀、あるいはそれらの合金などからなる光反射層11aが形成されており、その上層側に共通電極9a、電極間絶縁層8および画素電極7aが形成されている。ここで、光反射層11aには、樹脂層6の凹凸6cが反映されており、それにより、光散乱性が付与されている。
このように構成した液晶表示装置100において、バックライト装置(図示せず)から出射されたバックライト光は、透過領域100tを透過して対向基板20の側から透過表示光として出射される間に液晶層50によって光変調され、透過表示光として出射される。また、対向基板20の側から反射領域100rに入射した外光は、光反射層11aで反射して対向基板20の側から反射表示光として出射される間に液晶層50によって光変調される。従って、透過モードと反射モードとでは光が辿る経路の長さが相違する。
そこで、対向基板20の内面(液晶層50が位置する側の面)には、反射領域100rに相当する領域に、液晶高分子からなる液位相差層27が形成されており、配向膜26は、位相差層27の表面側に形成されている。このため、透過モードと反射モードとでは光が辿る経路の長さが相違している場合でも双方のリタデーション値を調整することができる。なお、位相差層27の遅相軸の方向を規定するにあたっては、図示を省略するが、位相差層27の下地として配向膜を形成し、この配向膜によって位相差層27の遅相軸方向を設定すればよい。
(光学特性の基本構成)
図4は、本発明を適用した液晶表示装置の反射領域における軸配置を示す説明図であり、図4(a)、(b)、(c)、(d)は、本発明を適用した液晶表示装置の軸配置を平面的に示す説明図、液晶表示装置の反射領域における位相板と液晶層の偏光変換作用をポアンカレ球により表示して示す説明図、そのS3軸からみた平面的な軸配置の説明図、および本発明を適用した液晶表示装置の反射領域における位相板と液晶層の偏光変換作用をポアンカレ球により表示して示す説明図である。
図4は、本発明を適用した液晶表示装置の反射領域における軸配置を示す説明図であり、図4(a)、(b)、(c)、(d)は、本発明を適用した液晶表示装置の軸配置を平面的に示す説明図、液晶表示装置の反射領域における位相板と液晶層の偏光変換作用をポアンカレ球により表示して示す説明図、そのS3軸からみた平面的な軸配置の説明図、および本発明を適用した液晶表示装置の反射領域における位相板と液晶層の偏光変換作用をポアンカレ球により表示して示す説明図である。
本形態の液晶表示装置100において、以下の説明では、配向膜16、26のいずれにも、データ線5aに対して15度の角度をなす方向にラビング処理した後、素子基板10と対向基板20とをシール材107により貼り合わせ、しかる後に、液晶層50を注入した例を示す。
本形態の液晶表示装置100の透過領域100tを法線方向から観察すると、図4(a)に示すように表わされ、第1の偏光板51の透過軸51aと第2の偏光板52の透過軸52aは互いに直交し、かつ、液晶層50の配向方向は、第1の偏光板51の透過軸51aに直交し、かつ、第2の偏光板52の透過軸52aに対して平行である。
また、反射領域100rを法線方向から観察すると、位相差層27が配置された構造になっている。ここで、画素電極7aのスリット状の開口部7bは、データ線5aに対して垂直な方向に延びているため、電界方向は、データ線5aに対して平行になる。このような軸配置において、方位角を反時計回りに定義すると、液晶層50の配向方向は、電界方向に対して角度γ=−75度をなしているので、しきい値電圧を低減することができる。また、後述する理由から、位相差層27の遅相軸方向27aは、第1の偏光板51の透過軸51aに対して22.5度あるいは67.5度をなし、第1の偏光板51の透過軸51aは、液晶層50の配向方向50aに対して90度をなす。
以下、位相差層27の遅相軸27aの方位角と、位相差層27および液晶層50のリタデーション値とについて説明する。
位相差層27の遅相軸27aの方位角を定めるための下式
β=α×2±45度
α:第1の偏光板51の透過軸51aと位相差層27の遅相軸27a間の角度
β:第1の偏光板51の透過軸51aと液晶層50の配向方向50aとの角度
と、位相差層27および液晶層50のリタデーション値は、図4(b)に示すポアンカレ球表示、および図4(c)に示す軸表示を用いて以下のように求められる。
β=α×2±45度
α:第1の偏光板51の透過軸51aと位相差層27の遅相軸27a間の角度
β:第1の偏光板51の透過軸51aと液晶層50の配向方向50aとの角度
と、位相差層27および液晶層50のリタデーション値は、図4(b)に示すポアンカレ球表示、および図4(c)に示す軸表示を用いて以下のように求められる。
図4(b)に示すポアンカレ球表示は、光学の分野では周知であるので、詳細な説明を省略するが、偏光状態を示すストークスパラメータ(S1、S2、S3)を3軸とする空間内で定義され、ポアンカレ球上の(S1、S2)平面との交線(赤道)は直線偏光に対応し、S3軸との交点(北極と南極)は円偏光に対応し、それ以外は楕円偏光に対応する。ここで、位相差層27や捩れのない液晶層50による偏光状態の変換は、ポアンカレ球上では(S1、S2)平面内に含まれポアンカレ球の中心を通過する線の回りの回転として表され、位相板のリタデーション値が1/2波長ならば1/2回転であり、1/4波長ならば1/4回転である。
従って、反射領域100rの液晶層50のリタデーション値を4分の1波長とし、位相差層27のリタデーション値を2分の1波長に設定すると、第1の偏光板51によって直線偏光になった入射光L1はポアンカレ球上の赤道に位置するが、位相差層27による方位角θfの回転軸を中心に1/2回転して赤道の別の一点L2に移動し、振動方向の異なる直線偏光に変換される。次いで、液晶層50による方位角角θLcの回転軸を中心に1/4回転して北極NPに移動し、円偏光に変換される。それ故、反射領域100aにおいては、電圧無印加時、入射光は円偏光またはこれに近い偏光状態になって光反射層11aに入射する。そして、光反射層11aで反射して再び、第1の偏光板51に入射する際には、それら振動方向が第1の偏光板51の透過軸51aに直交する直線偏光、すなわち、第1の偏光板51の吸収軸に対して平行な直線偏光になるため、無彩色の暗表示が得られることになる。なお、液晶層50のリタデーション値および位相差層27のリタデーション値は、可視光域のうち、人間の視感度が最高になる波長550nmの光を基準に設定される。
次に、位相差層27による方位角角θfの回転軸、および液晶層50による方位角角θLcの回転軸の関係を明らかにするために、図4(b)をS3軸方向から見た図4(c)を参照して説明する。
図4(c)には、入射した光が1/4回転した方向の延長線を一点鎖線で示してあり、この1/4回転方向の延長線は、その回転の中心を表す液晶層50の配向方向50a(方位角θLc)に直交する。また、1/2回転の中心を表す位相差層27の遅相軸27aの方向(方位角θf)は、S1軸と1/4回転方向の延長線の角度を2等分し、2等分された角度は、(θf−180)度であり、(θLc−180)度は、((θf−180)×2+90)度に等しいことから、次式
2θf=θLc+90度
が求められる。
2θf=θLc+90度
が求められる。
ここで、ポアンカレ球上での回転軸は、第1の偏光板51の透過軸51aと位相差層27の遅相軸27a間の角度αと、第1の偏光板51の透過軸51aと液晶層50の配向方向50aとの角度βに対応しており、回転軸の方位角2θf、θLcは、以下のとおり、
θf=2×α
θLc=2×β
である。従って、以下の式
β=α×2−45度
が求まる。
θf=2×α
θLc=2×β
である。従って、以下の式
β=α×2−45度
が求まる。
また、上記の例ではポアンカレ球上の北極NPに、各波長の入射光を集中させたが、ポアンカレ球の南極SPに、集中しても同様の効果が得られ、この場合のα、βの関係は、以下の式式
β=α×2+45度
で表される。
β=α×2+45度
で表される。
また、第1の偏光板51の透過軸51aと液晶層50の配向方向50aとの角度βが90度に設定されているので、
α=67.5度、あるいは22.5度
となる。また、各種評価結果から許容範囲を±10%を設定すると、位相差層27の遅相軸27aが第1の偏光板51の透過軸51aとなす角は、20度以上25度以下、または60度以上75度以下となる。
α=67.5度、あるいは22.5度
となる。また、各種評価結果から許容範囲を±10%を設定すると、位相差層27の遅相軸27aが第1の偏光板51の透過軸51aとなす角は、20度以上25度以下、または60度以上75度以下となる。
(液晶層50および位相差層27のリタデーション値の最適化)
図5は、本発明を適用した液晶表示装置100において、液晶層50のリタデーション値RLc(Δnd)を変化させた場合において、光の出射率(反射率)が1%未満という条件を満たす位相差層27のリタデーション値Rfの範囲をシミュレーションにより検討した結果を示すグラフである。
図5は、本発明を適用した液晶表示装置100において、液晶層50のリタデーション値RLc(Δnd)を変化させた場合において、光の出射率(反射率)が1%未満という条件を満たす位相差層27のリタデーション値Rfの範囲をシミュレーションにより検討した結果を示すグラフである。
液晶表示装置100において、波長550nmの光に対する反射領域100rの液晶層50のリタデーション値を4分の1波長とし、波長550nmの光に対する位相差層27のリタデーション値を2分の1波長に設定し、かつ、第1の偏光板51の透過軸51aと位相差層27の遅相軸27a間の角度α、および第1の偏光板51の透過軸51aと液晶層50の配向方向50aとの角度βを上記範囲に設定すると、反射領域100rにおいて、電圧無印加時、無彩色の暗表示が得られることになる。但し、反射領域における液晶層のリタデーション値を4分の1波長とすると、液晶層のΔnが約0.12の場合には、液晶層の厚さを1.1μm程度と極めて薄くせざるを得ず、その結果、量産が困難になる。
そこで、本形態では、波長550nmの光に対する液晶層50のリタデーション値RLc(Δnd)を変化させた場合において、光の出射率が1%未満という条件を満たす位相差層27のリタデーション値Rfの範囲をシミュレーションにより検討した。その結果、かかる条件を満たす位相差層27のリタデーション値Rfの範囲として、図5にマークPで示す範囲が得られた。なお、図5には、マークPで示す範囲における位相差層27のリタデーション値Rfと、液晶層50のリタデーション値RLcとの差をマークRで示し、マークPで示す範囲の線形一次近似式を直線f1Rで示してある。
図5に示すように、波長550nmの光に対する液晶層50のリタデーション値RLcが1/4波長(138nm)を超える場合でも、位相差層27のリタデーション値Rfが1/2波長(275nm)を超えれば、光の出射率が1%未満という条件を実現できるという結果を得た。
すなわち、図4(d)に示すポアンカレ球表示において、位相差層27のリタデーション値Rfが1/2波長を超えると、光の出射率が位相差層27による回転において、1/2回転にならずに赤道から外れた点に移動するが、液晶層50のリタデーション値RLcが1/4波長を超えているため、液晶層50による回転では、移動方向が概略反対方向になる。従って、位相差層27において生じた波長による回転角の違いが補償される。それ故、光は北極の近傍に集中してほぼ円偏光になるので、無彩色の暗表示が得られる。
かかる検討に結果に基づいて、本形態では、波長550nmの光に対する液晶層50のリタデーション値RLcが1/4波長(138nm)を超え、かつ、位相差層27のリタデーション値Rfが1/2波長(275nm)を超える範囲を設定する。
ここで、反射領域100rにおける液晶層50のリタデーション値RLc(nm)、位相差層27のリタデーション値Rf(nm)との間には、以下の近似式(図5の直線f1Rを参照)
Rf = 1.3148×RLc+91.985
が成立し、かつ、約15nmの幅を備えている。それ故、RLcおよびRfは、以下の関係
1.3148×RLc+91.985−15 ≦ Rf ≦ 1.3148×RLc+91.985+15
を満たすように設定する。
Rf = 1.3148×RLc+91.985
が成立し、かつ、約15nmの幅を備えている。それ故、RLcおよびRfは、以下の関係
1.3148×RLc+91.985−15 ≦ Rf ≦ 1.3148×RLc+91.985+15
を満たすように設定する。
このように本形態によれば、反射領域100rにおける液晶層50の厚さを拡大することができ、液晶層50の厚さを拡大することができれば、液晶表示装置100を効率よく量産することができる。
[その他の実施の形態]
上記実施の形態では、横電界を利用するタイプとしてFFS方式の液晶表示装置100に本発明を適用した例を説明したが、IPS方式の半透過反射型の液晶表示装置に本発明を適用してもよい。かかるIPS方式の液晶表示装置においては、共通の絶縁層の表面上には、薄膜トランジスタに接続された櫛歯状の画素電極と、複数の画素に跨って形成された櫛歯状の共通電極とが形成されている。
上記実施の形態では、横電界を利用するタイプとしてFFS方式の液晶表示装置100に本発明を適用した例を説明したが、IPS方式の半透過反射型の液晶表示装置に本発明を適用してもよい。かかるIPS方式の液晶表示装置においては、共通の絶縁層の表面上には、薄膜トランジスタに接続された櫛歯状の画素電極と、複数の画素に跨って形成された櫛歯状の共通電極とが形成されている。
また、上記実施の形態では、半導体膜としてポリシコン膜を用いた例であったが、アモルファスシリコン膜や単結晶シリコン層を用いた素子基板10に本発明を適用してもよい。また、画素スイッチング素子として薄膜ダイオード素子(非線形素子)を用いた液晶表示装置に本発明を適用してもよい。
[電子機器への搭載例]
次に、上述した実施形態に係る液晶表示装置100を適用した電子機器について説明する。図6(a)に、液晶表示装置100を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての液晶表示装置100と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。図6(b)に、液晶表示装置100を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、並びに表示ユニットとしての液晶表示装置100を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、液晶表示装置100に表示される画面がスクロールされる。図6(c)に、液晶表示装置100を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、並びに表示ユニットとしての液晶表示装置100を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が液晶表示装置100に表示される。
次に、上述した実施形態に係る液晶表示装置100を適用した電子機器について説明する。図6(a)に、液晶表示装置100を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての液晶表示装置100と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。図6(b)に、液晶表示装置100を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、並びに表示ユニットとしての液晶表示装置100を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、液晶表示装置100に表示される画面がスクロールされる。図6(c)に、液晶表示装置100を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、並びに表示ユニットとしての液晶表示装置100を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が液晶表示装置100に表示される。
なお、液晶表示装置100が適用される電子機器としては、図6に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した液晶表示装置100が適用可能である。
7a・・画素電極、9a・・共通電極、10・・素子基板、10a・・画像表示領域、11a・・光反射層、20・・対向基板、27・・位相差層、50・・液晶層、51・・第1の偏光板、52・・第2の偏光板、30・・薄膜トランジスタ(画素スイッチング素子)、100・・液晶表示装置、100a・・画素、100r・・反射領域、100t・・透過領域
Claims (4)
- 複数の画素の各々に形成された画素電極、および前記複数の画素に跨るように形成された共通電極を備えた素子基板と、該素子基板に対して対向配置された対向基板と、該対向基板と前記素子基板との間でホモジニアス配向された液晶層とを備えた液晶パネルを有し、当該液晶パネルに対して表示光の出射側および反対側に第1の偏光板および第2の偏光板が各々配置された液晶表示装置において、
前記複数の画素は、透過表示光を出射する透過領域、および反射表示光を出射する反射領域を備え、
当該反射領域には、前記液晶層と前記第1の偏光板との間に位相差層が形成され、
前記第1の偏光板と前記第2の偏光板は透過軸同士が直交し、かつ、前記液晶層における初期の配向方向が前記第1の偏光板の透過軸に平行または直交しており、
前記位相差層の遅相軸が前記第1の偏光板の透過軸となす角が20度以上25度以下、または60度以上75度以下であり、
前記反射領域における前記液晶層のリタデーション値は4分の1波長を超える値に設定され、前記位相差層のリタデーション値は2分の1波長を超える値に設定されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記液晶パネルは、前記素子基板および前記対向基板のうち、対向基板が表示光の出射側に配置され、
前記位相差層は、前記対向基板において前記液晶層側の面に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記反射領域における前記液晶層のリタデーション値をRLc(nm)とし、前記位相差層のリタデーション値をRf(nm)としたとき、RLcおよびRfは、以下の関係
1.3148×RLc+91.985−15 ≦ Rf ≦ 1.3148×RLc+91.985+15
を満たしていることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶表示装置。 - 請求項1乃至3の何れか一項に記載の液晶表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。
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