JP2008257205A - 液晶組成物、位相差板、液晶表示装置、及び位相差板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物、ポリマー及びチルト角制御剤を提供する。
【解決手段】少なくとも一種の液晶性化合物と、下記一般式（Ａ）で表される構成単位及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーの少なくとも一種とを含有する組成物である。一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマー主鎖の一部又は全部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。

【選択図】なし

Description

本発明は、光学異方性層の形成に有用な組成物、ポリマー及びチルト角制御剤、並びにそれを用いて作製された位相差板とその作製方法に関する。また、本発明は、該位相差板を有する液晶表示装置にも関する。

液晶表示装置は、通常、液晶セルを挟んで第１の偏光板と第２の偏光板とが設けられ、液晶セルは一対の基板間に棒状液晶性化合物を含有する液晶層を有する。棒状液晶性化合物を用いた液晶セル内で生じる位相差を、ディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物）（例えば、２，３，６，７，１０，１１−ヘキサ｛４−（４−アクリロイルオキシヘキシルオキシ）ベンゾイルオキシ｝トリフェニレン等）から形成される光学異方性層を有する光学補償シートによって相殺することはよく知られているが、この場合、棒状液晶性化合物とディスコティック液晶性化合物との波長分散性が異なるために全ての光の波長について同時に位相差を相殺できず、変色（黒の色味が出ない等）が生じる場合がある。

一方、上記の液晶性化合物としてヘテロ環基による３置換ベンゼン化合物も既に報告されている（非特許文献１）。しかしながら、この化合物の使用によって低い波長分散性を達成すること、すなわち波長分散を一定に近づけることは容易でなく、より波長分散性の小さい（Ｒｅ（短波長（例えば４５０ｎｍ））／Ｒｅ（長波長（例えば６５０ｎｍ））の値が小さい）化合物が望まれている。

上記では波長分散性の相違について主に述べてきたが、位相差板のレターデーションＲｅ（λ）の決定についても重要である。位相差板のレターデーションＲｅ（λ）は、補償しようとする液晶セルの光学的性質に応じて決定する必要がある。ここで、レターデーション（△ｎｄ）は、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）と光学異方性層の厚さ（ｄ）との積であり、光学異方性層の屈折率異方性（△ｎ）が大きければ、層の厚さ（ｄ）が薄くても液晶セルを補償でき、液晶を配向固定化して作製された位相差板においては、配向した液晶の配向角度（チルト角、平均チルト角）によってレターデーションＲｅが変化するため、その配向角度を制御する必要がある。

特許文献１には、液晶性分子の配向制御に有効な液晶配向促進剤として、所定の式で表される、環構造を含む化合物が提案されている。また、特許文献２には、空気界面近傍の配向欠陥のない光学異方体を製造することを目的として、フッ素基を有する側鎖と所定の式で表される、環構造を含む基を有する側鎖を有する（メタ）アクリル共重合体（Ｈ）を含有する重合性液晶組成物を使用することが提案されている。
特開２００２−１２９１６２号公報 特開２００６−１６５９９号公報 Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃｒｙｓｔａｌｓ ａｎｄ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ，２００１年，３７０巻，３９１頁

しかしながら、これら従来の配向制御剤は、全ての液晶性化合物に対して配向制御能を示すのではなく、例えば、上記した、ヘテロ環基の置換した３置換ベンゼン型のディスコティック液晶性化合物の配向制御剤としては不十分である。特に、前記ヘテロ環基の置換した３置換ベンゼン型のディスコティック液晶性化合物は、低平均チルト角（例えば、４０°以下）でハイブリッド配向させることが困難であり、かかる配向状態を可能とする配向制御剤が望まれている。
また、光学異方性膜等の製造安定性の観点からは、液晶性分子を重合等により硬化させて光学異方性膜等を形成する場合に、硬化時の温度が変動しても、チルト角は変動しないことが望まれている。しかし、従来の配向制御剤を利用すると、たとえ液晶性分子のチルト角を制御できたとしても、そのチルト角の温度依存性が大きく、製造安定性が悪く、その改善が望まれている。

本発明は、液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物、ポリマー及びチルト角制御剤を提供することを課題とする。特に、液晶性化合物のハイブリッド配向によって発現された光学異方性を示す光学異方性層を、光学特性値の配向不良等に起因する欠陥なく（又は欠陥を軽減して）、安定的に作製するのに有用な組成物、ポリマー及びチルト角制御剤を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶表示装置の光学補償に有用な位相差板、及びその作製方法を提供することを課題とする。
また本発明は、該位相差板を有し、良好な表示特性を示す液晶表示装置を提供することを課題とする。

上記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］ 液晶性化合物の少なくとも一種と、下記一般式（Ａ）で表される構成単位及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーの少なくとも一種とを含有する組成物：

一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマー主鎖の一部又は全部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。

［２］ 前記一般式（Ａ）中のＸが、炭素原子数５〜３０の無置換又は置換の芳香族縮合環官能基である、［１］の組成物。
［３］ 前記一般式（Ａ）中のＸが、炭素原子数１０〜２０の無置換もしくは置換のナフチル基である、［１］の組成物。
［４］ 前記一般式（Ａ）において、前記Ｍｐが下記Ｍｐ−１又はＭｐ−２を表し、前記Ｌが、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（Ｒ^a11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す［１］〜［３］のいずれかの組成物：

＊は、Ｌとの連結位置を示す。

［５］ 前記フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位が、下記一般式（Ｂ）で表される構成単位である［１］〜［４］のいずれかの組成物：

一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'はポリマー主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌ'は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。

［６］ 前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である［１］〜［５］のいずれかの組成物。
［７］ 前記液晶性化合物の少なくとも１種が、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物である［１］〜［６］のいずれかの組成物：

一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表し；Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表し；Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表し；

一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹及びＹＡ²はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、又はイミノを表し；＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表し；

一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹及びＹＢ²はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、又はイミノを表し；＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表し；
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²又はＨ³に結合する位置を表し；Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表し；Ｌ²¹は単結合又は２価の連結基を表し；ｎ１は０〜４の整数を表し；Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ¹は重合性基又は水素原子を表す。

［８］ 前記液晶性化合物の少なくとも１種が、下記一般式（ＤＩＩ）で表される化合物又は下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物である［１］〜［７］のいずれかの組成物。

一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²及びＹ³³はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される基であり；

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹及びＡ³²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｆ²は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表し；ｎ３は１〜３整数を表し；Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ³は重合性基又は水素原子を表し；

一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ⁴³はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表し；

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵及びＡ⁴⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｌ⁴¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ⁴²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ⁴は、重合性基又は水素原子を表し；

一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵及びＡ⁵⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｌ⁵¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ⁵²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ⁵は重合性基又は水素原子を表し；

一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵及びＡ⁶⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチン又はイミノを表し；Ｌ⁶¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ⁶²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ⁶は重合性基又は水素原子を表す。

［９］ 前記液晶化合物が、前記一般式（ＤＩ）、（ＤＩＩ）又は（ＤＩＩＩ）で表される化合物であり、前記一般式（ＤＩ）、（ＤＩＩ）又は（ＤＩＩＩ）で表される化合物以外の第２の液晶性化合物をさらに含む［７］又は［８］の組成物。
［１０］ 前記第２の液晶性化合物が、下記一般式（Ｔ）で表される化合物である［９］の組成物：

一般式（Ｔ）中、Ｍは二価の連結基であり、それぞれ、同一であっても異なっていてもよく；Ｑ⁷は重合性基又は水素原子を表し、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。

［１１］ ［１］〜［１０］のいずれかの組成物から形成された光学異方性層を有する位相差板。
［１２］ ［１１］の位相差板を有する液晶表示装置。
［１３］ ［１］〜［１０］のいずれかの組成物を用いて光学異方性層を形成することを含む位相差板の製造方法。
［１４］ 下記一般式（Ａ）で表される基と、下記一般式（Ｂ）で表される基とを構成単位として含むポリマー：

一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表し；

一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'はポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌ'は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。

［１５］ 下記一般式（Ａ）で表される構成単位、及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーからなるチルト角制御剤：

一般式（Ａ）中、Ｍｐは主鎖の一部又は全部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。

本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に寄与する光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物、ポリマー及びチルト角制御剤を提供することができる。また、本発明によれば、特に、ハイブリッド配向したディスコティック液晶性化合物の平均チルト角度を１０〜４０°の範囲、更には、１０〜３０°の範囲に精密に制御することができる。
また、本発明によれば、液晶表示装置の光学補償に有用な位相差板及びその作製方法を提供することができる。

以下、本発明について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
まず、本明細書における、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）、チルト角及び平均チルト角の詳細について以下に記す。
本明細書において、「炭素原子数Ａ〜Ｂの」なる表現における、Ａ及びＢは、特に述べない限り、置換基の炭素原子の数を含めた数値を示している。また、本明細書における各種「基」は、特に述べない限り、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、置換基を有していてもよい。

（Ｒｅ、Ｒｔｈの測定）
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、又は測定値をプログラム等で変換して測定するができる。
測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。

注記：
上記式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。

（チルト角の測定）
ディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物を配向させた光学異方性層において、光学異方性層の一方の面におけるチルト角（ディスコティック液晶性化合物又は棒状液晶性化合物における物理的な対称軸が光学異方性層の界面となす角度をチルト角とする）θ１及び他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１及びθ２は、以下の手法で算出する。本手法は本発明の実際の配向状態を正確に表現していないが、光学フィルムのもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層はディスコティック液晶性化合物や棒状液晶性化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（ディスコティック液晶性化合物又は棒状液晶性化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定及び計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ及びＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメーターＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０及びＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、及び多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出する。
ここで、ｎｏ及びｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定することができる。

以下、本発明の組成物、及び、位相差板について順次説明する。
［組成物］
本発明の組成物は、少なくとも一種の液晶性化合物と、下記一般式（Ａ）で表される構成単位及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマー（以下、「本発明で用いるポリマー」ということがある）の少なくとも一種とを含有することを特徴とする。
以下に、本発明で用いるポリマー、及び、好適に用いられる液晶性化合物について順次説明する。

一般式（Ａ）で表される構成単位及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマー。該ポリマーは、液晶性分子、特に、円盤状液晶性分子、を低チルト角でハイブリッド配向状態にするのに寄与する。さらに、そのチルト角は、温度の変動によって変化し難く、従って、該ポリマーを用いることで、所望の光学特性を示す光学異方性膜等を安定的に作製することができる。
（１）一般式（Ａ）で表される構成単位

一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマー主鎖の一部又は全部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。

一般式（Ａ）中、Ｍｐは、３価の基であり、ポリマーの主鎖の一部又は全部を構成する。Ｍｐは、好ましくは、炭素原子数２〜２０（置換基の炭素原子数は含まない、以下、Ｍｐ中のものについて同じ）の置換もしくは無置換の長鎖又は分岐のアルキレン基（例えば、エチレン基、プロピレン基、メチルエチレン基、ブチレン基、ヘキシレン基等）、炭素原子数３〜１０の置換もしくは無置換の環状アルキレン基（例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロヘキシレン基等）、置換もしくは無置換のビニレン基、置換もしくは無置換の環状ビニレン基、置換もしくは無置換のフェニレン基、酸素原子を含む基（例えば、エーテル基、アセタール基、エステル基、カルボネート基等を含む基）、窒素原子を含む基（例えば、アミノ基、イミノ基、アミド基、ウレタン基、ウレイド基、イミド基、イミダゾール基、オキサゾール基、ピロール基、アニリド基、マレインイミド基等を含む基）、硫黄原子を含む基（例えば、スルフィド基、スルホン基、チオフェン基等を含む基）、リン原子を含む基（例えば、ホスフィン基、リン酸エステル基等を含む基）、珪素原子を含む基（例えば、シロキサン基等を含む基）の基、及びこれらの基を二つ以上連結して形成される基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基が好ましく、より好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基、置換もしくは無置換のシクロヘキシレン基、置換もしくは無置換のビニレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、さらに好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基、置換もしくは無置換のビニレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、特に好ましくは、置換もしくは無置換のエチレン基、置換もしくは無置換のメチルエチレン基であって、該基に含まれる水素原子の１つが−Ｌ−Ｘ基によって置換されている基であり、具体的には、後述する、Ｍｐ−１及びＭｐ−２が好ましい。

以下に、Ｍｐの好ましい具体例を示すが、Ｍｐはこれに限定されるものではない。また、Ｍｐ中の＊で表される部位はＬと連結する部位を表す。

一般式（Ａ）中のＬで表される２価の連結基としては、好ましくは、置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、イソプロピレン基など）、炭素原子数２〜２０のアルケニレン基（例えば、ビニレン基、ブテン基等）、−Ｏ−、−ＮＲ^a1−、−Ｓ−、−ＰＲ^a2−、−Ｓｉ（Ｒ^a3）（Ｒ^a4）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^a5−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ^a6−、−ＮＲ^a7Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ^a8−、−（−Ｏ）₂ＣＨ−ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基である。
ここで、上記Ｒ^a1〜Ｒ^a8は置換可能な置換基を表し、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基（１以上の環構造を含むモノシクロアルキル基、ビシクロアルキル基等のシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を除く）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられ、水素原子及びアルキル基が好ましい。

一般式（Ａ）中のＬとしてより好ましくは、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（但し、Ｒ^a11は水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基を表す）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基であり、特に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_mＯ−、−（ＣＨ₂）ｍ−、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基が好ましい。
ここで、ｍは１〜２０の整数を表す。ｍは、Ｘの自由度を適切に調整するために、好ましくは１〜１６、より好ましくは２〜１２、さらに好ましくは２〜６である。Ｘの自由度を適切に調整することにより、配向させる液晶との相互作用が増し、かつ、Ｘの方位をより制御でき、より効果的に平均チルト角度を制御できる。
また、上記連結基を２つ以上連結させて形成される、以下に示すような連結基も好ましい。また、Ｌ中の＊で表される部位はＭｐと連結する部位を表す。下記式中、ｍは１〜２０の整数を表し、上記「ｍ」と同義であり、好ましい範囲も同義である。

さらに、一般式（Ａ）中のＭｐが前記Ｍｐ−１又はＭｐ−２を表す場合には、Ｌは、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（Ｒ^a11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、ならびに、これらの１以上とアルキレン基との組み合わせからなる２価の連結基から選択される基がより好ましい。例えば、前記Ｌ−１、Ｌ−２、及び、Ｌ−３、Ｌ−６等である。

一般式（Ａ）中のＸで表される置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基の環数については特に制限はないが、２〜５個の環が縮合した基であるのが好ましい。環を構成している原子が炭素原子のみである炭化水素系の芳香族縮合環のみならず、ヘテロ原子を環構成原子とするヘテロ環が縮合した芳香族縮合環であってもよい。Ｘは、炭素原子数５〜３０の置換もしくは無置換のインデニル基（メチルインデニル基、メドキシインデニル基、或いはヘテロ原子で置換されたインインデニル基、例え、ベンゾフラニル基、チオナフテニル基、インドールニル基、インダゾールニル基、ベンズイミダゾールニル基、ベンゾトリアゾールニル基、１−ピラゾールピラジニル基等）、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のナフチル基（メチルナフチル基、シアノナフチル基、フルオロナフチル基、ブロモナフチル基、或いはヘテロ原子で置換されたナフチル基、例え、キノリル基、イソキノリル基、キナゾリル基、キノキサリル基、６，７−ピリドピリダジニル基、ベンゾテトラジニル基、プテリル基等）、炭素原子数１２〜３０の置換もしくは無置換のフルオレニル基（２，７−ジメチルフルオレニル基、或いはヘテロ原子で置換されたフルオレニル基、例え、カルバゾリル基、ジベンゾフラリル基、ジベンゾチオフェニル基等）、アントリル基（５−メチルアントリル基、或いはヘテロ原子で置換されたアントリル基、例え、キサンテニル基、アクリジニル基、フェナジニル基等）、ピレニル基、ペリレニル基、フェナントレニル基などであるのが好ましい。

一般式（Ａ）中、Ｘとしてより好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換もしくは無置換のインデニル基、又は、炭素原子数６〜３０の置換もしくは無置換のナフチル基であり、さらに好ましくは、炭素原子数１０〜３０の置換もしくは無置換のナフチル基であり、特に好ましくは炭素原子数１０〜２０置換もしくは無置換のナフチル基である。

特に、Ｌが単結合又は、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（但し、Ｒ^a11は水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、及び、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基の場合には、Ｘが置換もしくは無置換のナフチル基を表すことが好ましい。

以下に、一般式（Ａ）として好ましい構成単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

（２） フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位
本発明に用いるポリマーは、前記一般式（Ａ）で表される構成単位とともに、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を有する。該構成単位は、下記一般式（Ｂ）で表される構成単位であるのが好ましい。以下に一般式（Ｂ）で表される基についての詳細を記す。

一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'はポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌ'は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。

Ｍｐ'は、一般式（Ａ）中のＭｐと同義であり、好ましい範囲も同義である。
Ｌ'は、好ましくは、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（但し、Ｒ^a11は水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらを２個以上連結して形成される基から選択される２価の連結基である。
２個以上連結して形成される２価の連結基としては、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_maＯ−（但し、ｍａは１〜２０の整数を表す）等が挙げられる。

さらに、一般式（Ｂ）中のＭｐ'が前記Ｍｐ−１又はＭｐ−２を表す場合には、Ｌ'は、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（Ｒ^a11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、及び、炭素原子数１〜２０の置換
もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましく、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、及び、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−、ならびに、これらの１以上とアルキレン基との組み合わせからなる基から選択される２価の連結基（例えば、前記Ｌ−１、Ｌ−２、及び、Ｌ−３等）がより好ましい。

Ｒｆは、少なくとも一つのフッ素原子が置換した炭素原子数１〜３０の脂肪族炭化水素基（例えば、トリフルオロエチル基、パーフルオロヘキシルエチル基、パーフルオロヘキシルプロピル基、パーフルオロブチルエチル基、パーフルオロオクチルエチル基等）等が好ましい例として挙げられる。また、Ｒｆは、末端に、ＣＦ₃基又はＣＦ₂Ｈ基を有することが好ましく、ＣＦ₃基を有することがより好ましい。

Ｒｆとしてより好ましくは、末端にＣＦ₃基を有するアルキル基又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基である。末端にＣＦ₃基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。末端にＣＦ₃基を有するアルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているアルキル基が好ましく、６０％以上が置換されているアルキル基がより好ましく、７０％以上が置換されているアルキル基が特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。
末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上が置換されているのが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された置換基によって置換されていてもよい。

置換基群Ｄ
アルキル基（好ましくは炭素原子数（該置換基が有する炭素原子数をいう、以下、置換基群Ｄについて同じ）１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１２、特に好ましくは炭素原子数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１２、特に好ましくは炭素原子数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１２、特に好ましくは炭素原子数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは炭素原子数０〜１０、特に好ましくは炭素原子数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などが挙げられる）、

アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１２、特に好ましくは炭素原子数１〜８のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２アシル基であり、例えば、アセチル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基などが挙げられる）

アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは炭素原子数２〜１６、特に好ましくは炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、エタンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは炭素原子数０〜１６、特に好ましくは炭素原子数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基などが挙げられる）。

アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、エタンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは炭素原子数１〜１６、特に好ましくは炭素原子数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは炭素原子数３〜３０、特に好ましくは、炭素原子数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。

末端にＣＦ₃基を有するアルキル基又は末端にＣＦ₂Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
Ｒ１：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−
Ｒ２：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−
Ｒ３：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−
Ｒ４：ｎ−Ｃ₈Ｆ₁₇−（ＣＨ₂）₂−
Ｒ５：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−（ＣＨ₂）₃−
Ｒ６：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₂−
Ｒ７：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−
Ｒ８：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−
Ｒ９：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ₂）₈−（ＣＨ₂）₂−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ₂）₆−（ＣＨ₂）₃−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ₂）₄−（ＣＨ₂）₂−
Ｒ１３：ｎ−Ｃ₇Ｆ₁₅−（ＣＨ₂）₂−
Ｒ１４：ｎ−Ｃ₆Ｆ₁₃−（ＣＨ₂）₃−
Ｒ１５：ｎ−Ｃ₄Ｆ₉−（ＣＨ₂）₂−

以下に、本発明で用いられる、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

また、本発明で用いるポリマーには、一般式（Ａ）で表される構造を含有する構成単位、及び、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位の他、これらの構成単位を形成するモノマーと共重合可能なモノマーより誘導される構成単位を含有してもよい。
共重合可能なモノマーとしては、本発明の趣旨を逸脱しない限り、特に制限はない。好ましいモノマーとしては、例えば、炭化水素系ポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリマレインイミド、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリアクリルアニリド等）、ポリエーテル、ポリエステル、ポリカルボナート、ポリアミド、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリウレタン及びポリウレイドを構成するモノマーでなどが、溶媒への溶解度を向上させたり、ポリマーの凝集を防止する観点で好ましく用いることができる。
さらに、主鎖構造が、一般式（Ａ）で表される基が構成するものと、同一となる構成単位が好ましい。

以下に共重合可能な構成単位の具体例を示すが、本発明は以下の具体例によってなんら制限されるものではない。特に、Ｃ−２、Ｃ−３、Ｃ−１０、Ｃ−１１、Ｃ−１２、Ｃ−１９が好ましく、Ｃ−１１、Ｃ−１９がさらに好ましい。

本発明で用いるポリマーにおける、一般式（Ａ）で表される基の含有率としては、１〜９０質量％が好ましく、３〜８０質量％がより好ましい。
本発明で用いるポリマーにおけるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される繰り返し単位（好ましくは、一般式（Ｂ）で表される基）の含有率としては、５〜９０質量％が好ましく、１０〜８０％がより好ましい。
上記２種以外の構成単位の含有率としては、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。

また、これらの共重合体は、各構成単位が不規則的に導入されたランダム共重合体であっても、規則的に導入されたブロック共重合体であってもよく、ブロック共重合体である場合の各構成単位は、如何なる導入順序で合成されたものであってもよく、同一の構成成分を２度以上用いてもよい。
また、一般式（Ａ）で表される基、一般式（Ｂ）で表される基等は、１種類のみであってもよいし、２種類以上であってもよい。一般式(Ａ)の構成単位を２種以上含む場合には、Ｘが同一縮合環骨格(置換と無置換の組み合わせ)であるのが好ましい。２種類以上の場合、上記含有率は、合計含有率である。

さらに、本発明で用いるポリマーの分子量範囲は、数平均分子量（Ｍｎ）で、好ましくは１０００〜１００万であり、より好ましくは３０００〜２０万であり、さらに好ましくは５０００〜１０万である。また、本発明で用いるポリマーの分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ、Ｍｗは重量平均分子量）は、１〜４であることが好ましく、１．５〜４であることがより好ましい。

本発明で用いるポリマーの添加量範囲は、液晶性化合物に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは、０．１〜５．０質量％であり、さらに好ましくは、０．５〜２．５質量％である。
また、必要に応じて、本発明で用いるポリマーを２種類以上添加した場合には、上記添加量は、合計添加量である。

本発明のポリマーとして好ましい具体例を以下の表１に示す。

本発明で用いるポリマーの合成は、既知の方法を適用して行うことができる。本発明で用いるポリマーは、付加、縮合及び置換反応などのいずれか又はこれを組み合わせて合成することができる。特に制限はないが、本発明で用いるポリマーがエチレン性の繰り返し単位を含有する場合は、該繰り返し単位に相当するエチレン性不飽和化合物のラジカル重合反応を利用して合成するのが簡便で好ましい。

・液晶性化合物
本発明に用いられる液晶性化合物は特に制限されるものではないが、ディスコティック液晶性を示す化合物（ディスコティック液晶性化合物）であることが好ましく、ディスコティックネマチック相を示す化合物であることがより好ましい。本発明に用いられる液晶性化合物としては、一般式（ＤＩ）で表されるものが例示される。

［一般式（ＤＩ）で表される化合物］
本発明に用いられる一般式（ＤＩ）表される化合物は、ディスコティック液晶性を示すことが好ましく、特に、ディスコティックネマチック相を示すことが好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³は、それぞれ独立に単結合又は２価の連結基を表す。Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。

一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を挙げることができる。これらの中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がより好ましく、炭素原子数（置換基が有する炭素原子数をいう、以下、ディスコティック液晶性化合物が有していてもよい置換基について同じ）１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましい。

Ｙ¹¹、Ｙ¹²、Ｙ¹³は、すべてメチンであることが好ましく、またメチンは無置換であることが好ましい。

一般式（ＤＩ）中、Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基である。前記２価の連結基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、２価の環状基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³で表される２価の環状基は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環及びナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。環状基は、芳香族環及び複素環を含んでいるのが好ましい。

前記２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基及びナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²又はＬ³で表される前記２価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数が１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１６のアシル基、炭素原子数が１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数が２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。

Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−２価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−２価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−２価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−、＊−２価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−２価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−２価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−２価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−２価の環状基−又は＊−Ｃ≡Ｃ−２価の環状基−がより好ましく、単結合がさらに好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³を含む６員環に結合する位置を表す。

一般式（ＤＩ）中、Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）もしくは下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表す。

一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹及びＹＡ²はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。ＹＡ¹及びＹＡ²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表す。ＸＡは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。

一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹及びＹＢ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。ＹＢ¹及びＹＢ²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表す。ＸＢは、酸素原子であることが好ましい。＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表す。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表す。
一般式（ＤＩ−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹

一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²又はＨ³に結合する位置を表す。Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表す。Ｌ²¹は単結合又は２価の連結基を表す。Ｌ²¹が２価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基又は水素原子であることがより好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが特に好ましい。

Ｌ²¹は単結合、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²¹の左側を表す）が好ましい。特に、単結合が好ましい。

一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＦ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の環状連結基を表す。環状構造は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状構造は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。

Ｆ¹のうち、ベンゼン環を有するものとしては、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有するものとしては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有するものとしては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有するものとしてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有するものとしては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。Ｆ¹は、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレンナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。

Ｆ¹は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。該置換基は、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基が好ましい。

ｎ１は０〜４整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１又は２が好ましい。なお、ｎ１が０の場合は、式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²が直接、前記一般式（Ｄ１）中のＨ¹〜Ｈ³と結合する。ｎ１が２以上の場合、それぞれの−Ｌ²¹−Ｆ¹は同一でも異なっていてもよい。

Ｌ²²は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ₂−である。
ここで、上記のうち水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基である。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、他の置換基に置き換えられていてもよい。他の置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が含まれる。特に、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基が好ましい。これらの置換基に置き換えられることにより、前記一般式（ＤＩ）で表される化合物の溶媒に対する溶解性を向上させることができ、容易に、塗布液として本発明の組成物を調製することができる。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群から選ばれる連結基であることが好ましい。Ｌ²³は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらに、Ｌ²³は−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがより好ましい。

Ｑ¹は重合性基又は水素原子である。一般式（ＤＩ）で表される化合物を、光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないことを必要とする光学フィルム等の作製に用いる場合には、Ｑ¹は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基又は開環重合性基が好ましい。

重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。

式（Ｍ−３）、式（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子又はアルキル基を表す。Ｒとしては、水素原子又はメチル基が好ましい。上記（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中でも、（Ｍ−１）又は（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。

開環重合性基として好ましいのは、環状エーテル基であり、中でもエポキシ基又はオキセタニル基がより好ましく、エポキシ基が最も好ましい。

また、本発明では、ディスコティック液晶性化合物として下記一般式（ＤＩＩ）で表される化合物又は下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を用いることも好ましい。

（一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。）

一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³はそれぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ｙ³¹、Ｙ³²及びＹ³³は各々、一般式（ＤＩ）中のＹ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³の定義とそれぞれ同一であり、好ましい範囲も同義である。

Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³はそれぞれ独立に一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹、Ａ³²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ａ³¹及びＡ³²としては、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。
Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン、又はイミノを表す。Ｘ³としては、酸素原子であることが好ましい。

一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ｆ²は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表す。Ｆ²に含まれる６員環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。Ｆ²に含まれる６員環は、芳香族環、脂肪族環及び複素環のいずれでもよい。
芳香族環の例には、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフェナントレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。

２価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基及び１，３−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基及びナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。２価の環状基としては、特に、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基及び１，４−シクロへキシレン基が好ましい。

Ｆ²は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。２価の環状基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、さらに、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がより好ましい。

ｎ３は、１〜３整数を表す。ｎ３としては、１又は２が好ましい。ｎ３が２以上の場合、それぞれのＦ²は同一でも異なっていてもよい。

Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ³¹の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²²と同一である。

Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。Ｌ³²の好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＬ²³と同一である。

Ｑ³は重合性基又は水素原子を表し、好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同一である。

次に、一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の詳細を記す。

一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ⁴³は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ⁴³がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は、置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子及びシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基がさらに好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜１２のアシルオキシ基、ハロゲン原子及びシアノ基が特に好ましい。
Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ⁴³は、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがより好ましい。

Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³は、それぞれ独立に下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表す。
波長分散性の小さい位相差板等を作製する場合は、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³は、それぞれ、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）又は一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）で表されるものが好ましく、一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）で表されるものがより好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵、Ａ⁴⁶は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表す。Ａ⁴¹及びＡ⁴²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵及びＡ⁴⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵及びＡ⁴⁶がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有する置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵及びＡ⁵⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ａ⁵¹及びＡ⁵²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵及びＡ⁵⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵及びＡ⁵⁶がそれぞれメチンの場合、メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲン原子で置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵及びＡ⁶⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表す。Ａ⁶¹及びＡ⁶²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、双方が窒素原子であることがより好ましい。Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵及びＡ⁶⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、全てメチンであることがより好ましい。Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵及びＡ³⁶がそれぞれメチンの場合、該メチンが有する水素原子は置換基によって置換されていてもよい。メチンが有していてもよい置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ⁴¹、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ⁵¹、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ⁶¹はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−ＣＨ₂−である。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。
このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＬ⁴²、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＬ⁵²、一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＬ⁶²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲン原子で置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基及び炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

Ｌ⁴²、Ｌ⁵²及びＬ⁶²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−Ｃ
Ｈ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基であることが好ましい。Ｌ⁴²、Ｌ⁵²、Ｌ⁶²はそれぞれ独立して、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個含有することがより好ましい。さらに、Ｌ⁴²、Ｌ⁵²、Ｌ⁶²はそれぞれ独立して、−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。

一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中のＱ⁴、一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中のＱ⁵及び一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中のＱ⁶は、それぞれ独立して、重合性基又は水素原子を表す。これらの好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同一である。

以下に、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

以下一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物を示す。

本発明に用いられる上記一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の合成は、既知の方法を適用して合成することができる。

本発明では、液晶性化合物として、上記一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物の１種のみを使用してよいし、２種以上を使用してもよい。前記一般式（ＤＩ）〜（ＤＩＩＩ）で表される化合物は、その配向により複屈折性を発現した際に、複屈折性の波長分散性が低いという特徴がある。従って、例えば、該化合物を用いて光学異方性膜等を製造する場合に、可視光域の中間波長であるＧ光について、その光学特性を最適化すれば、Ｒ光及びＢ光についても、ほぼ同様に最適化された光学特性となるので、かかる液晶化合物を用いることで、可視光全域にわたって所望の光学特性を示す光学異方性膜等を容易に製造できる。また、前記一般式（ＤＩ）〜（ＤＩＩＩ）で表される化合物は、低平均チルト角（例えば平均チルト角４０°以下）でハイブリッド配向させるのが困難な化合物であるが、前記ポリマーの存在下で配向させることにより、低平均チルト角で、しかも配向欠陥のない（もしくは軽減された）ハイブリッド配向状態になる。

さらに、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物と異なる構造を有する棒状液晶性化合物又はディスコティック液晶性化合物を少なくとも一種以上と併用してもよい。前記一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）に属さないディスコティック液晶性化合物との併用が特に好ましく、さらに下記一般式（Ｔ）で表される液晶性化合物との併用がより好ましい。２種類以上のディスコティック液晶性化合物を併用することにより、空気界面のチルト角度をより低減させることができ、また平均チルト角度の温度依存性が緩和しやすいという効果が得られる。

一般式（Ｔ）中、Ｍは二価の連結基であり、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。Ｑ⁷は重合性基又は水素原子を表し、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。

前記式において、二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｍ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、６〜１０であることがさらに好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例えば、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）を有していてもよい。二価の連結基（Ｍ）の例を以下に示す。左側がトリフェニレン円盤状コア（ＴＤ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基を意味し、ＡＲはアリーレン基を意味する。

Ｍ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｍ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｍ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｍ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｍ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−Ｃ
Ｍ２０：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２１：−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｍ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｍ２４：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｍ２５：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−

Ｑ⁷は重合性基又は水素原子を表し、好ましい範囲は、一般式（ＤＩ−Ｒ）中のＱ¹と同義であり、好ましい範囲も同義である。

以下に、一般式（Ｔ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明に用いられる一般式（Ｔ）で表される化合物の合成は、既知の方法を利用して合成することができる。

本発明に用いる液晶性化合物は、上記一般式（Ｔ）で表される化合物の添加範囲は、一般式（ＤＩ）、一般式（ＤＩＩ）及び一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物に対して、好ましくは１〜２０質量％であり、より好ましくは、３〜２０質量％であり、さらに好ましくは、５〜１５質量％である。

前記液晶性化合物が発現する液晶相としては、カラムナー相及びディスコティックネマチック相（ＮＤ相）を挙げることができる。これらの液晶相の中では、良好なモノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（ＮＤ相）が好ましい。

前記液晶性化合物は、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現することが好ましく、４０℃〜２８０℃の範囲で発現することがより好ましく、６０℃〜２５０℃の範囲で発現することがさらに好ましい。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（具体的に例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（具体的に例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。

本発明の組成物は、光学異方性膜の形成に有用である。光学異方性膜を作製する場合は、本発明の組成物を硬化性組成物として調製するのが好ましい。硬化性組成物として調製する際の添加剤、及び硬化方法等について、位相差板の作製方法を一例として説明する。

［位相差板］
本発明の位相差板は、本発明の組成物からなる光学異方性層を有することを特徴とする。本発明の位相差板の一態様は、支持体と、該支持体上に形成された配向膜と、該配向膜によって配向制御され、且つその配向状態に固定された本発明の組成物からなる光学異方性層とを有する態様である。
以下に、光学異方性層(以下、「第1の光学異方性層」とも呼ぶ)、配向膜及び支持体(以下、「第２の光学異方性層」とも呼ぶ)について順次詳細に説明する。

（１）光学異方性層(第1の光学異方性層)
前記光学異方性層は、液晶性化合物、及び一般式（Ａ）で表される構造単位及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーを含有する組成物からなる。前記組成物は、硬化性組成物であるのが好ましく、例えば、重合開始剤を含有しているのが好ましい。その他、所望により種々の添加剤を含有していてもよい。前記組成物は、塗布液として調製するのが好ましく、該塗布液を、例えば、支持体上に形成された配向膜の表面に塗布し、液晶性化合物を配向、固定化することで形成することができる。液晶性化合物を配向及び固定化した後は、支持体を剥離してもよい。

（１）−ａ 形成方法
前記光学異方性層は、液晶性化合物や一般式（Ａ）で表される構成単位及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーを可溶化する溶媒に溶解して調製した塗布液を、支持体上に形成され、且つ、配向性が付与された配向膜の表面に塗布することによって作製することができる。また、可能であれば蒸着によって形成してもよいが、塗布による形成が好ましい。塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。次いで、２５℃〜１３０℃において用いた溶媒を乾燥すると同時に、前記液晶性化合物の分子を配向させ、さらに、紫外線照射等によって固定化することによって、光学異方性層が形成される。重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²〜５０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ²〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学異方性層の厚さについては特に制限はなく、位相差板の用途に応じて、最適なレターデーション値が決定され、それに応じて、好ましい範囲が変動する。一般的には、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。

前記液晶性化合物の分子は、光学異方性層中では、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性化合物の分子が固定されていることがよりさらに好ましい。

前記光学異方性層を占める、一般式（ＤＩ）で表される化合物又は一般式（ＤＩ）で表される化合物から得られる重合物の割合は、１０〜１００質量％であることが好ましく、３０〜９９質量％であることがさらに好ましく、５０〜９９質量％であることがよりさらに好ましい。

（１）−ｂ 光学異方性層の形成に用いられるその他の材料
液晶性化合物は、配向状態を維持して固定することが好ましく、固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応によることが好ましい。そのためには、前記塗布液中には、重合開始剤を含有させるのが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応、及び電子線を用いるＥＢ硬化が含まれる。このうち、光重合反応（光硬化）及びＥＢ硬化が好ましい。光の作用によりラジカルを発生させる重合開始剤の例としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）、アセトフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等が好ましい。アセトフェノン系化合物としては、例えば、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシメチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４'−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン等が挙げられる。ベンジル系化合物としては、例えば、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が挙げられる。ベンゾインエーテル系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーズケトン、４，４'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４'−ジクロロベンゾフェノン等が挙げられる。チオキサントン系化合物としては、例えば、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。このような芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤の中でも、アセトフェノン系化合物及びベンジル系化合物が、硬化特性、保存安定性、臭気等の面で特に好ましい。これらの芳香族ケトン類からなる感光性ラジカル重合開始剤は、１種又は２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。
また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。

光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。

光学異方性層形成用の塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒の例には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、トルエン、ヘキサン）アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）などが含まれる。この中でアルキルハライド、ケトンが好ましい。特に、ケトンが好ましい。２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。

本発明の組成物中の液晶性化合物、一般式（Ａ）で表される構成単位及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマー、ならびに所望により添加されるその他の添加剤の固形分濃度としては、０．１質量％〜６０質量％が好ましく、０．５質量％〜５０質量％がより好ましく、２質量％〜４０質量％がさらに好ましい。

（１）−ｃ 配向状態
本発明の組成物により形成されてなる光学異方性層は、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）のような液晶表示モードの位相差板として使用する場合においては、ディスコティックネマチック相がハイブリッド配向した状態を固定化することが好ましい。ここで、ハイブリッド配向とは、膜厚方向で液晶性化合物のチルト角（円盤状液晶性化合物の場合は、層面に対する分子の円盤面の傾斜角）が連続的に変化している状態を表す。

本発明の組成物は、支持体上（さらに好ましくは配向膜上）に塗布された後、例えば、加熱することで液晶相を発現するため、液晶性化合物は支持体側の界面では支持体面又は塗布膜界面（配向膜を設けた場合には配向膜界面）のチルト角（例えば、ディスコティック液晶性化合物を用いる場合、支持体面の方向と液晶性化合物の円盤面方向のなす角）で配向し、空気との界面では空気界面のチルト角で配向することとなる。
本発明において、光学異方性層の平均チルト角（例えば、支持体面の方向とディスコティック液晶性化合物の円盤面方向のなす角）は、１０〜４０°が好ましく、１５〜３５°がより好ましい。

（２）配向膜
本発明の位相差板の作製には配向膜を用いてもよい。配向膜は、化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。

配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性化合物を配向させる機能のある分子構造を有する。本発明では、液晶性化合物を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例えば、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、又は、液晶性化合物を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマー又は架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。

ポリマーの例には、例えば、特開平８−３３８９１３号公報の段落番号［００２２］に記載のメタクリレート系重合体、スチレン系重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。

ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。

液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性化合物の種類及び必要とする配向状態に応じて決定する。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素原子数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ基、ジアルコキシ基、モノアルコキシ基）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば、特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００２２］〜［０１４５］、特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性化合物を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、位相差板の強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報の段落番号［００８０］〜［０１００］に記載のもの等が挙げられる。

配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報の段落番号［００２３］〜［００２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、又は、高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、よりレチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む支持体上に塗布した後、加熱乾燥して架橋させ、必要であればラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、支持体上に塗布した後、任意の時期に行なってもよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例えば、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で、水：メタノールが０より大きく９９以下：１００未満１以上が好ましく、０より大きく９１以下：１００未満９以上であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少させることができる。

配向膜形成時に利用する塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、例えば、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、８０℃〜１００℃がより好ましい。乾燥時間は、例えば、１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５が好ましく、５がより好ましい。

配向膜は、支持体上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、必要であれば表面をラビング処理することにより得ることができる。

ラビング法では、液晶表示装置の液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０゜が好ましい。ただし、例えば、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０°以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。長尺フィルムをラビング処理する場合は、フィルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフィルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０°の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０°が好ましく、４５°が更に好ましい。

配向膜上で液晶性化合物を配向させた後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させてもよい。配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。前記配向膜用ポリマーを溶媒に溶解して調製した塗布液を、支持体表面に塗布し、２５℃〜１４０℃で塗布液中に含まれる溶媒を乾燥除去することで作製することができる。また、可能であれば蒸着によって形成することもできるが、塗布による形成がより好ましい。このようにして形成された配向膜の厚さは、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。

前記配向膜形成用塗布液の調製に用いられる溶媒としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、アセトニトリル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル等が挙げられ、好ましくは、水、アルコール類及びこれらの混合溶媒である。前記塗布液中の配向膜用ポリマーの濃度は、０．１質量％〜４０質量％であるのが好ましく、０．５質量％〜２０質量％であるのがより好ましく、２質量％〜１０質量％であるのがさらに好ましい。前記塗布液の粘度は、０．１ｃｐ〜１００ｃｐであるのが好ましく、０．５ｃｐ〜５０ｃｐであるのがより好ましい。

前記塗布液中には、前記配向膜用ポリマー以外にも、適宜添加剤を添加してもよい。例えば、前記配向膜用ポリマーが水溶性の溶媒に溶解し難い場合は、塩基性化合物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、トリエチルアミンなど）や、酸性化合物（例えば、塩酸、酢酸、コハク酸等）を添加して溶解を促進してもよい。
上記方法によって形成された配向膜は、その表面がラビング処理され、液晶配向性が付与されているのが好ましい。ラビング処理としてはポリマー塗布層の表面を、紙や布で一定方向（通常は長手方向）に、数回こすることにより実施することができる。また、ラビング以外の方法としては、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により液晶配向性を付与することもできる。液晶配向性を付与する方法としては、ポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。

（３）支持体(第２の光学異方性層)
本発明の光学補償フィルムは、第１の光学異方性層の他に、光学異方性を呈する第２の光学異方性層を有する。
この第２の光学異方性層は、第１の光学異方性層の支持体として機能するとともに、光学補償フィルムとしての光学特性の制御幅を広げ、液晶表示装置の表示特性を向上させる機能を有する。すなわち、本発明の第２の光学異方性層は、光学異方性を持たせた前述の「支持体」とみなすこともできる。第２の光学異方性層は、少なくとも１枚のポリマーフィルムからなる。本明細書において、「ポリマーフィルム」とは、ポリマーを主成分として含むフィルムを含む意味で用いる。

第２の光学異方性層は、具体的には、波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、１００〜３００ｎｍであることが好ましく、１５０〜２００ｎｍであることが更に好ましい。また、第２の光学異方性層の同波長で測定した面内レターデーションＲｅ（５５０）は、３０〜６０ｎｍであることが好ましく、３５〜５０ｎｍであることが更に好ましい。前記範囲のＲｔｈ及びＲｅを示す第２の光学異方性層を利用することにより、液晶表示装置の視野角特性などの表示特性が向上するという利点がある。
第２の光学異方性層は、ポリマーフィルム１枚からなっていても、２枚以上を含んでいてもよい。上記Ｒｅ値及びＲｔｈ値は、１枚のポリマーフィルムで実現することが可能であり、薄型化の観点では、１枚のポリマーフィルムからなることが好ましい。

第２の光学異方性層に採用されるポリマーは、セルロース系ポリマーが好ましく、セルロースエステルがより好ましく、セルロースアシレートがより好ましい。セルロースアシレートを採用することにより、上記のような光学特性の制御が可能となるという利点がある。
特に、セルロースの低級脂肪酸エステルが好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数が２〜４のセルロースアシレートが好ましく、セルロースアセテートが更に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。

セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値は、１．００〜１．７０であることが好ましく、１．３０〜１．６５であることがより好ましく、１．４０〜１．６０であることが特に好ましい。

セルロースアセテートの酢化度は、５５．０〜６２．５％が好ましく、５７．０〜６２．０％が更に好ましい。酢化度は、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算によって求められる。
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。第２の光学異方性層用に用いられるポリマーフィルムの作製には、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度又は多いセルロースアセテートを利用するのが好ましい。２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがより好ましく、３２〜４０％であることが更に好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
セルロースアシレート及びその合成方法は、例えば、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、９頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載されている方法を採用できる。

セルロースアセテートのレターデーションを調整するためには、延伸のような外力を与える方法を一例としてあげることができる。レターデーション上昇剤を、光学異方性を調節するために添加してもよい。レターデーション上昇剤は、芳香族環を少なくとも２つ有する芳香族化合物が好ましい。芳香族化合物は、ポリマー１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましい。また、２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
レターデーション上昇剤については、欧州特許出願公開第０９１１６５６号明細書、特開２０００−１１１９１４号公報、特開２０００−２７５４３４号公報に記載のレターデーション上昇剤を好ましく採用できる。

セルロースアセテートフィルムの吸湿膨張係数は、３０×１０^-5／％ＲＨ以下が好ましく、１５×１０^-5／％ＲＨ以下がより好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下が更に好ましい。吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値になる。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量である。吸湿膨張係数の小さいセルロースアシレートフィルムを第２の光学異方性層として利用することで、耐久性が改善され、例えば、額縁状の透過率上昇（歪みによる光漏れ）を防止することができる。
吸湿膨張係数は、以下の方法で測定することができる。まず、ポリマーフィルムから幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５℃・２０％ＲＨ（Ｒ₀）の雰囲気下にぶら下げる。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し、長さ（Ｌ₀）を測定する。次に、温度は２５℃のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ₁）にして、長さ（Ｌ₁）を測定する。吸湿膨張係数は下記式により算出する。測定は同一試料につき１０サンプルで行い、平均値を採用する。
［式］
吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ₁−Ｌ₀）／Ｌ₀｝／（Ｒ₁−Ｒ₀）

セルロースアセテートフィルムの吸湿による寸度変化を小さくするには、疎水性化合物を添加することが好ましい。疎水性化合物は、微粒子の状態であってもよい。疎水性化合物は、可塑剤又は劣化防止剤から選択して用いることが好ましい。疎水性化合物は、疎水性基として炭化水素基（脂肪族基、芳香族基）を有することが好ましい。疎水性化合物の添加量は、調製するポリマー溶液（ドープ）の０．０１〜１０質量％が好ましい。
ポリマーフィルムの吸湿による寸度変化を小さくするには、ポリマーフィルム中の自由体積を小さくする方法も有効である。例えば、後述するソルベントキャスト法における残留溶剤量を少なくすると、自由体積が小さくなる。ポリマーフィルムに対する残留溶剤量が０．０１〜１．００質量％となる条件で、ポリマーフィルムを乾燥することが好ましい。

ポリマーフィルムの添加剤の例には、紫外線防止剤、剥離剤、帯電防止剤、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）、赤外吸収剤が含まれる。
ポリマーフィルムが多層から形成される場合、各層における添加剤の種類や添加量が異なってもよい。添加剤については、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、１６〜２２頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載がある。添加剤の使用量は、一般に、ポリマーフィルムの０．００１〜２５質量％の範囲である。

セルロースアセテートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマー材料を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
有機溶剤は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−、及びＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

炭素原子数が、３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール、及びフェネトールが含まれる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。
２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール、及び２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１又は２であることが好ましく、１であることがより好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５ｍｏｌ％であることが好ましく、３０〜７０ｍｏｌ％であることがより好ましく、３５〜６５ｍｏｌ％であることが更に好ましく、４０〜６０ｍｏｌ％であることが特に好ましい。メチレンクロライドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

一般的な方法でセルロースアセテート溶液を調製できる。一般的な方法では、例えば、処理温度は、０℃以上の温度（常温又は高温）である。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。
なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特に、メチレンクロライド）を用いることが好ましい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアセテートの量は、１０〜３０質量％であることが更に好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温（例えば、０〜４０℃）でセルロースアセテートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、例えば、４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、更に好ましくは８０〜１１０℃である。

各成分は、予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。また、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを溶解させることができる。
なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られる利点がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアセテートの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。更に、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

次に、混合物を、例えば、−１００〜−１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、より好ましくは−５０〜−２０℃、更に好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがより好ましく、１２℃／分以上であることが更に好ましい。
冷却速度は、速いほど好ましいが、１０，０００℃／秒が理論的な上限であり、１，０００℃／秒が技術的な上限であり、そして、１００℃／秒が実用的な上限である。
なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。

更に、前記混合物を、例えば、０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１２０℃、更に好ましくは０〜５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがより好ましく、１２℃／分以上であることが更に好ましい。一方、加温速度は、速いほど好ましいが、１０，０００℃／秒が理論的な上限であり、１，０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。
なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。

以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却及び加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察することで判断できる。

冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。
加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。したがって、この溶液は、例えば、疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度に維持するのが好ましい。
ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。

調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフィルムを製造する。
前記ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。前記ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、例えば、米国特許第２３３６３１０号明細書、米国特許第２３６７６０３号明細書、米国特許第２４９２０７８号明細書、米国特許第２４９２９７７号明細書、米国特許第２４９２９７８号明細書、米国特許第２６０７７０４号明細書、米国特許第２７３９０６９号明細書、米国特許第２７３９０７０号明細書、英国特許第６４０７３１号明細書、英国特許第７３６８９２号明細書、特公昭４５−４５５４号公報、特公昭４９−５６１４号公報、特開昭６０−１７６８３４号公報、特開昭６０−２０３４３０号公報、特開昭６２−１１５０３５号公報に記載のものを採用できる。
前記ドープは、表面温度が１０℃以下のドラム、又はバンド上に流延することが好ましく、流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。
また、得られたフィルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、更に１００〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。
以上の方法は、例えば、特公平５−１７８４４号公報に記載の方法に従って行うことができる。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。また、この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延でフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。

２層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば、特開昭６１−１５８４１４号公報、特開平１−１２２４１９号公報、及び特開平１１−１９８２８５号公報に記載の方法が適応できる。
また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば、特公昭６０−２７５６２号公報、特開昭６１−９４７２４号公報、特開昭６１−９４７２４５号公報、特開昭６１−１０４８１３号公報、特開昭６１−１５８４１３号公報、及び特開平６−１３４９３３号公報に記載の方法で実施できる。
また、例えば、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出すセルロースアシレートフィルム流延方法を採用してもよい。

また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成型したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製してもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法である。
流延するセルロースアシレート溶液は、同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアシレート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアシレート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。
更に、前記セルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することもできる。

従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押出すことが必要であり、その場合、セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。
この解決策として、例えば、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押出すことができ、平面性も良化し、優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。

セルロースアセテートフィルムには、機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。
前記可塑剤としては、リン酸エステル、又はカルボン酸エステルが用いられる。
前記リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。
フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。
クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。
その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
これらの中でも、フタル酸エステル系可塑剤（例えば、ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく、ＤＥＰ及びＤＰＰがより好ましい。
前記可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましく、３〜１５質量％であることが更に好ましい。

セルロースアセテートフィルムには、表面処理を施すことが好ましい。
前記表面処理の例には、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、鹸化処理（好ましくは、アルカリ鹸化処理）及び紫外線照射処理が含まれる。
前記表面処理は、例えば、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５号、３０〜３２頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載の方法を採用できる。

アルカリ鹸化処理は、セルロースアセテートフィルムを鹸化液中に浸漬するか、鹸化液をセルロースアセテートフィルムに塗布することにより実施する。これらの中でも、塗布による方法が好ましい。塗布方法には、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法、Ｅ型塗布法がある。アルカリは、アルカリ金属（例えば、カリウム、ナトリウム）の水酸化物が好ましい。すなわち、アルカリ処理液は、アルカリ金属の水酸化物の溶液であることが好ましい。溶液中の水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎであることが好ましい。
アルカリ処理液には、フィルムに対する濡れ性が良好な溶媒に溶解したり、界面活性剤、湿潤剤（例えば、ジオール、グリセリン）を添加したりして、アルカリ処理液の第２の光学異方性層に対する濡れ性や処理液の安定性を改善できる。
フィルムに対する濡れ性が良好な溶媒としては、例えば、アルコール（例えば、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、メタノール、エタノール）である。
アルカリ処理液の添加剤としては、例えば、特開２００２−８２２２６号公報、国際公開ＷＯ０２／４６８０９号パンフレットに記載の方法を採用できる。

表面処理に代えて、又は表面処理に加えて、下塗り層を設けてもよい。
前記下塗り層は、例えば、特開平７−３３３４３３号公報に記載の方法により設けることができる。
また、前記下塗り層は複数層としてもよい。例えば、疎水性基と親水性基との両方を含有するポリマー層を第１下塗り層として設け、その上に配向膜とよく密着する親水性のポリマー層を第２下塗り層として設けることもできる。この場合、例えば、特開平１１−２４８９４０号公報に記載の方法を採用できる。

[偏光板]
本発明の位相差板は、偏光膜と貼り合せて、偏光板として使用することができる。
偏光膜は、配向型偏光膜又は塗布型偏光膜（Ｏｐｔｉｖａ Ｉｎｃ．製）を含む。配向型偏光膜は、バインダーとヨウ素もしくは二色性色素とからなる。ヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
市販の配向型偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素、もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されている。
また、市販の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）に、ヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、充分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素、もしくは二色性色素の溶液濃度、浴槽温度及び浸漬時間により制御することができる。
偏光膜の厚みは、現在市販の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下が特に好ましい。２０μｍ以下とすることにより、光漏れ現象が、１７インチの液晶表示装置では全く観察されなくなり、より好ましい。

偏光膜のバインダーは、架橋していてもよい。また、偏光膜のバインダーとしては、それ自体架橋可能なポリマーを用いてもよい。官能基を有するポリマー、又はポリマーに官能基を導入して得られたポリマーに、光、熱あるいはｐＨ変化を与えて、官能基を反応させてポリマー間を架橋させ、偏光膜を形成することができる。また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。反応活性の高い化合物である架橋剤を用いて、バインダー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、バインダー間を架橋することにより形成することができる。
架橋は一般に、架橋可能なポリマー、又はポリマーと架橋剤との混合物を含む塗布液を、支持体（好ましくは、透明支持体）上に塗布した後、加熱することにより実施できる。最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、架橋させる処理は、偏光板を最終的に得るまでのいずれの段階で行なってもよい。

偏光膜のバインダーとして、それ自体架橋可能なポリマー、あるいは架橋剤により架橋されるポリマーを使用してもよい。
このようなポリマーの例としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、塩素化ポリオレフィン（例えば、ポリ塩化ビニル）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カルボキシメチルセルロース、ポリプロピレン、ポリカーボネート及びそれらのコポリマー（例えば、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、スチレン／ビニルトルエン共重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体）が挙げられ、シランカップリング剤をポリマーとして用いてもよい。
前記ポリマーとしては、水溶性ポリマー（例えば、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコールがより好ましく、ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。

ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がより好ましく、９５〜１００％が特に好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５，０００が好ましい。
変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対して、共重合変性、連鎖移動変性あるいはブロック重合変性により変性基を導入して得られる。共重合で導入する変性基の例は、−ＣＯＯＮａ、−Ｓｉ（ＯＸ）₃（Ｘは、水素原子又はアルキル基）、−Ｎ（ＣＨ₃）₃・Ｃｌ、−Ｃ₉Ｈ₁₉、−ＣＯＯ、−ＳＯ₃Ｎａ、−Ｃ₁₂Ｈ₂₅を含む。連鎖移動で導入する変性基の例は、−ＣＯＯＮａ、−ＳＨ、−ＳＣ₁₂Ｈ₂₅を含む。変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３，０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平８−３３８９１３号公報、特開平９−１５２５０９号公報、及び特開平９−３１６１２７号公報に記載のものを採用できる。これらの中でも、鹸化度が８５〜９５％の未変性ポリビニルアルコール、及びアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。なお、ポリビニルアルコール、及び変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。

架橋剤については、例えば、米国再発行特許第２３２９７号明細書に記載のものを採用できる。ホウ素化合物（例えば、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤は、多く添加すると、偏光膜の耐湿熱性を向上させることができる。ただし、バインダーに対して架橋剤を５０質量％以上添加すると、ヨウ素、又は二色性色素の配向性が低下する。架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％が更に好ましい。バインダーは、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。ただし、残存する架橋剤の量は、バインダー中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることが更に好ましい。１．０質量％以下とすることにより、耐久性がより向上する傾向にある。すなわち、架橋剤の残留量を少なくすることにより、偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用又は高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合にも、偏光度が低下しにくくなる傾向にある。

二色性色素は、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素を含む。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。
二色性色素は、親水性置換基（例えば、スルホ基、アミノ基、ヒドロキシル基）を有することが好ましい。
二色性色素の例としては、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド７９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８１、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・バイオレット４８、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー６７、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・グリーン５９、Ｃ．Ｉ．アシッド・レッド３７が含まれる。
二色性色素については、特開平１−１６１２０２号公報、特開平１−１７２９０６号公報、特開平１−１７２９０７号公報、特開平１−１８３６０２号公報、特開平１−２４８１０５号公報、特開平１−２６５２０５号公報、特開平７−２６１０２４号公報に記載があり、本発明においては、これらに記載された二色性色素を採用することができる。

二色性色素は、遊離酸、又は塩（例えば、アルカリ金属塩、アンモニウム塩、又はアミン塩）として用いられる。また、二種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光膜を製造することができる。
偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）を用いた偏光膜、又は黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光膜は、単板透過率、及び偏光率が優れている。

偏光膜は、バインダーを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して延伸する（延伸法）。あるいは、ラビングした後に、ヨウ素、二色性染料で染色する（ラビング法）。
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍が更に好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸工程は、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。

偏光膜を延伸する際には、歩留まりの観点から、長手方向に対して１０〜８０°傾斜して延伸することが好ましい。その場合、延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。
上記二軸延伸は、通常のフィルム製膜において行われている延伸方法と同様である。
二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフィルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダー溶液の流量に左右の差をつけることができる。
前記延伸の際の傾斜角度は、液晶表示装置を構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦又は横方向のなす角度にあわせるように設定されることが好ましい。通常の傾斜角度は４５°である。しかし、最近は、透過型、反射型及び半透過型液晶表示装置において必ずしも４５°でない装置が開発されており、延伸方向は液晶表示装置の設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０°斜め延伸されたバインダーフィルムが製造される。

偏光膜の両面には、保護フィルムを配置するのが好ましく、一方の面の保護フィルムとして、本発明の位相差板を用いるのが好ましい。例えば、保護フィルム／偏光膜／第２の光学異方性層／第１の光学異方性層、又は保護フィルム／偏光膜／第２の光学異方性層／配向膜／第１の光学異方性層の順に積層された積層体が好ましい。偏光膜と、第１の光学異方性層の表面側とを貼りあわせてもよい。貼り合せには接着剤を用いることができ、該接着剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。
接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜５μｍであることが更に好ましい。
偏光板の表面には、光拡散フィルム、又は防眩性フィルムを貼り合わせてもよい。

＜光拡散フィルム、及び防眩性フィルム＞
図１は、光拡散フィルムの代表的な形態を示す断面模式図である。
図１に示す光拡散フィルム１０１は、透明基材フィルム１０２と、透光性樹脂１４０中に、例えば、第１の透光性微粒子１４１、及び第２の透光性微粒子１４２とを含む光拡散層１０３とを有する。ここでは、屈折率が異なる２種類の２つの粒子サイズ分布のピークを有する透光性微粒子にて説明するが、同じ種類（屈折率が同じ）で、２つの粒子サイズ分布線のピークを有する透光性微粒子を用いてもよいし、１種類の透光性微粒子を用いてもよい。

第１の透光性微粒子１４１は、透光性樹脂、例えばシリカ微粒子（平均粒径１．０μｍ、屈折率１．５１）から構成され、第２の透光性微粒子１４２は、透光性樹脂、例えばスチレンビーズ（平均粒子径３．５μｍ、屈折率１．６１）から構成されている。
光拡散機能は、透光性微粒子１４１，１４２と、透光性樹脂１４０との屈折率の差によって得られる。屈折率の差は、０．０２〜０．１５であることが好ましい。屈折率差を０．０２以上とすることにより、光拡散がより効果的である。
また、屈折率差を０．１５以下とすることにより、光拡散性が高くなりすぎず、フィルム全体の白化をより抑止できる傾向にある。屈折率差は、０．０３〜０．１３がより好ましく、０．０４〜０．１０が更に好ましい。

偏光膜を液晶表示装置に用いる場合、視認側表面に反射防止層を設置するのが好ましい。反射防止層を偏光膜の視認側の保護層と兼用してもよい。
液晶表示装置の視角による色味変化抑制の観点から、反射防止層の内部ヘイズを５０％以上にすることが好ましい。反射防止層は、例えば、特開２００１−３３７８３号公報、特開２００１−３４３６４６号公報、及び特開２００２−３２８２２８号公報に記載のものを採用できる。

位相差板は、偏光膜と組み合わせて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型、反射型、及び半透過型液晶表示装置に、偏光膜と組み合わせて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。以下に、位相差板を利用した楕円偏光板及び液晶表示装置について説明する。
［楕円偏光板］
位相差板と偏光膜とを貼合することによって楕円偏光板を作製することができる。位相差板を利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大し得る楕円偏光板を提供することができる。前記偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。

偏光膜は、位相差板の光学異方性層側に積層する。偏光膜の位相差板を積層した側と反対側の面に保護膜を形成することが好ましい。保護膜は、光透過率が８０％以上の透明保護膜が好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。

［液晶表示装置］
本発明の位相差板は、液晶表示装置の視野角の拡大に寄与する。液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光素子及び光学補償シートを有し、本発明の位相差板を該光学補償シートとして利用することができる。前記偏光素子は、一般に偏光膜と保護膜からなり、偏光膜と保護膜については、上記楕円偏光で説明したものを用いることができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報第３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモード又はＦＤＣモードの液晶セル用位相差板は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモード又はＨＡＮモードの液晶セル用位相差板は、米国特許第５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板は、特許登録第２８６６３７２号公報に記載がある。

本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）を作製することができる。本発明の位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＤＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードのような様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。位相差板は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置の光学補償に特に効果がある。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

［合成例１：Ｄ３−１２の合成］
下記スキーム１に従い、ＷＯ２００６／０９８４８９Ａ１号公報の７２〜７３頁に記載の実施例１１、及び７７頁に記載の化合物Ｄ−２２７に記載の方法と同一の方法で、化合物Ｄ３−１２を合成した。

得られたＤ３−１２のＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：１．６０（６Ｈ、ｍ）、１．８０−１．９０（１２Ｈ、ｍ）、４．２５（６Ｈ、ｔ）、４．４５（６Ｈ、ｔ）、５．８０（３Ｈ、ｄｄ）、６．１５（３Ｈ、ｄｄ）、６．４０（３Ｈ、ｄｄ）、７．６５（３Ｈ、ｔ）、８．２５（３Ｈ、ｄ）、８．４５（３Ｈ、ｄ）、８．９０（３Ｈ、ｓ）、９．３０（３Ｈ、ｓ）。

得られたＤ３−１２の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって行ったところ、温度を上げていき８６°付近で結晶相からディスコティックネマチック液晶相に変わり、１４２°を超えると等方性液体相に変わった。すなわち、Ｄ３−１２は８６°から１４２°の間でディスコティックネマチック液晶相を呈することが分った。

［合成例２：モノマー Ａ−６'］

下記スキーム２に従って合成した。

エチレングリコール モノ−２−クロロエチルエーテル（東京化成）３００ｇ（２．４１ｍｏｌ）及び重合禁止剤ニトロベンゼン２ｇを酢酸エチル１０００ｍＬに溶解させ、氷水浴下攪拌しながら、アクリル酸クロリド２９５ｍＬ（３．６５ｍｏｌ）を３時間滴下させた後、更に３時間攪拌した。反応終了後、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を除去し、オイル状生成物を得られた（４１６ｇ、粗収率９７％）。
上記の生成物３０２ｇ（１．６９ｍｏｌ）を１５００ｍＬのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）中に溶解させて、さらに、無水炭酸カリウム３６０ｇ（２．６０ｍｏｌ）と２−ナフトール（和光試薬）１８７．４ｇ（１．３０ｍｏｌ）を加えて溶解させて、窒素雰囲気で、反応溶液を９０°で加熱して５時間攪拌した。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製後、ヘキサン／酢酸エチル（３／１）の混合溶媒から再結晶を行い、モノマー１を得た。以下、Ａ−６'と略す（１５０ｇ、収率４０％）。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。

¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：３．８３（２Ｈ、ｔ）、３．９２（２Ｈ、ｔ）、４．２５（２Ｈ、ｔ）、４．３７（２Ｈ、ｔ）、５．８６（１Ｈ、ｄｄ）、６．１５（１Ｈ、ｄｄ）、６．４２（１Ｈ、ｄｄ）、７．１〜７．２（２Ｈ，ｍ）、７．３２（１Ｈ，ｔ），７．４３（１Ｈ、ｔ）、７．７５（３Ｈ，ｍ）

［合成例３：モノマー Ａ−９'の合成］

合成例２において、２−ナフトール（和光試薬）の代わりに６−シアノ−２−ナフトール（シグマアルドリッチジャパン株）を２５ｇ使用し、他は合成例２と同様にして４−（２' −アクリロイルオキシエトキシ） ナフタレンニトリル３０ｇを得た。以下、Ａ−９'と略す（収率５０％）。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：３．８５（２Ｈ、ｔ）、３．９５（２Ｈ、ｔ）、４．２７（２Ｈ、ｔ）、４．３７（２Ｈ、ｔ）、５．８０（１Ｈ、ｄｄ）、６．１４（１Ｈ、ｄｄ）、６．４０（１Ｈ、ｄｄ）、７．１７（１Ｈ、ｄ）、７．２９（１Ｈ，ｄｄ）７．５５（１Ｈ，ｄｄ），７．７〜７．８（２Ｈ、ｍ）、８．１２（１Ｈ，ｄ）。

［合成例４：モノマー Ａ−７'の合成］

合成例２において、エチレングリコール モノ−２−クロロエチルエーテル（東京化成）に２−［２−（２−クロロエドキシ）エドキシ］エタノール（東京化成）を使用した他の合成例２と同様にしてＡ−７'を得た。
（総収率７５％）。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：３．６０〜３．８０（４Ｈ，ｍ）、３．９３（２Ｈ、ｔ）、４．２５（２Ｈ、ｔ）、４．３２（２Ｈ、ｔ）、５．８２（１Ｈ、ｄｄ）、６．１４（１Ｈ、ｄｄ）、６．４０（１Ｈ、ｄｄ）、７．１〜７．２（２Ｈ，ｍ）、７．３０（１Ｈ，ｔ），７．４２（１Ｈ、ｔ）、７．７２（３Ｈ，ｍ）

［合成例５：モノマー Ａ−８'の合成］

合成例２において、２−ナフトール（和光試薬）の代わりに１−ナフトールを２１．６ｇ使用し、他は合成例２と同様にしてモノマーとしてＡ−８'２０ｇを得た。以下、と略す（総収率５０％）。ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ₃、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：３．８８（２Ｈ、ｔ）、４．００（２Ｈ、ｔ）、４．３２（２Ｈ、ｔ）、４．３８（２Ｈ、ｔ）、５．８０（１Ｈ、ｄｄ）、６．１４（１Ｈ、ｄｄ）、６．４２（１Ｈ、ｄｄ）、６．８２（１Ｈ，ｄ）、７．３５（１Ｈ，ｔ），７．４０〜７．５０（３Ｈ、ｍ）、７．８０（１Ｈ，ｄ）、８．２８（１Ｈ，ｄ）。

［合成例６：ポリマーＡＤ−１の合成例］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）５ｇを入れ、窒素を３５ｍＬ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−６'（９．６ｇ）、Ｂ−３'（６．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）を含むメチルエチルケトン（ＭＥＫ）８ｇを３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌されたメタノール−水混合溶液（８００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１）を１０．５ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．２５であった。尚、スキーム中のポリマーＡＤ−１の各構成単位は、質量％で表している（以下の実施例で合成するポリマーについて同じ）。

上記合成例６と同様にして、異なる組成比のポリマーＡＤ−２〜ＡＤ−５を合成した。

［合成例７：ポリマー ＡＤ−７の合成例］

１００ｍＬの三口フラスコにＭＥＫ５ｇを入れ、窒素を３５ｍＬ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−６'（９．６ｇ）、Ｂ−３'（３．２ｇ）、及びＢ−１'（３．２ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）を含むＭＥＫ８ｇを３時間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌されたメタノール−水混合溶液（８００ｍＬ）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−７）を１３ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１０９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．０４であった。

上記合成例７と同様にして、異なる組成比のポリマーＡＤ−６とＡＤ−８を合成した。また、ラジカル重合開始剤の添加量の調整により異なる分子量を有するＡＤ‐９〜ＡＤ‐１１を合成した。

［合成例８：ポリマー ＡＤ−１２の合成］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１２を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＭＥＫ４ｇを入れ、窒素を３５ｍＬ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−６'（５．４ｇ）、Ｂ−３'（５．２ｇ）、Ｃ−１１'（日本油脂製、ブンレンマーＡＰ−４００、５．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＭＥＫ８ｇ溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０／９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１２）を１３．８ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１１０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１４であった。

上記合成例８と同様にして、異なる組成比のポリマーＡＤ−１３を合成した。

［合成例９：ポリマー ＡＤ−１４の合成例］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１４を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＭＥＫ４ｇを入れ、窒素を３５ｍＬ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−６'（２．４ｇ）、Ｂ−３'（４．８ｇ）、Ｃ−１９'（新中村化学工業、ＮＫエステル ＡＭＰ２０Ｇ ７．２ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＭＥＫ８ｇ溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０／９０体積比）中にゆっくりと注ぎ、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１５）を１２．７ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１６７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．００であった。

［合成例１０：ポリマー ＡＤ−１５の合成例］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１５を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＭＥＫ４ｇを入れ、窒素を３５ｍＬ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−６'（９．１２ｇ）、Ａ−９'（０．４８ｇ）、Ｂ−３'（６．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＭＥＫ８ｇ溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０／９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１５）を１３．０ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１４７００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．９８であった。

［合成例１１：ポリマー ＡＤ−１６の合成例］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１６を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＭＥＫ４ｇを入れ、窒素を３５ｍＬ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−６'（４．８ｇ）、Ａ−７'（４．８ｇ）、Ｂ−３'（６．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＭＥＫ８ｇ溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０／９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１６）を１３．７ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１６３００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．９３であった。

［合成例１２：ポリマー ＡＤ−１７の合成］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１７を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＭＥＫ４ｇを入れ、窒素を３５ｍＬ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−６'（４．８ｇ）、Ａ−８'（４．８ｇ）、Ｂ−３'（６．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＭＥＫ８ｇ溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０／９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１７）を１２．５ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１３０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．３０であった。

［合成例１３：ポリマー ＡＤ−１８の合成］
以下のスキームに従って、ポリマーＡＤ−１８を合成した。

１００ｍＬの三口フラスコにＭＥＫ４ｇを入れ、窒素を３５ｍＬ／分の流量で流しながら７８℃に加熱した。そこに、Ａ−６'（６．４ｇ）、Ａ−９'（３．２ｇ）、Ｂ−３'（６．４ｇ）、重合開始剤（和光純薬（株）製、Ｖ−６０１、６００ｍｇ）のＭＥＫ８ｇ溶液を３時間掛けて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で４時間反応させた。その後、反応系を室温に戻した後、攪拌された８００ｍＬのメタノール−水混合溶液（１０／９０体積比）中にゆっくりと注加し、析出したポリマーを遠心分離によって取り出し、さらに乾燥した。このようにして本発明に用いるポリマー（ＡＤ−１８）を１３．７ｇ得た。ＧＰＣ測定（ポリスチリン換算）で、Ｍｎ＝１２５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４０であった。

［実施例１：本発明の組成物（ＬＭ−１）の調製］
以下に示した組成の割合で、液晶性化合物（１）（Ｄ３−１２）、液晶性化合物（２）（Ｔ−８）、本発明で用いるポリマー（ＡＤ−１）、光重合開始剤のイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株））、及び、光増感剤のジエチルチオキサントンをそれぞれ秤量し、メチルエチルケトンに溶解することによって、本発明の組成物（ＬＭ−１）を調製した。

組成物（ＬＭ−１）の組成
・液晶性化合物（１）：Ｄ３−１２ ９１質量部
・液晶性化合物（２）：Ｔ−８ ９質量部
・本発明で用いるポリマー：ＡＤ−１ １．０質量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）） ３．０質量部
・ジエチルチオキサントン １．０質量部
・メチルエチルケトン ２５０質量部

［実施例２：本発明の組成物（ＬＭ−２〜ＬＭ−１７）の調製］
実施例１において、ポリマー（ＡＤ−１）を下記表２に記載のポリマーにそれぞれ変更し、他は同様にして、本発明の組成物（ＬＭ−２）〜（ＬＭ−１７）を調製した。

［実施例３：本発明の組成物（ＬＭ−１８）の調製］
以下に示した組成の割合で、液晶性化合物（Ｄ３−１２）、本発明で用いるポリマー（ＡＤ−１８）、光重合開始剤のイルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株））、及び、光増感剤のジエチルチオキサントンをそれぞれ秤量し、メチルエチルケトンに溶解することによって、本発明の組成物（ＬＭ−１８）を調製した。

組成物（ＬＭ−１８）の組成
・液晶性化合物（１）：Ｄ３−１２ １００質量部
・本発明で用いるポリマー：ＡＤ−１８ １．０質量部
・イルガキュア９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）） ３．０質量部
・ジエチルチオキサントン １．０質量部
・メチルエチルケトン ２５０質量部

［比較例１：比較用組成物ＬＨ−１〜ＬＨ−１４の調製］
ポリマー（ＡＤ−１）を添加しなかった以外は、実施例１の組成物（ＬＭ−１）と全て同様にして、比較用組成物（ＬＨ−１）を調製した。また、ポリマー（ＡＤ−１）を添加しなかった以外は、実施例３の組成物（ＬＭ−１８）と全て同様にして、比較用組成物（ＬＨ−２）を調製した。また、ポリマー（ＡＤ−１）の代わりに、下記ポリマーＡＤＨ−１（特開２００６−１６５９９号公報（上記特許文献２）の実施例で合成したポリマーを用いた以外は、実施例１の組成物（ＬＭ−１）及び実施例３の組成物（ＬＭ−１８）とそれぞれ同様にして、比較用組成物（ＬＨ−３）及び（ＬＨ−４）をそれぞれ調製した。

［実施例４：本発明の位相差板（ＲＭ−１）の作製］
第２の光学異方性層(透明支持体)の作製
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
［セルロースアセテート溶液組成］
・酢化度６０．９％のセルロースアセテート・・・・・・・・・・・・１００質量部
・トリフェニルフォスフェート・・・・・・・・・・・・・・・・・・７．８質量部
・ビフェニルジフェニルホスフェート・・・・・・・・・・・・・・・３．９質量部
・メチレンクロライド・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３００質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４５質量部

レターデーション上昇剤溶液の調製
別のミキシングタンクに、酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）４質量部、下記式（Ａ）のレターデーション上昇剤２５質量部、シリカ微粒子（平均粒子サイズ：２０ｎｍ）０．５質量部、メチレンクロライド８０質量部、及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。

上記セルロースアセテート溶液４７０質量部に、レターデーション上昇剤溶液１８．５質量部を混合し、十分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤のセルロースアセテートに対する質量比は３．５質量％であった。
その後、残留溶剤量が３５質量％のフィルムをバンドから剥離した後、１４０℃の温度で、フィルムのテンターを用いて３８％の延伸倍率で横延伸した後、クリップを外して１３０℃で４５秒間乾燥させ、第２の光学異方性層としてのセルロースアセテートフィルムを製造した。製造された第２の光学異方性層の残留溶剤量は０．２質量％であり、膜厚は８８μｍであった。

＜第２の光学異方性層の鹸化処理＞
作製した第２の光学異方性層の一方の面に、１．５Ｎの水酸化カリウムのイソプロピルアルコール溶液を２５ｍＬ／ｍ²塗布し、２５℃で５秒間放置した後、流水で１０秒洗浄し、２５℃の空気を吹き付けることでフィルムの表面を乾燥した。このようにして、第２の光学異方性層の一方の表面のみを鹸化した。

・配向膜の形成
第２の光学異方性層の鹸化処理した面に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１８のワイヤーバーコーターで３１ｍＬ／ｍ²塗布した。１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
次に、第２の光学異方性層の延伸方向（遅相軸とほぼ垂直）と４５゜の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。得られた配向膜の膜厚は０．５μｍであった。配向膜のラビング方向は、透明支持体の流延方向と平行であった。

［配向膜塗布液組成］
・下記式（Ｂ）の変性ポリビニルアルコール・・・・・・・・・・・・１０質量部
・水・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・３７１質量部
・メタノール・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・１１９質量部
・グルタルアルデヒド（架橋剤）・・・・・・・・・・・・・・・・０．５質量部

（光学異方性層の形成）
前記で作製した配向膜のラビング処理面上に、実施例１で調製した本発明の組成物（ＬＭ−１）の塗布液を、ワイヤーバーを用いて塗布した。上記の光学異方性層を塗布したフィルムを、１１０℃の恒温槽中にて配向させ、その温度で２００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。室温まで放冷して、本発明の位相差板（ＲＭ−１）を作製した。形成した光学異方性層の厚さは約１．０μｍであった。

［実施例５：本発明の位相差板（ＲＭ−２〜ＲＭ−１７）の作製］
実施例４において、組成物（ＬＭ−１）を、組成物（ＬＭ−２）〜（ＬＭ−１７）に変更したこと以外は全て同様にして、位相差板（ＲＭ−２）〜（ＲＭ−１７）を作製した。

［実施例６：本発明の位相差板（ＲＭ−１８）の作製］
実施例４において、組成物（ＬＭ−１８）を使用し、位相差板（ＲＭ−１８）を作製した。

［比較例２：比較用位相差板（ＲＨ−１、ＲＨ−２、ＲＨ−３、ＲＨ−４）の作製］
実施例４において、組成物（ＬＭ−１）を、組成物（ＬＨ−１）〜（ＬＨ−４）にそれぞれ変更したこと以外は、全て同様にして、比較用の位相差板（ＲＨ−１）〜（ＲＨ−４）をそれぞれ作製した。

［位相差板の評価］
（平均チルト角の測定）
上記で作製した位相差板それぞれのＲｅ（５８９ｎｍ）値は、まずＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５８９ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。次に、面内の遅相軸を傾斜軸として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長５８９ｎｍの光を入射させて測定し、さらに、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長５８９ｎｍの光を入射させて測定した。上記の光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出した。
この値の平均値（（θ１＋θ２）／２）から平均チルト角を求めた。

（配向状態の観察）
また、上記で作製した位相差板の断面の超薄切片を、マイクロトームを用いて作製し、その切片を偏光顕微鏡で観察したところ、実施例の位相差板ＲＭ−１〜ＲＭ−１８、並びに比較例の位相差板ＲＨ−１及びＲＨ−２のいずれも、光学異方性層中において、液晶性分子がハイブリッド配向していることが確認できた。また、比較例の位相差板ＲＨ−３及びＲＨ−４では、光学異方性層中において、液晶性分子が水平配向(平均チルト角度：〜０度)であった。

（平均チルト角の温度依存性）
光学異方性層の形成において、配向後に８０℃まで降温した後、紫外線により配向状態を硬化した以外は同様にして位相差板を作製した後、平均チルト角の測定を行い、１１０℃の時と８０℃で配向固定化した時の平均チルト角の差を平均チルト角温度依存性として以下の表４に記載した。

表４の結果から、本発明の位相差板（ＲＭ−１）〜（ＲＭ−１８）は、比較例の位相差板（ＲＨ−１）及び（ＲＨ−２）と比較して、平均チルト角が１０〜４０°の範囲に制御できることが判った。かつ、その中間の平均チルト角は温度依存性が少ないことが確認された。また、比較例の位相差板（ＲＨ−３）及び（ＲＨ−４）は水平配向となっていたのに対し、本発明の位相差板（ＲＭ−１）〜（ＲＭ−１８）は、ハイブリッド配向であることが確認された。
これらの結果から、本発明の一般式（Ａ）で表される構成単位及びフルオロ脂肪族基を有するモノマーから誘導される構成単位を含むポリマーの存在下で円盤状液晶性化合物を配向させると、低チルト角のハイブリッド配向状態が得られること、及び温度に依存したチルト角の変動が小さいこと、その結果、所望の光学特性を有する位相差板を安定的に得ることができることが確認された。

光拡散フィルムの代表的な形態を示す断面模式図である。

符号の説明

１０１ 光拡散フィルム
１０２ 透明基材フィルム
１０３ 光拡散層
１０４ 透光性樹脂
１４０ 透光性樹脂
１４１ 第１の透光性微粒子
１４２ 第２の透光性微粒子

Claims (15)

1. 液晶性化合物の少なくとも一種と、下記一般式（Ａ）で表される構成単位及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーの少なくとも一種とを含有する組成物：
   

   

   一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマー主鎖の一部又は全部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。
2. 前記一般式（Ａ）中のＸが、炭素原子数５〜３０の無置換又は置換の芳香族縮合環官能基である請求項１に記載の組成物。
3. 前記一般式（Ａ）中のＸが、炭素原子数１０〜２０の無置換もしくは置換のナフチル基である請求項１に記載の組成物。
4. 前記一般式（Ａ）において、前記Ｍｐが下記Ｍｐ−１又はＭｐ−２を表し、前記Ｌが、−Ｏ−、−ＮＲ^a11−（Ｒ^a11は、水素原子、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基を表す。）、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）₂−、及び、炭素原子数１〜２０の置換もしくは無置換のアルキレン基、ならびに、これらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表す請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物：
   

   

   ＊は、Ｌとの連結位置を示す。
5. 前記フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位が、下記一般式（Ｂ）で表される構成単位である請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物：
   

   

   一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'はポリマー主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌ'は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。
6. 前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
7. 前記液晶性化合物の少なくとも１種が、下記一般式（ＤＩ）で表される化合物である請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物：
   

   

   一般式（ＤＩ）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表し；Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ａ）又は下記一般式（ＤＩ−Ｂ）を表し；Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩ−Ｒ）を表し；
   

   

   一般式（ＤＩ−Ａ）中、ＹＡ¹及びＹＡ²はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；ＸＡは酸素原子、硫黄原子、メチレン、又はイミノを表し；＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表し；
   

   

   一般式（ＤＩ−Ｂ）中、ＹＢ¹及びＹＢ²はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；ＸＢは酸素原子、硫黄原子、メチレン、又はイミノを表し；＊はＬ¹〜Ｌ³と結合する位置を表し、＊＊はＲ¹〜Ｒ³と結合する位置を表し；
   一般式（ＤＩ−Ｒ）
   ＊−（−Ｌ²¹−Ｆ¹）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
   一般式（ＤＩ−Ｒ）中、＊は一般式（ＤＩ）中のＨ¹、Ｈ²又はＨ³に結合する位置を表し；Ｆ¹は少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基を表し；Ｌ²¹は単結合又は２価の連結基を表し；ｎ１は０〜４の整数を表し；Ｌ²²は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ²³は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ¹は重合性基又は水素原子を表す。
8. 前記液晶性化合物の少なくとも１種が、下記一般式（ＤＩＩ）で表される化合物又は下記一般式（ＤＩＩＩ）で表される化合物である請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物：
   

   

   一般式（ＤＩＩ）中、Ｙ³¹、Ｙ³²及びＹ³³はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩ−Ｒ）で表される基であり；
   

   

   一般式（ＤＩＩ−Ｒ）中、Ａ³¹及びＡ³²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；Ｘ³は酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｆ²は６員環状構造を有する２価の環状連結基を表し；ｎ３は１〜３整数を表し；Ｌ³¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ³²は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ³は重合性基又は水素原子を表し；
   

   

   一般式（ＤＩＩＩ）中、Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ⁴³はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²及びＲ⁴³はそれぞれ独立に、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）、下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）、又は下記一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）を表し；
   

   

   一般式（ＤＩＩＩ−Ａ）中、Ａ⁴¹、Ａ⁴²、Ａ⁴³、Ａ⁴⁴、Ａ⁴⁵及びＡ⁴⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ⁴¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｌ⁴¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ⁴²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ⁴は、重合性基又は水素原子を表し；
   

   

   一般式（ＤＩＩＩ−Ｂ）中、Ａ⁵¹、Ａ⁵²、Ａ⁵³、Ａ⁵⁴、Ａ⁵⁵及びＡ⁵⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ⁵²は、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；Ｌ⁵¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ⁵²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく、Ｑ⁵は重合性基又は水素原子を表し；
   

   

   一般式（ＤＩＩＩ−Ｃ）中、Ａ⁶¹、Ａ⁶²、Ａ⁶³、Ａ⁶⁴、Ａ⁶⁵及びＡ⁶⁶はそれぞれ独立に、メチン又は窒素原子を表し；Ｘ⁶³は、酸素原子、硫黄原子、メチン又はイミノを表し；Ｌ⁶¹は−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−Ｃ＝Ｃ−を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｌ⁶²は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ＝Ｃ−ならびにこれらの２個以上を連結して形成される基から選択される２価の連結基を表し、上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよく；Ｑ⁶は重合性基又は水素原子を表す。
9. 前記液晶化合物が、前記一般式（ＤＩ）、（ＤＩＩ）又は（ＤＩＩＩ）で表される化合物であり、前記一般式（ＤＩ）、（ＤＩＩ）又は（ＤＩＩＩ）で表される化合物以外の第２の液晶性化合物をさらに含む請求項７又は８に記載の組成物。
10. 前記第２の液晶性化合物が、下記一般式（Ｔ）で表される化合物である請求項９に記載の組成物：
    

    

    一般式（Ｔ）中、Ｍは二価の連結基であり、それぞれ、同一であっても異なっていてもよく；Ｑ⁷は重合性基又は水素原子を表し、それぞれ、同一であっても異なっていてもよい。
11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物から形成された光学異方性層を有する位相差板。
12. 請求項１１に記載の位相差板を有する液晶表示装置。
13. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の組成物を用いて光学異方性層を形成することを含む位相差板の製造方法。
14. 下記一般式（Ａ）で表される基と、下記一般式（Ｂ）で表される基とを構成単位として含むポリマー：
    

    

    一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表し；
    

    

    一般式（Ｂ）中、Ｍｐ'はポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌ'は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。
15. 下記一般式（Ａ）で表される構成単位、及びフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマーからなるチルト角制御剤：
    

    

    一般式（Ａ）中、Ｍｐは主鎖の一部又は全部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表す。

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