JP7207318B2 - 液晶組成物、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置 - Google Patents

Description

本開示は、液晶組成物、位相差フィルム及びその製造方法、転写用積層体、光学部材及びその製造方法、並びに表示装置に関する。

従来、液晶表示装置や発光表示装置等の表示装置に関して、種々の光学部材をパネル面に配置する構成が提案されている。またこのような光学部材には、液晶材料による位相差を設ける構成が提案されている。

例えば有機発光表示装置等の発光表示装置においては、発光層の光を効率よく利用するため、反射性に優れた金属電極が設けられている。一方、当該金属電極を用いることにより、外光反射が大きくなるため、発光表示装置においては、当該外光反射を抑制するための円偏光板等を有している。

偏光板を透過した光は、光学的に異方性を有しており、表示装置においては、当該異方性が視野角によるコントラストの低下等の原因となっている。これに対し、位相差フィルム、特にポジティブＣ型の位相差フィルム（ポジティブＣプレート）を用いることにより、視野角を改善する手法が知られている。

ポジティブＣプレートは、例えば、プレート内の棒状液晶分子を、当該プレート面に対して垂直に配向させることにより得ることができる。
例えば、特許文献１には、特定のホメオトロピック配向性側鎖型液晶ポリマーと光重合性液晶化合物を含有してなるホメオトロピック配向液晶性組成物により形成されたホメオトロピック配向液晶フィルムを有する位相差板が開示されている。

特開２００３－１４９４４１号公報

また、位相差フィルムを備えた表示装置等の多用途化に伴い、位相差フィルムは耐熱性等の耐久性の向上が求められている。しかしながら、従来のポジティブＣプレートは、耐熱性が不十分であり、熱による位相差の変動が生じ易いという問題がある。

本開示の実施形態は、垂直配向性に優れ、耐熱性が向上した位相差層を形成可能な液晶組成物、垂直配向性に優れ、耐熱性が向上した位相差層を有する位相差フィルム、垂直配向性に優れ、耐熱性が向上した位相差層の転写に供する転写用積層体、前記位相差フィルムを有する光学部材及びその製造方法、並びに表示装置を提供することを目的とする。

本開示の１実施形態は、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物と、光重合開始剤とを含有し、
前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物を提供する。

（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは親水性部を表し、Ｙは疎水性部を表す。
親水性部を表すＸは、
－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－（ｎは２以上１７以下）、
水酸基が置換された炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－からなる群から選ばれる少なくとも１種の連結基との組み合わせ、又は、
－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－（ｎ’は１以上１７以下）と水酸基が置換されていてもよい炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と前記連結基との組み合わせであり、
Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す。
疎水性部を表すＹは、
炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基、
炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基、
炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基と炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基との組み合わせ、又は、
炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種と－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－（ｍは１以上５以下）との組み合わせである。）

本開示の１実施形態は、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物と、光重合開始剤とを含有し、
前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物を提供する。

（一般式（Ｉ’）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ’は親水性部を表し、Ｙ’は疎水性部を表す。親水性部を表すＸ’は、デイビス法による原子団固有の基数が０．５以上５．７以下の２価の基であり、疎水性部を表すＹ’は、デイビス法による原子団固有の基数が－１０．５以上－３．０以下の１価の基である。）

本開示の１実施形態は、前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、前記液晶組成物を提供する。

本開示の１実施形態は、位相差層を有する位相差フィルムであって、
前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物の硬化物を含む、位相差フィルムを提供する。

本開示の１実施形態は、前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、前記位相差フィルムを提供する。

本開示の１実施形態は、前記位相差層の測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ未満である、前記位相差フィルムを提供する。

本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の液晶組成物を成膜する工程と、
前記成膜された前記液晶組成物中の前記側鎖型液晶ポリマーが有する前記液晶性構成単位と、前記重合性液晶化合物を配向させる工程と、
前記配向させる工程の後に、前記重合性液晶化合物を重合する工程とを有することにより、位相差層を形成する、位相差フィルムの製造方法を提供する。

本開示の１実施形態は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物の硬化物を含む、
前記位相差層の転写に供する転写用積層体を提供する。

本開示の１実施形態は、前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、前記転写用積層体を提供する。

本開示の１実施形態は、前記位相差層の測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ未満である、前記転写用積層体を提供する。

本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の位相差フィルム上に、偏光板を備える、光学部材を提供する。

本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の転写用積層体を準備する工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程と
を有する、光学部材の製造方法を提供する。

本開示の１実施形態は、前記本開示の１実施形態の位相差フィルム、又は当該位相差フィルム上に偏光板を備える光学部材、を備える表示装置を提供する。

本開示の実施形態によれば、垂直配向性に優れ、耐熱性が向上した位相差層を形成可能な液晶組成物、垂直配向性に優れ、耐熱性が向上した位相差層を有する位相差フィルム、垂直配向性に優れ、耐熱性が向上した位相差層の転写に供する転写用積層体、前記位相差フィルムを有する光学部材及びその製造方法、並びに表示装置を提供することができる。

図１は、位相差フィルムの１実施形態を示す模式断面図である。 図２は、位相差フィルムの１実施形態を示す模式断面図である。 図３は、位相差フィルムの１実施形態を示す模式断面図である。 図４は、転写用積層体の１実施形態を示す模式断面図である。 図５は、転写用積層体の１実施形態を示す模式断面図である。 図６は、転写用積層体の１実施形態を示す模式断面図である。 図７は、光学部材の１実施形態を示す模式断面図である。 図８は、表示装置の１実施形態を示す模式断面図である。

以下、本開示の実施の形態や実施例などを、図面等を参照しながら説明する。但し、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態や実施例等の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。また、説明の便宜上、上方又は下方という語句を用いて説明する場合があるが、上下方向が逆転してもよい。
本明細書において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定が無い限り、これは他の構成の直上（又は直下）にある場合のみでなく、他の構成の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の構成の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。

本明細書において配向規制力とは、位相差層中の液晶性成分を特定方向に配列させる相互作用を意味する。
本明細書において、（メタ）アクリルとは、アクリル及びメタクリルの各々を表し、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル及びメタクリロイルの各々を表す。
また、本明細書において「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではなく、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。

Ａ．液晶組成物
本開示の第１態様の液晶組成物は、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物と、光重合開始剤とを含有し、
前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物である。

（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは親水性部を表し、Ｙは疎水性部を表す。
親水性部を表すＸは、
－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－（ｎは２以上１７以下）、
水酸基が置換された炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－からなる群から選ばれる少なくとも１種の連結基との組み合わせ、又は、
－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－（ｎ’は１以上１７以下）と水酸基が置換されていてもよい炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と前記連結基との組み合わせであり、
Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す。
疎水性部を表すＹは、
炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基、
炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基、
炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基と炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基との組み合わせ、又は、
炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種と－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－（ｍは１以上５以下）との組み合わせである。）

本開示の第２態様の液晶組成物は、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物と、光重合開始剤とを含有し、
前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物である。

（一般式（Ｉ’）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ’は親水性部を表し、Ｙ’は疎水性部を表す。親水性部を表すＸ’は、デイビス法による原子団固有の基数が０．５以上５．７以下の２価の基であり、疎水性部を表すＹ’は、デイビス法による原子団固有の基数が－１０．５以上－３．０以下の１価の基である。）

本開示の液晶組成物は、前記側鎖型液晶ポリマーを含むことにより、垂直配向性に優れ、耐熱性が向上した位相差層を形成することができる。当該液晶組成物がこのような効果を発揮する作用については、未解明な部分もあるが以下のように推測される。
ポジティブＣ型の位相差フィルム（ポジティブＣプレート）は、液晶組成物の塗膜を基材乃至配向膜上に形成して適宜加熱し、液晶組成物中の液晶性成分を基材乃至配向膜に対して垂直に配向させることにより得ることができる。
本開示の液晶組成物は、液晶性成分として、側鎖型液晶ポリマーと重合性液晶化合物とを含み、前記側鎖型液晶ポリマーは、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位の他に、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位を有している。前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位は、側鎖において、主鎖から－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－基を介して親水性部と疎水性部とをこの順に有する。一方で、位相差層を形成する際に用いられる基材乃至配向膜は、一般的に、その表面に極性基を有する。そのため、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位が有する親水性部と基材乃至配向膜との親和性は高く、疎水性部と基材乃至配向膜との親和性は低い。よって、本開示の液晶組成物を基材乃至配向膜上に塗布して塗膜を形成した場合、主鎖に近い前記親水性部が基材乃至配向膜に近づき、前記疎水性部は基材乃至配向膜から離れる傾向があるため、塗膜中の前記側鎖型液晶ポリマーにおいては、親水性部が基材乃至配向膜に付着するか又はその付近に偏在し、それに伴い、主鎖も基材乃至配向膜に付着するか又はその付近に偏在しやすく、疎水性部は、基材乃至配向膜に付着せず、基材乃至配向膜に対して垂直に配向されやすいと推定される。これにより、液晶組成物の塗膜を適宜加熱して液晶性構成単位の側鎖を基材乃至配向膜に対して垂直に配向させる際に、上述したように垂直に配向された前記疎水性部が、液晶性構成単位の側鎖の垂直配向を誘導して垂直配向性を向上し、更に、垂直配向を維持しやすくすると考えられる。また、本開示の液晶組成物を用いて形成された位相差層は、このように液晶性成分の垂直配向が維持されやすいため、加熱後も液晶性成分が垂直配向を維持しやすく、加熱による位相差の変動が生じ難く、耐熱性に優れる。
また、従来の液晶組成物では、十分な配向性を有するために、液晶性成分として液晶ポリマーを多量に含有する必要があった。一方で、液晶ポリマーの含有割合を多くすると、相対的に重合性液晶化合物の含有割合が少なくなるため、位相差層の架橋密度が小さくなり、位相差層は耐熱性等の耐久性に劣り、例えば加熱による位相差の変動が生じやすくなる。それに対し、本開示の液晶組成物は、液晶ポリマーとして用いられる前記側鎖型液晶ポリマーが垂直配向性に優れるため、液晶ポリマーの含有量が少量でも、垂直配向性及び耐熱性に優れた位相差層を形成することができる。本開示の液晶組成物では、液晶ポリマーの含有量を少量とすることができるため、重合性液晶化合物の含有割合を多くすることができ、それにより位相差層の耐熱性等を更に向上することができる。また、本開示の液晶組成物を用いて形成した位相差層は、重合性液晶化合物の含有割合が小さい場合であっても、前記側鎖型液晶ポリマーを含有することにより、垂直配向性に優れ、十分な耐熱性等の耐久性を有し、加熱による位相差変動が生じにくい。

本開示における液晶組成物は、少なくとも、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物と、光重合開始剤とを含有し、効果を損なわない範囲で更に他の成分を含有してもよいものである。以下、液晶組成物を構成する各成分について順に説明する。なお、側鎖型液晶ポリマーについては、第１態様と第２態様とで分けて説明するが、側鎖型液晶ポリマー以外の各成分は、第１態様と第２態様とで共通する。

＜側鎖型液晶ポリマー＞
本開示の第１態様の液晶組成物は、側鎖型液晶ポリマーが、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有し、垂直配向性を示し得るものである。

（１）一般式（Ｉ）で表される構成単位
前記一般式（Ｉ）において親水性部を表すＸは、
（ｘ１）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－（ｎは２以上１７以下）、
（ｘ２）水酸基が置換された炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－からなる群から選ばれる少なくとも１種の連結基との組み合わせ、又は、
（ｘ３）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－（ｎ’は１以上１７以下）と水酸基が置換されていてもよい炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と前記連結基との組み合わせであり、
Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す。
前記一般式（Ｉ）における親水性部Ｘとしては、中でも、垂直配向性及び耐熱性の点から、前記（ｘ１）又は前記（ｘ３）が好ましい。
また、垂直配向性及び耐熱性をより向上する点から、親水性部Ｘにおける前記連結基は、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
また、親水性部Ｘにおける合計炭素数は、垂直配向性及び耐熱性をより向上する点から３以上３４以下であることが好ましく、４以上１６以下であることがより好ましい。

親水性部Ｘにおける前記（ｘ１）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－におけるｎは、２以上１７以下の整数であり、好ましくは３以上１７以下であり、より好ましくは４以上１６以下である。

親水性部Ｘにおける前記（ｘ２）水酸基が置換された炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－からなる群から選ばれる少なくとも１種の連結基との組み合わせにおいて、前記連結基は、当該飽和脂肪族炭化水素基の末端に含まれていてもよいし、鎖中に含まれていてもよいが、末端に含まれていることが好ましい。
また、前記（ｘ２）において、含有する前記連結基の個数は、３個以下であることが好ましく、２個以下であることがより好ましく、１個であることがより更に好ましい。
前記（ｘ２）において、前記水酸基が置換された飽和脂肪族炭化水素基が有する水酸基の個数は、１個又は２個であることが好ましく、１個であることがより好ましい。
前記（ｘ２）において、前記水酸基が置換された飽和脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよいが、直鎖状であることが好ましい。当該飽和脂肪族炭化水素基としては、中でも炭素数２以上５以下のものが好ましい。
親水性部Ｘにおける前記（ｘ２）の好ましい具体例としては、例えば、下記一般式（Ｘ－１）で表される２価の基が挙げられる。

（一般式（Ｘ－１）中、ａ及びｂはそれぞれ独立に１以上３以下の整数を表し、ａ＋ｂは２以上４以下であり、Ｌ^１は－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－を表す。）

親水性部Ｘにおける前記（ｘ３）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－と水酸基が置換されていてもよい炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と前記連結基との組み合わせにおいて、ｎ’は、１以上１７以下の整数であり、好ましくは２以上８以下であり、より好ましくは２以上４以下である。
前記（ｘ３）において、前記水酸基が置換されていてもよい飽和脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよいが、直鎖状であることが好ましい。当該飽和脂肪族炭化水素基としては、中でも炭素数２以上５以下のものが好ましい。
前記（ｘ３）において、前記飽和脂肪族炭化水素基に水酸基が置換されている場合、置換されている水酸基の個数は、１個又は２個であることが好ましく、１個であることがより好ましい。
前記（ｘ３）において、水酸基が置換されていてもよい炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と前記連結基との組み合わせとしては、当該飽和脂肪族炭化水素基の末端に前記連結基を含むことが好ましい。前記連結基は、２個以上含まれていても良く、更に、飽和脂肪族炭化水素基の間に前記連結基が含まれていても良い。
前記（ｘ３）における、－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－と、前記連結基を含む前記水酸基が置換されていてもよい飽和脂肪族炭化水素基との組み合わせとしては、－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－が１個以上と、前記連結基を含む前記水酸基が置換されていてもよい飽和脂肪族炭化水素基１個以上とを有するものであればよく、中でも、－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－が１個と、前記連結基を含む前記水酸基が置換されていてもよい飽和脂肪族炭化水素基１個との組み合わせが好ましい。
親水性部Ｘにおける前記（ｘ３）の好ましい具体例としては、例えば、下記一般式（Ｘ－２）で表される２価の基が挙げられる。

（一般式（Ｘ－２）中、ｎ”は１以上４以下の整数を表し、Ｌ^１’は－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－を表し、Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す。ｃ、ｄ及びｅはそれぞれ独立に、０以上５以下の整数を表し、０のときは直接結合を表す。ｃ＋ｄ＋ｅは１以上５以下である。）

また、前記親水性部Ｘは、炭素原子数と、酸素原子数及び窒素原子数の合計数との比｛（炭素原子数）／（酸素原子数及び窒素原子数の合計数）｝が１．３以上２．６以下であることが、垂直配向性及び耐熱性の点から好ましく、１．８以上２．４以下であることがより好ましい。

前記一般式（Ｉ）において疎水性部を表すＹは、
（ｙ１）炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基、
（ｙ２）炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基、
（ｙ３）炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基と炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基との組み合わせ、又は、
（ｙ４）炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種と－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－（ｍは１以上５以下）との組み合わせである。
なお、前記一般式（Ｉ）における－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－は、－（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｍ１－、－（Ｃ（ＣＨ_３）ＨＣＨ_２Ｏ）_ｍ２－、－（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）ＨＯ）_ｍ３－又はこれらの組み合わせを示す。ｍ１、ｍ２、ｍ３はそれぞれ繰り返し単位数を表す。前記一般式（Ｉ）における－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－としては、中でも、－（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｍ１－を含むことが好ましい。
前記一般式（Ｉ）における疎水性部Ｙとしては、中でも、垂直配向性及び耐熱性の点から、前記（ｙ１）、前記（ｙ２）又は前記（ｙ３）であることが好ましく、前記（ｙ１）又は前記（ｙ３）であることがより好ましい。また、前記一般式（Ｉ）におけるＹとしては、芳香族炭化水素基を含むことが、液晶性成分が配向する温度域が広がるため、温度管理が容易になり、プロセスマージンが広がる点から好ましい。

疎水性部Ｙにおける前記（ｙ１）の脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基及び不飽和脂肪族炭化水素基のいずれであってもよく、また、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。前記（ｙ１）の脂肪族炭化水素基としては、中でも、飽和脂肪族炭化水素基が好ましく、更に、直鎖状飽和脂肪族炭化水素基を含むことが好ましく、炭素数９以上の直鎖状飽和脂肪族炭化水素基を含むことがより好ましい。また、前記（ｙ１）の脂肪族炭化水素基の炭素数は、垂直配向性の点から、１５以下であることが好ましい。

疎水性部Ｙにおける前記（ｙ２）としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。

疎水性部Ｙにおける前記（ｙ３）としては、例えば、前記（ｙ２）の芳香族炭化水素基に、前記脂肪族炭化水素基が置換されたもの、前記（ｙ２）の芳香族炭化水素基を２個以上有し、当該芳香族炭化水素基間を前記脂肪族炭化水素基で連結されたもの、及びこれらの組み合わせ等が挙げられ、前記脂肪族炭化水素基は、疎水部Ｙ全体で炭素数１以上２２以下であることが好ましい。中でも、フェニル基のパラ位に前記脂肪族炭化水素基が置換されたものが好ましい。
なお、前記（ｙ３）における脂肪族炭化水素基としては、前記（ｙ１）における脂肪族炭化水素基として好ましいものを、同様に好ましく用いることができる。

疎水性部Ｙにおける前記（ｙ４）は、炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基を１個以上と、－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－（ｍは１以上５以下の整数）を１個以上組み合わせた１価の基であり、中でも、炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種を、前記親水性部Ｘとは反対側の末端に有することが好ましい。
また、前記（ｙ４）は、全炭素数が９以上４０以下であることが好ましく、１２以上４０以下であることがより好ましい。
前記（ｙ４）における脂肪族炭化水素基としては、前記（ｙ１）における脂肪族炭化水素基として好ましいものを、同様に好ましく用いることができる。
前記（ｙ４）における芳香族炭化水素基としては、例えば、疎水性部Ｙの前記（ｙ２）と同様のものが挙げられる。
疎水性部Ｙにおける前記（ｙ４）の好ましい具体例としては、例えば、下記一般式（Ｙ－１）で表される１価の基が挙げられる。

（一般式（Ｙ－１）中、ｍ１は１以上５以下の整数を表し、ｆは３以上２１以下の整数を表す。）

なお、本開示の実施形態において、前記側鎖型液晶ポリマーが含む前記一般式（Ｉ）で表される構成単位としては、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

（２）液晶性構成単位
本開示の第１態様において、液晶性構成単位は、液晶性部分、すなわち液晶性を示す部分を含む側鎖を有する。液晶性構成単位は、側鎖に液晶性を示すメソゲンを含む構成単位であることが好ましい。液晶性構成単位は、メソゲン基にスペーサーを介して重合性基が結合した液晶性を示す化合物から誘導される構成単位であることが好ましい。本開示においてメソゲンとは、液晶性を示すような剛直性の高い部位をいい、例えば、２個以上の環構造、好ましくは３個以上の環構造を有し、環構造同士が直接結合により連結しているか、又は、当該環構造が１原子乃至３原子を介して連結している部分構造が挙げられる。側鎖にこのような液晶性を示す部位を有することにより、当該液晶性を示す構成単位が垂直配向しやすくなる。
前記環構造としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン等の芳香環であってもよく、シクロペンチル、シクロヘキシル等の環状の脂肪族炭化水素であってもよい。
また、当該環構造が連結部を介して連結している場合、当該連結部の構造としては、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ－、－Ｏ－ＮＲ－、若しくは－ＮＲ－Ｏ－（Ｒは水素原子又は炭化水素基）等が挙げられる。
中でも、メソゲンとしては、前記環構造の連結が棒状になるように、ベンゼンであればパラ位、ナフタレンであれば２，６位で接続された、棒状メソゲンであることが好ましい。

また、液晶性構成単位が側鎖に液晶性を示すメソゲンを含む構成単位である場合、垂直配向性の点から、当該構成単位の側鎖の末端が極性基又はアルキル基であることが好ましい。このような極性基の具体例としては、－Ｆ、－Ｃｌ、－ＣＮ、－ＯＣＦ_３、－ＯＣＦ_２Ｈ、－ＮＣＯ、－ＮＣＳ、－ＮＯ_２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｒ’、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ’、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＨＯ、－ＳＯ_３Ｈ、－ＮＲ’_２、又は－ＯＲ^”（Ｒ’は水素原子又は炭化水素基、Ｒ^”はアルキル基）等が挙げられる。
本開示の実施形態において液晶性構成単位は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

液晶性構成単位は、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位を誘導する単量体と重合可能なエチレン性二重結合含有基を有する単量体から誘導される構成単位であることが好ましい。このようなエチレン性二重結合含有基を有する単量体としては、例えば（メタ）アクリル酸エステル、スチレン、（メタ）アクリルアミド、マレイミド、ビニルエーテル、又はビニルエステル等の誘導体が挙げられる。液晶性構成単位は、中でも、（メタ）アクリル酸エステル誘導体から誘導される構成単位であることが、垂直配向性の点から、好ましい。

本開示の実施形態において液晶性構成単位は、垂直配向性の点から、中でも、下記一般式（ＩＩ）で表される構成単位を含むことが好ましい。

（一般式（ＩＩ）中、Ｒ^１１は、水素原子又はメチル基を、Ｒ^１２は、－（ＣＨ_２）_ｏ－、又は－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｏ’－で表される基を表す。Ｌ^２は、直接結合、又は、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、若しくは－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－で表される連結基を、Ａｒ^２は、置換基を有していてもよい炭素数６以上１０以下のアリーレン基を表し、複数あるＬ^２及びＡｒ^２はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。Ｒ^１３は、－Ｆ、－Ｃｌ、－ＣＮ、－ＯＣＦ_３、－ＯＣＦ_２Ｈ、－ＮＣＯ、－ＮＣＳ、－ＮＯ_２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｒ^１４、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ^１４、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＨＯ、－ＳＯ_３Ｈ、－ＮＲ^１４ _２、－Ｒ^１５、又は－ＯＲ^１５を、Ｒ^１４は、水素原子又は炭素数１以上６以下のアルキル基を表し、Ｒ^１５は、炭素数１以上６以下のアルキル基を表す。ｇは２以上４以下の整数、ｏ及びｏ’はそれぞれ独立に２以上１０以下の整数である。）

Ｒ^１２のｏ及びｏ’は、それぞれ独立に２以上１０以下の整数である。垂直配向性の点から、中でも、ｏ及びｏ’が２以上８以下であることが好ましく、更に２以上６以下であることが好ましい。

Ａｒ^２における、置換基を有していてもよい炭素数６以上１０以下のアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基等が挙げられ、中でもフェニレン基がより好ましい。当該アリーレン基が有してもよいＲ^１３以外の置換基としては、炭素数１以上５以下のアルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子等が挙げられる。

Ｒ^１３における、Ｒ^１４は、水素原子又は炭素数１以上６以下のアルキル基であるが、中でも、水素原子又は炭素数１以上３以下のアルキル基であることが好ましい。また、Ｒ^１３における、Ｒ^１５は、炭素数１以上６以下のアルキル基であるが、中でも、炭素数１以上５以下のアルキル基であることが好ましい。

一般式（ＩＩ）で表される液晶性構成単位の好適な具体例としては、例えば、下記化学式（ＩＩ－１）、（ＩＩ－２）及び（ＩＩ－３）で表されるもの等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

本開示の実施形態において、側鎖型液晶ポリマーは、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位からなるブロック部と、前記液晶性構成単位からなるブロック部を有するブロック共重合体であってもよく、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位と前記液晶性構成単位とが不規則に並ぶランダム共重合体であってもよい。本実施形態においては、重合性液晶化合物の垂直配向性や位相差値の面内均一性の向上、また、位相差層を割れにくくする点から、ランダム共重合体であることが好ましい。

側鎖型液晶ポリマー中の前記一般式（Ｉ）で表される構成単位の割合は、特に限定されないが、垂直配向性と耐熱性の点から、全構成単位１００モル％中、２０モル％以上８０モル％以下であることが好ましい。中でも、耐熱性を向上する点から、２５モル％以上であることが好ましく、３０モル％以上であることがより好ましく、３５モル％以上であることがより更に好ましい。一方で、前記液晶性構成単位を十分に含有させる点及び重合時の精製が容易な点から、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位の割合は、中でも、６０モル％以下であることが好ましく、５０モル％以下であることがより好ましく、４５モル％以下であることがより更に好ましい。
また、前記側鎖型液晶ポリマーにおいて、全構成単位１００モル％中の前記液晶性構成単位の割合は、垂直配向性と耐熱性の点から、８０モル％以下であることが好ましく、７５モル％以下であることがより好ましく、７０モル％以下であることがより更に好ましく、６５モル％以下であることが特に好ましく、一方で、２０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましく、５０モル％以上であることがより更に好ましく、５５モル％以上であることが特に好ましい。
なお、共重合体における各構成単位の含有割合は、^１Ｈ－ＮＭＲ測定による積分値から算出することができる。

（３）他の構成単位
本開示の実施形態において前記側鎖型液晶ポリマーは、本実施形態の効果を損なわない範囲で、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位および前記液晶性構成単位の他に、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位および前記液晶性構成単位のいずれにも該当しない構成単位を有していてもよい。前記側鎖型液晶ポリマーに他の構成単位が含まれることにより、例えば溶剤溶解性、耐熱性、反応性等を高めることができる。
これらの他の構成単位は、１種であってもよく２種以上であってもよい。当該他の構成単位の含有割合は、前記側鎖型液晶ポリマーの全構成単位１００モル％中、０モル％以上３０モル％以下の範囲内であることが好ましく、０モル％以上２０モル％以下の範囲内であることがより好ましい。当該他の構成単位の含有割合が前記上限値を超えると、相対的に液晶性構成単位および前記一般式（Ｉ）で表される構成単位の含有割合が少なくなり、本願の前記効果を得るのが困難になる場合がある。

本開示の実施形態において、側鎖型液晶ポリマーの質量平均分子量Ｍｗは特に限定されないが、５００以上６００００以下の範囲内であることが好ましく、３０００以上５００００以下の範囲内であることがより好ましく、５０００以上４００００以下の範囲内であることがさらに好ましい。前記範囲内であることにより、液晶組成物の安定性に優れ、位相差層形成時の取り扱い性に優れている。

なお、前記質量平均分子量Ｍｗは、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）により測定された値である。測定は、東ソー（株）製のＨＬＣ－８１２０ＧＰＣを用い、溶出溶剤をテトラヒドロフランとし、校正曲線用ポリスチレンスタンダードをＭｗ１１１００００、３９７０００、９８９００、１３７００、５４３０、１０１０及びＭｗ７０７０００、１８９０００、３７２００、９４９０、２５００（東ソー（株）製）とし、測定カラムをＴＳＫ－ＧＥＬ ＡＬＰＨＡ－Ｍ×２本（東ソー（株）製）として行われたものである。

前記側鎖型液晶ポリマーは１種単独を用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。本実施形態において、位相差層の垂直配向性及び耐熱性の点から、前記側鎖型液晶ポリマーの含有割合は、液晶組成物の固形分１００質量部に対して１質量部以上であることが好ましく、３質量部以上であることがより好ましく、５質量部以上であることがより更に好ましく、一方で、重合性液晶化合物を十分に含有させて耐熱性等の耐久性を向上し得る点から、３０質量部以下であることが好ましく、２５質量部以下であることがより好ましい。
なお、本開示において固形分とは溶剤を除く全ての成分をいい、例えば、後述する重合性液晶化合物が液状であっても固形分に含まれるものとする。

また、本実施形態においては、垂直配向性及び耐熱性を向上する点から、前記側鎖型液晶ポリマーと後述する重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることがより更に好ましく、一方で、重合性液晶化合物を十分に含有させて耐熱性等の耐久性を向上し得る点から、３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることがより更に好ましい。

（４）側鎖型液晶ポリマーの製造
本実施形態において、前記側鎖型液晶ポリマーの製造方法は特に限定されず、例えば、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位を誘導するモノマーと、前記液晶性構成単位を誘導するモノマーとを所望の比率で混合し、公知の重合手段により所望の平均分子量となるように重合すればよい。
また、ブロック共重合体とする場合には、例えば、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位を誘導するモノマーと、前記液晶性構成単位を誘導するモノマーをそれぞれ公知の重合手段により重合した後、得られた各重合体を連結してもよく、また、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位を誘導するモノマー又は前記液晶性構成単位を誘導するモノマーのうち一方を公知の重合手段により重合した後、他方のモノマーを加えて更に重合する方法などが挙げられる。
前記重合手段としては、ビニル基を有する化合物の重合に一般的に用いられる方法を採用することができ、例えば、アニオン重合やリビングラジカル重合などを用いることができる。本実施形態においては、中でも、「Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．」１０５、５７０６（１９８３）に開示されているグループトランスファー重合（ＧＴＰ）のようにリビング的に重合が進行する方法を用いることが好ましい。この方法によると、分子量、分子量分布などを所望の範囲とすることが容易であるので、得られる側鎖型液晶ポリマーの特性を均一にすることができる。

本開示において側鎖型液晶ポリマーの構造は、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）と、熱分解型ガスクロマトグラフ質量分析法（Ｐｙ－ＧＣ－ＭＳ）、及びマトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析法（ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦＭＳ）のうちの少なくとも一方と、を組み合わせて解析することができる。

本開示の第２態様の液晶組成物は、側鎖型液晶ポリマーが、前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、前記液晶性構成単位とを有し、垂直配向性を示し得るものである。なお、前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位は、側鎖に液晶性部分を含まない構成単位である。ここで、液晶性部分とは前述した通りであり、典型的にはメソゲンのことをいう。
前記一般式（Ｉ’）において、親水性部を表すＸ’は、デイビス法による原子団固有の基数が０．５以上５．７以下の２価の基であり、疎水性部を表すＹ’は、デイビス法による原子団固有の基数が－１０．５以上－３．０以下の１価の基である。前記親水性部Ｘ’の前記基数は、好ましくは０．６以上５．３以下であり、より好ましくは０．６５以上３．０以下であり、前記疎水性部Ｙ’の前記基数は、好ましくは－９．０以上－３．４以下であり、より好ましくは－８．０以上－４．０以下である。
ここで、デイビス法による原子団固有の基数は、藤本武彦著、「界面活性剤入門」、三洋化成工業株式会社、２００７年、第２部第６章（界面活性剤の化学構造と物理的性質との関連について）や、Ｊ．Ｔ．Ｄａｖｉｅｓ ａｎｄ Ｅ．Ｋ．Ｒｉｄｅａｌ，”Ｉｎｔｅｒｆａｃｉａｌ Ｐｈｅｎｏｍｅｎａ”，Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９６３，Ｐ．３７１－３８３に記載されている。具体的には、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）－の基数が０．３３、－（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）－の基数が－０．１２５、－（ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２Ｏ）－の基数が－０．１５、－（ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）－の基数が－０．１５、－ＯＨの基数が１．９、－Ｏ－の基数が１．３、－ＣＨ_２－の基数が－０．４７５、ＣＨ_３－の基数が－０．４７５、＝ＣＨ－の基数が－０．４７５、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－の基数が２．４である。
デイビス法による原子団固有の基数が０．５以上５．７以下の２価の基としては、例えば、前記一般式（Ｉ）における親水性部Ｘと同様のものが挙げられ、デイビス法による原子団固有の基数が－１０．５以上－３．０以下の１価の基としては、例えば、前記一般式（Ｉ）における疎水性部Ｙと同様のものが挙げられる。

本開示の第２態様の液晶組成物において、前記側鎖型液晶ポリマーの液晶性構成単位、他の構成単位、及び質量平均分子量Ｍｗは、前記第１態様と同様とすることができる。
本開示の第２態様で用いられる側鎖型液晶ポリマーの液晶性構成単位の含有割合と、前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位の含有割合と、他の構成単位の含有割合は、それぞれ前記第１態様で用いられる側鎖型液晶ポリマーの液晶性構成単位の含有割合と、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位の含有割合と、他の構成単位の含有割合と同様とすることができる。
また、本開示の第２態様における液晶組成物の固形分中の側鎖型液晶ポリマーの含有割合は、前記第１態様と同様とすることができる。
また、第２態様に用いられる側鎖型液晶ポリマーは、前記第１態様と同様の方法により製造することができる。

＜重合性液晶化合物＞
本開示の実施形態において重合性液晶化合物は、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。本実施形態においては、前記側鎖型液晶ポリマーとの組み合わせにおいて垂直配向性や位相差層の耐久性の観点からメソゲンの少なくとも一方の末端に重合性基を有する重合性液晶化合物であることが好ましく、メソゲンの両末端に重合性基を有する重合性液晶化合物であることがより好ましい。
重合性液晶化合物が有するメソゲンは、前記側鎖型液晶ポリマーにおける液晶性構成単位が有するメソゲンと同様のものとすることができる。
重合性液晶化合物が有する重合性基としては、例えば、オキシラン環、オキセタン環等の環状エーテル含有基、エチレン性二重結合含有基等が挙げられるが、中でも光硬化性を示し、取り扱い性に優れる点から、エチレン性二重結合含有基であることが好ましい。エチレン性二重結合含有基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基であることが好ましい。

本実施形態において、重合性液晶化合物は、垂直配向性の点から、中でも、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、及び下記一般式（ＩＶ）で表される化合物より選択される１種以上の化合物が好ましい。

（一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^２１は、水素原子又はメチル基を、Ｒ^２２は、－（ＣＨ_２）_ｐ－、又は－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｐ’－で表される基を表す。Ｌ^３は、直接結合、又は、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、若しくは－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－で表される連結基を、Ａｒ^３は、置換基を有していてもよい炭素数６以上１０以下のアリーレン基を表し、複数あるＬ^３及びＡｒ^３はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。Ｒ^２３は、－Ｆ、－Ｃｌ、－ＣＮ、－ＯＣＦ_３、－ＯＣＦ_２Ｈ、－ＮＣＯ、－ＮＣＳ、－ＮＯ_２、－ＮＨＣ（＝Ｏ）－Ｒ^２４、－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＲ^２４、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＨＯ、－ＳＯ_３Ｈ、－ＮＲ^１４ _２、－Ｒ^２５、又は－ＯＲ^２５を、Ｒ^１４は、水素原子又は炭素数１以上６以下のアルキル基を表し、Ｒ^２５は、炭素数１以上６以下のアルキル基を表す。ｈは２以上４以下の整数、ｐ及びｐ’はそれぞれ独立に２以上１０以下の整数である。）

（一般式（ＩＶ）中、Ｒ^３１及びＲ^３２は各々独立に、水素原子又はメチル基を、Ｒ^３３は、－（ＣＨ_２）_ｑ－、又は－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｑ’－で表される基を、Ｒ^３４は、－（ＣＨ_２）_ｒ－、又は－（ＯＣ_２Ｈ_４）_ｒ’－で表される基を表す。Ｌ^４は、直接結合、又は、－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、若しくは－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－で表される連結基を、Ａｒ^４は、置換基を有していてもよい炭素数６以上１０以下のアリーレン基を表し、複数あるＬ^４及びＡｒ^４はそれぞれ同一であっても異なっていても良い。ｉは２以上４以下の整数、ｑ、ｑ’、ｒ及びｒ’はそれぞれ独立に２以上１０以下の整数である。）

前記一般式（ＩＩＩ）におけるｐ、ｐ’、前記一般式（ＩＶ）におけるｑ、ｑ’、ｒ及びｒ’は垂直配向性の点から、２以上８以下であることが好ましく、２以上６以下であることがより好ましく、２以上５以下であることがより更に好ましい。
Ｌ^３及びＬ^４は前記一般式（ＩＩ）におけるＬ^２と同様のものとすることができる。
また、Ａｒ^３及びＡｒ^４は前記一般式（ＩＩ）におけるＡｒ^２と同様のものとすることができる。

重合性液晶化合物に含まれるメソゲン構造としては、下記化学式（Ｖ－１）～（Ｖ－４）で表される部分構造が、好ましく用いられ、中でも、環構造を３つ以上含む下記化学式（Ｖ－１）、（Ｖ－２）及び（Ｖ－４）よりなる群から選択される少なくとも１種で表される部分構造が、好ましく用いられる。下記化学式（Ｖ－１）～（Ｖ－４）で表される部分構造におけるフェニレン基やナフチレン基における水素原子は、炭素数１以上３以下のアルキル基や、ハロゲン原子によって置換されていても良い。

前記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物、及び前記一般式（ＩＶ）で表される化合物の好適な具体例としては、下記化学式（１）～（１７）に示されるものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

本実施形態において重合性液晶化合物は、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
本実施形態において重合性液晶化合物の含有割合は、位相差層の耐熱性等の耐久性が向上する点から、液晶組成物の固形分１００質量部に対して、２０質量部以上であることが好ましく、３０質量部以上であることがより好ましく、４０質量部以上であることがより更に好ましい。本開示の液晶組成物においては、前記側鎖型液晶ポリマーの含有量を少量とすることができるため、前記重合性液晶化合物の含有割合を、７０質量部以上とすることができ、より好ましい実施形態においては、７５質量部以上とすることができる。一方で、前記重合性液晶化合物の含有割合は、前記側鎖型液晶ポリマーを十分に含有させ、垂直配向性及び耐熱性を向上する点から、９９質量部以下であることが好ましく、９７質量部以下であることがより好ましく、９５質量部以下であることがより更に好ましい。

＜光重合開始剤＞
本実施形態において光重合開始剤は、従来公知の物の中から適宜選択して用いることができる。このような光重合開始剤の具体例としては、例えば、チオキサントン等を含む芳香族ケトン類、α－アミノアルキルフェノン類、α－ヒドロキシケトン類、アシルフォスフィンオキサイド類、オキシムエステル類、芳香族オニウム塩類、有機過酸化物、チオ化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物等が好適に挙げられ、中でも、アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン系重合開始剤、α－ヒドロキシケトン系重合開始剤、及びオキシムエステル系重合開始剤よりなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。

アシルフォスフィンオキサイド系重合開始剤としては、例えばビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニル－フォスフィンオキサイド（例えば、商品名：イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ社製）、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド（商品名：Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ：ＢＡＳＦ社製等）等が挙げられる。

また、α－アミノアルキルフェノン系重合開始剤としては、例えば、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（例えばイルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）、２－ベンジル－２－（ジメチルアミノ）－１－（４－モルフォリノフェニル）－１－ブタノン（例えばイルガキュア３６９、ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノン（イルガキュア３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。

また、α－ヒドロキシケトン系重合開始剤としては、例えば、２－ヒドロキシ－１－｛４－〔４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル〕－フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン（例えば、商品名：イルガキュア１２７、ＢＡＳＦ社製等）、２－ヒドロキシ－４’－ヒドロキシエトキシ－２－メチルプロピオフェノン（例えば、商品名：イルガキュア２９５９、ＢＡＳＦ社製等）、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（例えば、商品名：イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ社製等）、オリゴ｛２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノン｝（例えば、商品名：ＥＳＡＣＵＲＥ ＯＮＥ、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製等）等が挙げられる。

オキシムエステル系重合開始剤としては、１．２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］（商品名：イルガキュアＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ製）、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（ｏ－アセチルオキシム）（商品名：イルガキュアＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ製）、メタノン，エタノン，１－［９－エチル－６－（１，３－ジオキソラン，４－（２－メトキシフェノキシ）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（ｏ－アセチルオキシム）（商品名ＡＤＥＫＡ ＯＰＴ－Ｎ－１９１９、ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。

本実施形態において光重合開始剤は、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
本実施形態において光重合開始剤の含有割合は、前記重合性液晶化合物の硬化を促進する点から、液晶組成物の固形分１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましく、１質量部以上８質量部以下であることがより好ましい。

＜その他の成分＞
本実施形態の液晶組成物は、効果を損なわない範囲で更に他の成分を含有してもよい。具体的には、他の成分として、レベリング剤、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定化剤や、塗工性の観点から溶剤等を含有してもよい。これらは従来公知の材料を適宜選択して用いればよい。
レベリング剤としては、フッ素系又はシリコーン系のレベリング剤を用いることが好ましい。レベリング剤の具体例としては、例えば、特開２０１０－１２２３２５号公報に記載のＤＩＣ（株）製のメガファックシリーズ、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製のＴＳＦシリーズ及び（株）ネオス製のフタージェントシリーズ等が挙げられる。本実施形態においてレベリング剤を用いる場合、その含有割合は、液晶組成物の固形分１００質量部に対して０．００１質量部以上５質量部以下とすることが好ましい。

本実施形態の液晶組成物は、塗工性の点から、必要に応じて溶剤を含んでいてもよい。溶剤としては、液晶組成物に含まれる各成分を溶解乃至分散し得る従来公知の溶剤の中から適宜選択すればよい。具体的には、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。本実施形態において溶剤は１種単独で、又は２種以上を組み合わせて混合溶剤として用いることができる。

本実施形態の液晶組成物は、側鎖型液晶ポリマーが垂直配向しやすく、それに伴い、重合性液晶化合物が垂直配向しやすいため、ポジティブＣ型の位相差層の製造に適している。

Ｂ．位相差フィルム
本開示の第１態様の位相差フィルムは、位相差層を有する位相差フィルムであって、
前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物の硬化物を含む、位相差フィルムである。
また、本開示の第２態様の位相差フィルムは、位相差層を有する位相差フィルムであって、
前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物の硬化物を含む、位相差フィルムである。

前記本開示の位相差フィルムは、位相差層が前記液晶組成物の硬化物を含むものであるため、位相差層の垂直配向性に優れ、耐熱性が向上したものである。なお、前記本開示の液晶組成物の硬化物を含む位相差層は、典型的には前記本開示の液晶組成物の硬化物からなり、本開示の効果を損なわない限り、その他の構成を含有していても良い。
位相差フィルムの層構成について図を参照して説明する。図１～図３は、各々本開示の位相差フィルムの１実施形態を示す。図１の例に示される位相差フィルム１０は、基材２上に配向膜３と位相差層１がこの順に積層されている。図２の例に示される位相差フィルム１０’は、位相差層１のみからなる位相差フィルムである。また図３の例に示される位相差フィルム１０”は、基材２’上に直接位相差層１が形成されている。図３の例に示される位相差フィルム１０”には基材２’の位相差層１側表面に配向規制力を発現する手段が付されていてもよい。
なお、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と前記液晶性構成単位とを有する側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有する液晶組成物は、前述のように、前記側鎖型液晶ポリマーが垂直配向しやすく、それに伴い、前記重合性液晶化合物が垂直配向しやすいため、配向膜を用いなくても、垂直配向性を示し得るものである。

１．位相差層
本開示の実施形態の位相差層１は、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有する、液晶組成物の硬化物を含む。
ここで、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、前記液晶性構成単位とを有する側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とは、それぞれ、前記本開示の実施形態の液晶組成物において説明したものと同様であって良いので、ここでの説明は省略する。

位相差層は、前記側鎖型液晶ポリマーが有する液晶性構成単位と、重合性液晶化合物が垂直配向した状態で、硬化しているものであることが好ましい。本開示の実施形態の液晶組成物の硬化物には、前記重合性液晶化合物の重合性基の少なくとも一部が重合した構造が含まれる。このような前記重合性液晶化合物の重合性基の少なくとも一部が重合した構造が含まれることから、本実施形態の位相差層は、耐久性が向上している位相差層である。

なお、位相差層に含まれる液晶性構成単位は、核磁気共鳴法（ＮＭＲ）、赤外分光法（ＩＲ）、ガスクロマトグラム質量分析法（ＧＣ－ＭＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）等、分子構造情報が得られる公知の分析方法より１種以上の方法を用いて確認することができる。
また、重合性液晶化合物が垂直配向していることは、自動複屈折測定装置（例えば、王子計測機器株式会社製、商品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）により位相差を測定することにより確認することができる。

位相差は、自動複屈折測定装置（例えば、王子計測機器株式会社製、商品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）により測定することができる。測定光を位相差層表面に対して垂直あるいは斜めから入射して、その光学位相差と測定光の入射角度のチャートから位相差層の位相差を増加させる異方性を確認することができる。
本開示の実施形態の位相差層は、垂直配向性の点から、測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ未満であることが好ましく、－１００ｎｍ未満であることがより好ましく、－１１０ｎｍ未満であることがより更に好ましい。
なお、位相差層の位相差は、位相差層を粘着層付きガラス板に転写して測定することができる。位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈは、位相差層の面内方向における遅相軸方向（位相差層面内方向における屈折率が最大となる方向）の屈折率をｎｘ、位相差層面内における進相軸方向（位相差層面内方向における屈折率が最小となる方向）の屈折率をｎｙ、及び位相差層の厚み方向の屈折率をｎｚ、位相差層の厚みをｄとしたときに、Ｒｔｈ［ｎｍ］＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ｝×ｄと表すことができる。

また、本開示の実施形態の位相差層は、１００℃で６０分間加熱した後の位相差変動率を１４％以下とすることができ、より好ましい態様においては、１０％以下とすることができる。なお、前記位相差変動率は、下記式により算出することができる。
加熱後の位相差変動率（％）＝｛（加熱前Ｒｔｈ－加熱後Ｒｔｈ）／加熱前Ｒｔｈ｝×１００
前記式において、Ｒｔｈは、測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）を表す。

また、位相差層が前記本開示の実施形態の液晶組成物に含まれる側鎖型液晶ポリマー、及び前記重合性液晶化合物の重合性基の少なくとも一部が重合した構造を含むことは、位相差層から材料を採取し分析することで確認することができる。分析方法としては、ＮＭＲ、ＩＲ、ＧＣ－ＭＳ、ＸＰＳ、ＴＯＦ－ＳＩＭＳおよびこれらの組み合わせた方法を適用することができる。

当該位相差層は、光重合開始剤、レベリング剤、重合禁止剤、酸化防止剤、光安定化剤等のその他の成分を含んでいても良い。光重合開始剤など、前記重合性液晶化合物が有する重合性基を反応させるために光照射した際に、全てが分解する可能性がある成分については、位相差層には含まれていない場合もある。

位相差層の厚みは、用途に応じて適宜設定すればよい。中でも、厚み方向の位相差を所望の値に調整し易い点から、０．１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましく、０．７μｍ以上１．５μｍ以下としても良い。

２．配向膜
本開示の位相差フィルムは、配向膜を有していてもよい。本明細書において配向膜とは、位相差層に含まれる液晶性成分を一定方向に配列させるための層をいう。
本開示の実施形態に用いられる配向膜としては、前記本開示の実施形態の液晶組成物が垂直配向しやすいことから、垂直配向膜を用いることが好ましい。
垂直配向膜は、塗膜として設けることで、位相差層に含まれる液晶性成分のメソゲンの長軸を垂直配向させる機能を有する配向膜である。

垂直配向膜は、垂直方向の配向規制力を備えた配向膜であり、Ｃプレートの作製に供する各種垂直配向膜、ＶＡ液晶表示装置等に適用される各種の垂直配向膜を適用することができ、例えばポリイミド配向膜、ＬＢ膜による配向膜等を適用することができる。具体的に、配向膜の構成材料としては、例えば、レシチン、シラン系界面活性剤、チタネート系界面活性剤、ピリジニウム塩系高分子界面活性剤、ｎ－オクタデシルトリエトキシシラン等のシランカップリング系垂直配向膜用組成物、長鎖アルキル基や脂環式構造を側鎖に有する可溶性ポリイミドや長鎖アルキル基や脂環式構造を側鎖に有するポリアミック酸等のポリイミド系垂直配向膜用組成物を適用することができる。
なお、垂直配向膜用組成物として、ジェイエスアール（株）製のポリイミド系垂直配向膜用組成物「ＪＡＬＳ－２０２１」や「ＪＡＬＳ－２０４」、日産化学工業（株）製の「ＲＮ－１５１７」、「ＳＥ－１２１１」、「ＥＸＰＯＡ－０１８」等の市販品を適用することができる。また、特開２０１５－１９１１４３号公報に記載の垂直配向膜であっても良い。

配向膜の形成方法は特に限定されないが、例えば、後述する基材上に、配向膜用組成物を塗布し、配向規制力を付与することにより配向膜とすることができる。配向膜に配向規制力を付与する手段は、従来公知のものとすることができる。

配向膜の厚さは、位相差層における液晶性成分を一定方向に配列できればよく、適宜設定すればよい。配向膜の厚さは、通常、１ｎｍ以上１０μｍ以下の範囲内であり、６０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲内が好ましい。

３．基材
本開示の位相差フィルムは、支持体として基材を有していてもよい。本実施形態において基材は、ガラス基材、金属箔、樹脂基材等が挙げられる。中でも、基材は透明性を有することが好ましく、従来公知の透明基材の中から適宜選択することができる。透明基材としては、ガラス基材の他、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸等のポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂を用いて形成された透明樹脂基材が挙げられる。

前記透明基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１（プラスチック－透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

また、ロールトゥロール方式で位相差層を形成する場合には、透明基材は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。
このようなフレキシブル材としては、セルロース誘導体、ノルボルネン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン、変性アクリル系ポリマー、ポリスチレン、エポキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエステル類などを例示することができる。なかでも本実施形態においてはセルロース誘導体やポリエチレンテレフタレートを用いることが好ましい。セルロース誘導体は特に光学的等方性に優れるため、光学的特性に優れたものとすることができるからである。また、ポリエチレンテレフタレートは、透明性が高く、機械的特性に優れる点から好ましい。

本実施形態に用いられる基材の厚みは、位相差フィルムの用途等に応じて、必要な自己支持性を付与できる範囲内であれば特に限定されないが、通常、１０μｍ以上２００μｍ以下程度の範囲内である。中でも、基材の厚みは、２５μｍ以上１２５μｍ以下の範囲内が好ましく、中でも３０μｍ以上１００μｍ以下の範囲内が好ましい。厚みが前記の範囲よりも厚いと、例えば、長尺状の位相差フィルムを形成した後、裁断加工し、枚葉の位相差フィルムとする際に、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまう場合があるからである。

本実施形態に用いられる基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
例えば、基材上に垂直配向膜が設けられない場合は、エーテル結合、水酸基、アミノ基、シアノ基、カルボキシ基、カルボニル基、フッ素原子を含む基、硫黄原子を含む基、ラクトン骨格を含む基、アセタール構造を含む基からなる群から選ばれる少なくとも１種の極性基を表面に有する表面調整層を、基材の表面に有することが好ましい。これにより、前記側鎖型液晶ポリマーが有する親水性基と基材表面との親和性を向上し、位相差層の垂直配向性をより向上することができる。
前記表面調整層は、成形性及び機械的強度に優れ、レベリング性と転写性が良好な点から、前記極性基を有する電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含有することが好ましく、前記極性基を有する電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなることがより好ましい。ここで、成形性に優れるとは、所望の形状に精度良く成形できることをいう。
前記電離放射線硬化性樹脂組成物は、中でも、（メタ）アクリロイル基を２つ以上有する多官能（メタ）アクリレートと、エーテル結合を有し、（メタ）アクリロイル基を１つのみ有する単官能（メタ）アクリレートとを含むことが好ましい。
前記多官能（メタ）アクリレートとしては、中でも、（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する多官能（メタ）アクリレートが好ましく、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種の多官能（メタ）アクリレートが好ましい。
エーテル結合を有し、（メタ）アクリロイル基を１つのみ有する単官能（メタ）アクリレートとしては、中でも、２－フェノキシエチル(メタ)アクリレート及びテトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレートから選ばれる少なくともいずれかが好ましい。
また、前記電離放射線硬化性樹脂組成物は、位相差層の垂直配向性を向上する点から、ビニルエーテル基を有するビニルエーテル化合物を含むことが好ましい。
前記電離放射線硬化性樹脂組成物は、更に必要に応じて、重合開始剤、レベリング剤、離型剤、粘度調整剤、密着性向上剤等の各種添加剤を含有していても良い。
前記表面調整層の厚みは、均一な厚みになり易く、前記極性基が均一に存在し易い点から、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。前記表面調整層の厚みの上限は、基材全体としての厚みが厚くなりすぎないように適宜調整され、特に限定はされないが、例えば、１０μｍ以下とすることができ、５μｍ以下であっても良い。

また、基材が複数の層が積層された構成を有する場合や、基材上に紫外線硬化性樹脂を含有する垂直配向膜が設けられる場合、当該基材は、各層間の接着性を向上させるためのプライマー層を有していてもよい。このプライマー層は、隣接する双方の層に接着性を有し、可視光学的に透明であり、紫外線を通過させるものが好ましく、例えば、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体系、ウレタン系のもの等を適宜選択して使用することができる。

また、基材上に垂直配向膜が設けられない場合、基材は表面にアンカーコート層を有していても良い。当該アンカーコート層によって基材の強度を向上させることができ良好な垂直配向性を確保できる。アンカーコート材料としては、金属アルコキシド、特に金属シリコンアルコキシドゾルを用いることができる。金属アルコキシドは、通常アルコール系の溶液として用いられる。アンカーコート層は、均一で、かつ柔軟性のある膜が必要なため、アンカーコート層の厚みは０．０４μｍ以上２μｍ以下程度が好ましく、０．０５μｍ以上０．２μｍ以下程度がより好ましい。
前記基材がアンカーコート層を有する場合には、透明基材とアンカーコート層の間に更にバインダー層を積層したり、アンカーコート層に透明基材との密着性を強化する材料を含有させることにより、透明基材とアンカーコート層の密着性を向上させてもよい。前記バインダー層の形成に用いるバインダー材料は、透明基材とアンカーコート層との密着性を向上できるものを特に制限なく使用することができる。バインダー材料としては、たとえば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤等を例示できる。

４．位相差フィルムの製造方法
本開示の実施形態の位相差フィルムの製造方法は、前記本開示の位相差フィルムを得ることができる方法であれば特に限定はされないが、例えば、
前記本開示の実施形態の液晶組成物を成膜する工程と、
前記成膜された前記液晶組成物中の前記側鎖型液晶ポリマーが有する前記液晶性構成単位と、前記重合性液晶化合物を配向させる工程と、
前記配向させる工程の後に、前記重合性液晶化合物を重合する工程とを有することにより、位相差層を形成する、位相差フィルムの製造方法を挙げることができる。
当該製造方法に用いられる液晶組成物としては、前記「Ａ．液晶組成物」と同様のものを用いることができるので、ここでの説明を省略する。

（１）液晶組成物の成膜工程
前記液晶組成物を成膜する方法としては、例えば、支持体上に、前記液晶組成物を均一に塗布する方法が挙げられる。
前記支持体としては、例えば、前記基材、前記基材上に前記配向膜が積層された積層体、自己支持性を有する前記配向膜等を挙げることができる。ここでの支持体上としては、前記基材上であっても良いし、前記配向膜上であってもよい。

塗布方法は、所望の厚みで精度良く成膜できる方法であればよく、適宜選択すればよい。例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法などが挙げられる。

（２）液晶性成分を配向させる工程
次いで、成膜された液晶組成物を加熱処理し、当該液晶組成物中の側鎖型液晶ポリマーが有する液晶性構成単位と、重合性液晶化合物が垂直配向可能な温度に調整する。当該加熱処理により、側鎖型液晶ポリマーが有する液晶性構成単位と、重合性液晶化合物とを垂直配向させて乾燥することができ、前記配向状態を維持した状態で固定化することができる。
垂直配向可能な温度は、液晶組成物中の各物質に応じて異なるため、適宜調整する必要がある。例えば、４０℃以上２００℃以下の範囲内で行うことが好ましく、更に４０℃以上１２０℃以下の範囲内で行うことが好ましく、更に４０℃以上１００℃以下の範囲内で行うことが好ましい。
加熱手段としては、公知の加熱、乾燥手段を適宜選択して用いることができる。
また、加熱時間は、適宜選択されれば良いが、例えば、１０秒以上２時間以内、好ましくは２０秒以上３０分以内の範囲内で選択される。

（３）重合性液晶化合物を重合する工程
前記配向させる工程によって液晶性成分の配向状態を維持した状態で固定化された塗膜に、例えば光照射することにより、当該塗膜中の重合性液晶化合物を重合することができ、前記液晶組成物の硬化物を含む位相差層を得ることができる。
光照射としては、紫外線照射が好適に用いられる。紫外線照射は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線を使用することができる。エネルギー線源の照射量は、適宜選択されれば良く、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、例えば１０ｍＪ／ｃｍ^２以上１００００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内であることが好ましい。

５．用途
本開示の位相差フィルムは、ポジティブＣ型の位相差層を有する位相差フィルムとして好適に用いられる。本開示の位相差フィルムは、例えば視野角補償フィルムとして好適に用いられ、後述するような各種表示装置用の光学部材に好適に用いられる。具体的には例えば、円偏光板を備える有機発光表示装置等の発光表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いられる。

Ｃ．転写用積層体
本開示の第１態様の転写用積層体は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物の硬化物を含む、
前記位相差層の転写に供する転写用積層体である。
本開示の第２態様の転写用積層体は、位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する、液晶組成物の硬化物を含む、
前記位相差層の転写に供する転写用積層体である。

前記本開示の転写用積層体は、位相差層の転写に供するものであり、位相差層が前記液晶組成物の硬化物を含むため、垂直配向性に優れ、耐熱性が向上した位相差層を、他の任意の光学部材等の被転写体に転写することができる。
本実施形態の転写用積層体によれば、例えば、図２の例に示される位相差層１のみからなる位相差フィルム１０’や、図５の例に示されるような、基材は含まず配向膜２３と位相差層２１とが積層された積層体からなる位相差フィルム等、基材を含まない薄膜の位相差フィルムを被転写体に転写することができる。すなわち、本実施形態の転写用積層体を用いて転写される位相差層には、配向膜等の位相差層及び基材とは異なる薄膜の層が更に積層されていても良い。
以下、このような転写用積層体の構成について説明するが、前記本開示の実施形態の液晶組成物、及び位相差層については前述のとおりであるため、ここでの説明は省略する。

転写用積層体の層構成について図を参照して説明する。図４～６は、各々本開示の転写用積層体の１実施形態を示す。
図４の例に示される転写用積層体２０は、位相差層１１と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体１５として第二の基材１２上に配向膜１３が積層された積層体を備えている。図４の例に示される転写用積層体２０においては、第二の基材１２と配向膜１３との界面の剥離強度が、配向膜１３と位相差層１１との界面の剥離強度よりも大きくなっていることにより、配向膜１３と位相差層１１との界面１７で剥離されやすい。そのため、被転写体上に転写された転写用積層体２０から、第二の基材１２上に配向膜１３が積層された積層体を、剥離可能な支持体１５として剥離することができ、位相差層１１のみを、位相差層を含む転写層１６として転写することができる。
図５の例に示される転写用積層体３０は、位相差層２１と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体２５として第二の基材２２を備え、位相差層２１と第二の基材２２との間に更に配向膜２３を備えている。図５の例に示される転写用積層体３０においては、第二の基材２２と配向膜２３との界面の剥離強度が、配向膜２３と位相差層２１との界面の剥離強度よりも小さくなっていることにより、第二の基材２２と配向膜２３との界面２７で剥離されやすい。そのため、被転写体上に転写された転写用積層体３０から、第二の基材２２を、剥離可能な支持体２５として剥離することができ、位相差層２１と配向膜２３との積層体を、位相差層を含む転写層２６として転写することができる。

第二の基材と配向膜との界面の剥離強度が配向膜と位相差層との界面の剥離強度よりも大きいか小さいかは、位相差層を引き剥がし、いずれの界面で剥離しているかで確認することができる。いずれの界面で剥離しているかは、例えば、ＩＲ等により分析可能である。

また、図６の例に示される転写用積層体４０は、位相差層３１と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体３５として第二の基材３２を備えている。被転写体上に転写された前記転写用積層体４０からは、第二の基材３２を剥離可能な支持体３５として剥離することができ、位相差層３１のみを、位相差層を含む転写層３６として転写することができる。

本開示の転写用積層体が有する剥離可能な支持体としては、例えば、前記「Ｂ．位相差フィルム」で述べた前記基材、前記基材上に前記配向膜が積層された積層体、自己支持性を有する前記配向膜等を挙げることができる。
位相差層を転写する際には、当該位相差層を含む転写層と、前記剥離可能な支持体との界面が剥離する。剥離する界面は、最も剥離強度の小さい界面である。剥離強度を調整する方法としては、例えば下記の方法を挙げることができる。

図４の例に示される転写用積層体２０を得るために、第二の基材１２と配向膜１３との界面の剥離強度を、配向膜１３と位相差層１１との界面の剥離強度よりも大きくするには、例えば、配向膜形成用組成物に含まれる溶剤を、第二の基材を溶解可能なものとする方法を用いることができる。当該第二の基材としては樹脂基材を用いることが好ましく、また、基材表面に接着性が向上するための表面処理を行っても良い。このような場合、樹脂基材と配向膜との密着性を向上させることができる。
また、基材と配向膜との界面の剥離強度が、配向膜と位相差層との界面の剥離強度よりも大きくなるよう、配向膜と位相差層との界面の剥離強度を小さくするために、配向膜の耐溶剤性を比較的高くすることも好ましい。配向膜の耐溶剤性が比較的高い場合には、配向膜上に液晶組成物を塗布して位相差層を形成する際に、液晶組成物中の溶剤に配向膜が溶解しにくくなるため、配向膜と位相差層との密着性を低くすることができる。

一方、図５の例に示される転写用積層体３０を得るために、第二の基材２２と配向膜２３との界面の剥離強度を、配向膜２３と位相差層２１との界面の剥離強度よりも小さくするためには、例えば、基材の表面に離型処理が施されていてもよく、あるいは離型層が形成されていてもよい。これにより、基材の剥離性を高めることができ、基材と配向層との界面の剥離強度を、配向層と位相差層との界面の剥離強度よりも小さくすることができる。
離型処理としては、例えばフッ素処理、シリコーン処理等の表面処理が挙げられる。
離型層の材料としては、例えばフッ素系離型剤、シリコーン系離型剤、ワックス系離型剤等が挙げられる。離型層の形成方法としては、例えば離型剤をディップコート、スプレーコート、ロールコート等の塗布法により塗布する方法が挙げられる。
また、図６の例に示される転写用積層体４０を得るためにも、必要に応じて、基材の表面に離型処理が施されていてもよく、あるいは離型層が形成されていてもよい。

転写用積層体に用いられる支持体は、可撓性を有していてもよく有さなくてもよいが、支持体を剥離しやすいことから、可撓性を有することが好ましい。
転写用積層体に用いられる支持体の厚みは、充分な自己支持強度と、本実施形態の転写用積層体の製造および転写工程に適応出来るだけの可撓性との兼合いから、通常、２０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であることが好ましい。

本開示の転写用積層体から提供できる位相差層は、前記位相差フィルムと同様の用途に好適に用いられ、ポジティブＣ型の位相差層を各種表示装置用の光学部材に転写することができ、薄膜の光学部材を提供するために好適に用いられる。また、本開示の転写用積層体から提供できる位相差層は、円偏光板を備える有機発光表示装置等の発光表示装置の視野角補償フィルムとして好適に用いられる。

Ｄ．光学部材
本開示の光学部材は、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を備える、光学部材である。

本実施形態の光学部材を、図を参照して説明する。図７は、光学部材の１実施形態を示す模式断面図である。
図７の光学部材６０の例では、前記本開示の位相差フィルム１０上に、偏光板５０が配置されている。位相差フィルム１０と偏光板５０との間には、必要に応じて粘着層（接着層）を有していてもよい（図示せず）。

本実施形態において偏光板は、特定方向に振動する光のみを通過させる板状ものであり、従来公知の偏光板の中から適宜選択して用いることができる。例えば、沃素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。
また、本実施形態において粘着層（接着層）用の粘着剤又は接着剤としては、従来公知のものの中から適宜選択すればよく、感圧接着剤（粘着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱溶融型接着剤等、いずれの接着形態のもの好適に用いることができる。

本実施形態の光学部材には、偏光板の他にも、公知の光学部材が備える他の層を更に有していても良い。当該他の層としては、例えば、前記本実施形態の位相差層とは異なる他の位相差層の他、反射防止層、拡散層、防眩層、帯電防止層、保護フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

本実施形態の光学部材は、例えば、外光反射を抑制する光学部材として用いることができる。前記本開示の位相差フィルムと円偏光板とが積層されている本開示の光学部材は、例えば、発光表示装置用の外光反射を抑制するための光学部材として好適に用いられ、また、各種表示装置用の広視野角偏光板として好適に用いることができる。

Ｅ．光学部材の製造方法
本開示の光学部材の製造方法は、特に限定されることなく、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を積層する方法を適宜選択して用いることができる。例えば、前記本開示の位相差フィルム上に、偏光板を、粘着層乃至接着層を介して積層する製造方法等が挙げられる。

また、本開示の１実施形態の光学部材の製造方法としては、
前記本開示の１実施形態の転写用積層体を準備する転写用積層体準備工程と、
少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程とを有する、光学部材の製造方法が挙げられる。

前記転写用積層体を用いた本開示の１実施形態の光学部材の製造方法によれば、偏光板と、前記本開示の１実施形態の位相差フィルムのうち基材が積層されていない前記位相差層を備えた光学部材を得ることができる。
本開示の１実施形態の光学部材の製造方法に用いる転写用積層体は、前記「Ｃ．転写用積層体」で説明したものと同様のものとすることができるので、ここでの説明を省略する。
また、本開示の１実施形態の光学部材の製造方法に用いる被転写体は、典型的には、接着層と偏光板とを有する被転写体が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、前述した本開示の１実施形態における光学部材が有していても良い他の層と同様の層を、更に有していても良い。

Ｆ．表示装置
本開示の表示装置は、前記本開示の位相差フィルム、又は前記本開示の光学部材を備える表示装置である。
表示装置としては、例えば、有機発光表示装置等の発光表示装置、液晶表示装置等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。

中でも、前記本実施形態の位相差フィルム又は前記本実施形態の光学部材を備えるため、特に、透明電極層と、発光層と、電極層とをこの順に有する有機発光表示装置等の発光表示装置において外光反射を抑制しながら、視野角が向上するという効果を有する。

１実施形態である発光表示装置の例を、図を参照して説明する。図８は、有機発光表示装置の１実施形態を示す模式断面図である。
図８の有機発光表示装置１００の例では、前記位相差フィルム１０の出光面側に、偏光板５０が配置され、反対側の面には、透明電極層７１と、発光層７２と、電極層７３とをこの順に有している。
発光層７２としては、例えば、透明電極層７１側から順に正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注Ｆ入層の順に積層する構成等が挙げられる。本実施形態において、透明電極層、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層、電極層、及びその他の構成は、公知のものを適宜用いることができる。このようにして作製された発光表示装置は、例えば、パッシブ駆動方式の有機ＥＬディスプレイにもアクティブ駆動方式の有機ＥＬディスプレイにも適用可能である。
なお、本実施形態の表示装置は、前記構成に限定されるものではなく、適宜選択した公知の構成とすることができる。

（合成例１：液晶モノマー１の合成）
まず下記スキーム１に従い、４－［２－（アクリロイルオキシ）エトキシ］安息香酸を合成した。
４－ヒドロキシ安息香酸エチル（２８ｇ，１７０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２６ｇ，１８７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１Ｌ）懸濁液に２－ブロモエタノール（２０ｇ，１６２ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で８時間撹拌した。反応終了後、反応液を水で希釈し、酢酸エチルで抽出し溶媒を留去した。得られた粗体に、水酸化カリウム（１１ｇ，１８７ｍｍｏｌ）の水溶液を加え、１００℃で４時間反応させ加水分解した。反応終了後、塩酸水溶液を加え、続いて酢酸エチルを加え抽出し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、ｐ－（２－ヒドロキシエトキシ）安息香酸を収率８９％（２６ｇ，１４５ｍｍｏｌ）で得た。
次に、ｐ－（２－ヒドロキシエトキシ）安息香酸（１６ｇ，９０ｍｍｏｌ）、アクリロイルクロリド（７．４ｇ，８２ｍｍｏｌ）、ジメチルアニリン（ＤＭＡ）（９．９ｇ，８２ｍｍｏｌ）、のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（４００ｍＬ）懸濁液を１２時間撹拌した。反応終了後、水、酢酸エチルを加え、分液を行った。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、４－［２－（アクリロイルオキシ）エトキシ］安息香酸を収率９０％（１７．４ｇ，７３．８ｍｍｏｌ）で得た。

次に、下記スキーム２に従って、下記化学式（１）で表される液晶モノマー１を得た。
前記で得られた４－［２－（アクリロイルオキシ）エトキシ］安息香酸（１７ｇ，７０ｍｍｏｌ）、４’－シアノ－４－ヒドロキシビフェニル（１４ｇ，７０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（２５２ｍｇ，２．１０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（９０ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（１６ｇ，７６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗体にメタノール（２００ｍＬ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、４’－シアノ－４－｛４－［６－（アクリロイルオキシ）エチルオキシ］ベンゾアート｝（下記化学式（１））を収率９３％（２８ｇ，６７ｍｍｏｌ）で得た。

（合成例２：液晶モノマー２の合成）
前記合成例１において、２－ブロモエタノールの代わりに６－クロロ－１－ｎ－ヘキサノールを用いた以外は、合成例１と同様にして、下記化学式（２）で表される液晶モノマー２を得た。

（合成例３：液晶モノマー３の合成）
まず下記スキーム３に従って、下記化学式（ａ）で表される４－プロポキシカルボニルフェニル＝４－ヒドロキシベンゾアートを得た。
４－アセトキシ安息香酸（１５ｇ，８４ｍｍｏｌ）、４－ヒドロキシ安息香酸プロピル（１４ｇ，８０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．５９ｇ，４．９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１００ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（１７ｇ，８４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過したのち、溶媒を留去した。得られた油状物にメタノール（１００ｍＬ）を加え、溶解させたのち、冷却下に炭酸カリウム（１３ｇ，９３ｍｍｏｌ）の水（５０ｍＬ）溶液を滴下した。反応混合物を１時間撹拌したのち、３５％塩酸（９．４ｍＬ）で中和し、析出した結晶をろ過し、粗体を乾燥させることにより、４－プロポキシカルボニルフェニル－４－ヒドロキシベンゾアートを２段階で収率７３％（１７ｇ，５８ｍｍｏｌ）で得た。

次に下記スキーム４に従って、下記化学式（３）で表される液晶モノマー３を得た。
前記で得られた４－プロポキシカルボニルフェニル－４－ヒドロキシベンゾアート（１５ｇ，５０ｍｍｏｌ）、４－［６－（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］安息香酸（１４ｇ，４８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．１７ｇ，１．３ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（６０ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（１１ｇ，５２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過したのち、溶媒を留去した。得られた粗体にメタノールを加え、再結晶を行い、得られた結晶を乾燥させることにより、４－［（４－プロポキシカルボニルフェニルオキシカルボニル）フェニル－４－［６－（アクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ］ベンゾアート（下記化学式（３））を収率８８％（２４ｇ，４４ｍｍｏｌ）で得た。

（合成例４：液晶モノマー４の合成）
まず下記スキーム５に従い、４－ヒドロキシ－４”－プロピルテルフェニルを合成した。
４－ブロモフェノール（１０ｇ，５８ｍｍｏｌ）、４’－プロピル－４－ビフェニルボロン酸（１５ｇ，６４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１２ｇ，８７ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（６７０ｍｇ，０．５８ｍｍｏｌ）を反応容器に加え、容器内を窒素置換した。アセトン（１００ｍｌ）、水（２０ｍｌ）を加え８時間還流し反応終了後、反応液を１規定塩酸中に加え１０分間撹拌した。その後さらに酢酸エチルを加え、分液を行った。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、４－ヒドロキシ－４”－プロピルテルフェニルを収率８９％（１５ｇ，５１ｍｍｏｌ）で得た。

次に、前記スキーム１において、４－ヒドロキシ安息香酸エチルの代わりに、前記で得られた４－ヒドロキシ－４”－プロピルテルフェニルを用いた以外は前記スキーム１と同様にして、下記化学式（４）で表される液晶モノマー４を得た。

（合成例５：液晶モノマー５の合成）
前記合成例１において、４’－シアノ－４－ヒドロキシビフェニルの代わりに４－ヒドロキシベンゾニトリルを用いた以外は合成例１と同様にして、下記化学式（５）で表される液晶モノマー５を得た。

（合成例６：モノマーＡの合成）
前記スキーム１において、２－ブロモエタノールの代わりに１１－ブロモ－３，６，９－トリオキサウンデカン－１－オールを、４－ヒドロキシ安息香酸エチルの代わりに１－ノナノールを用いた以外は前記スキーム１と同様にして、下記化学式（Ａ）で表されるモノマーＡを得た。
なお、下記化学式（Ａ）で表されるモノマーＡにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_４－のデイビス法による基数は１．３２であり、－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－４．２７５である。

（合成例７：モノマーＢの合成）
前記合成例６において、１１－ブロモ－３，６，９－トリオキサウンデカン－１－オールの代わりに２３－ブロモ－３，６，９，１２，１５，１８，２１－ヘプタオキサトリコサン－１－オールを用いた以外は前記合成例６と同様にして、下記化学式（Ｂ）で表されるモノマーＢを得た。
下記化学式（Ｂ）で表されるモノマーＢにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_８－のデイビス法による基数は２．６４であり、－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－４．２７５である。

（合成例８：モノマーＣの合成）
前記合成例６において、１－ノナノールの代わりに１－ドコサノールを用いた以外は前記合成例６と同様にして、下記化学式（Ｃ）で表されるモノマーＣを得た。
下記化学式（Ｃ）で表されるモノマーＣにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_４－のデイビス法による基数は１．３２であり、－（ＣＨ_２）_２１－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－１０．４５である。

下記化学式（Ｄ）で表されるモノマーＤとしては、日立化成（株）製のＦＡ－３１４Ａを用いた。モノマーＤは、下記化学式（Ｄ）におけるｎ＝４の化合物を少なくとも含み、ｎの平均が４である。
下記化学式（Ｄ）で表されるモノマーＤにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_４－のデイビス法による基数は１．３２であり、－Ｃ_６Ｈ_４－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－７．１２５である。なお、－Ｃ_６Ｈ_４－はｐ－フェニレン基を表す。

（合成例９：モノマーＥの合成）
１－ノナノール（１０ｇ、６９ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン（０．８８ｍｇ、６．５μｍｏｌ）のシクロヘキサノン（２０ｍｌ）溶液を窒素雰囲気下１１０℃まで昇温した。その後、アクリル酸グリシジル（８．１ｇ、６３ｍｍｏｌ）を滴下し、滴下終了後反応液を１時間撹拌した。反応終了後、反応液を１規定塩酸中に加え、その後さらに酢酸エチルを加え、分液を行った。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、その後有機層の溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、溶媒を留去することで、下記化学式（Ｅ）で表されるモノマーＥを収率５１％（８．７ｇ，３２ｍｍｏｌ）で得た。
下記化学式（Ｅ）で表されるモノマーＥにおいて、－ＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２－Ｏ－のデイビス法による基数は１．７７５であり、－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－４．２７５である。

下記化学式（Ｆ）で表されるモノマーＦとしては、日立化成（株）製のＦＡ－３１８ＡＳを用いた。モノマーＦは、下記化学式（Ｆ）におけるｎ＝８の化合物を少なくとも含み、ｎの平均が８である。
下記化学式（Ｆ）で表されるモノマーＦにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_８－のデイビス法による基数は２．６４であり、－Ｃ_６Ｈ_４－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－７．１２５である。

下記化学式（Ｇ）で表されるモノマーＧとしては、第一工業製薬（株）製のニューフロンティア Ｎ－１７７Ｅを用いた。なお、モノマーＧは、下記化学式（Ｇ）におけるｎ＝１６の化合物とｎ＝１７の化合物を含む混合物である。
下記化学式（Ｇ）で表されるモノマーＧにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_１６－のデイビス法による基数は５．２８であり、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_１７－のデイビス法による基数は５．６１であり、－Ｃ_６Ｈ_４－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－７．１２５である。

（合成例１０：モノマーＨの合成）
２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルアクリレート（１２ｇ，７３ｍｍｏｌ）、デカン酸（１５ｇ，７３ｍｍｏｌ）、及びＮ，Ｎ－ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）（０．２７ｇ，２．２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４００ｍＬ）懸濁液に、Ｎ，Ｎ－ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）（１６ｇ，７９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（９０ｍＬ）溶液を滴下した。滴下終了後、１２時間撹拌し、沈殿物をろ過した後、溶媒を留去した。得られた粗体にメタノール（２００ｍＬ）を加え、１時間撹拌し懸濁精製した。沈殿物をろ過し、得られた結晶を乾燥させることにより、下記化学式（Ｈ）で表されるモノマーＨを収率６３％（１４ｇ，４６ｍｍｏｌ）で得た。
下記化学式（Ｈ）で表されるモノマーＨにおいて、－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－（ＣＨ_２）_２－Ｏ－ＣＯ－のデイビス法による基数は１．７８であり、－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－４．２７５である。

（合成例１１：モノマーＩの合成）
まず下記スキーム６に従い、４，８，１２，１６，２０－ペンタオキサヘプタコサノールを合成した。
具体的には、４，８，１２，１６－テトラオキサノナデカン－１，１９－ジオール（１５ｇ，４９ｍｍｏｌ）に臭化水素（３３％酢酸溶液，１７ｇ）を０℃で滴下し、滴下終了後４０℃で２時間撹拌した。反応終了後、酢酸エチルを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、その後有機層の溶媒を留去することで、１９－ブロモ－４，８，１２，１６－テトラオキサノナデカン－１－オールを収率４６％（８．３ｇ，２２ｍｍｏｌ）で得た。
その後は、前記スキーム１の第１ステップにおいて、２－ブロモエタノールの代わりに１９－ブロモ－４，８，１２，１６－テトラオキサノナデカン－１－オールを、４－ヒドロキシ安息香酸エチルの代わりに１－ヘプタノールを用いた以外は前記スキーム１の第１ステップと同様にして、４，８，１２，１６，２０－ペンタオキサヘプタコサノールを得た。

その後は、前記スキーム１において、２－ブロモエタノールの代わりに１１－ブロモ－３，６，９－トリオキサウンデカン－１－オールを、４－ヒドロキシ安息香酸エチルの代わりに４，８，１２，１６，２０－ペンタオキサヘプタコサノールを用いた以外は前記スキーム１と同様にして、下記化学式（Ｉ）で表されるモノマーＩを得た。
下記化学式（Ｉ）で表されるモノマーＩにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_４－のデイビス法による基数は１．３２であり、－（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_５－（ＣＨ_２）_６－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－３．９５である。

（合成例１２：モノマーＪの合成）
前記合成例１１において、４，８，１２，１６－テトラオキサノナデカン－１，１９－ジオールの代わりに、１，３－プロパンジオール用いた以外は前記合成例１１と同様にして、下記化学式（Ｊ）で表されるモノマーＪを得た。
下記化学式（Ｊ）で表されるモノマーＪにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_４－のデイビス法による基数は１．３２であり、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－（ＣＨ_２）_６－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－３．４５である。

（合成例１３：モノマーＫの合成）
前記合成例６において、１－ノナノールの代わりに４－フェニルフェノールを用いた以外は前記合成例６と同様にして、下記化学式（Ｋ）で表されるモノマーＫを得た。
下記化学式（Ｋ）で表されるモノマーＫにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_４－のデイビス法による基数は１．３２であり、－Ｃ_６Ｈ_４－Ｃ_６Ｈ_５のデイビス法による基数は－５．７である。なお、－Ｃ_６Ｈ_４－Ｃ_６Ｈ_５は４－ビフェニル基を表す。

（合成例１４：モノマーＬの合成）
前記合成例９において、アクリル酸グリシジルの代わりにアクリル酸４，５－エポキシペンチルエステルを用いた以外は前記合成例９と同様にして、下記化学式（Ｌ）で表されるモノマーＬを得た。
下記化学式（Ｌ）で表されるモノマーＬにおいて、－（ＣＨ_２）_３－ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ－のデイビス法による基数は０．８２５であり、－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－４．２７５である。

下記化学式（Ｍ）で表されるモノマーＭとしては、共栄社化学（株）製のライトアクリレートＥＨＧＤ－ＡＴを用いた。
下記化学式（Ｍ）で表されるモノマーＭにおいて、－（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２－のデイビス法による基数は０．６６であり、－ＣＨ_２ＣＨ（Ｃ_２Ｈ_５）－Ｃ_４Ｈ_９のデイビス法による基数は－３．８である。

（合成例１５：モノマーＮの合成）
前記合成例１０において、２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルアクリレートの代わりに２－（２－アミノエトキシ）エチルアクリレートを用いた以外は前記合成例１０と同様にして、下記化学式（Ｎ）で表されるモノマーＮを得た。

下記化学式（Ｏ）で表されるモノマーＯとしては、東京化成社製、アクリル酸ステアリルを用いた。
下記化学式（Ｏ）で表されるモノマーＯにおいて、－（ＣＨ_２）_１７－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－８．５５である。

（合成例１６：モノマーＰの合成）
前記合成例６において、１１－ブロモ－３，６，９－トリオキサウンデカン－１－オールの代わりに２－ブロモエタノールを用いた以外は前記合成例６と同様にして、下記化学式（Ｐ）で表されるモノマーＰを得た。
下記化学式（Ｐ）で表されるモノマーＰにおいて、－ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ－のデイビス法による基数は０．３３であり、－（ＣＨ_２）_８－ＣＨ_３のデイビス法による基数は－４．２７５である。

なお、以下では、モノマーＡ～Ｐを非液晶モノマーということがある。

（製造例１：側鎖型液晶ポリマーＡ－１の合成）
前記液晶モノマー１（２９ｇ，６５ｍｍｏｌ）と、前記モノマーＡ（１３ｇ，３５ｍｍｏｌ）の、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）（２００ｍＬ）懸濁液に、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）（８２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を滴下し、滴下終了後、８０℃で６時間撹拌した。反応終了後室温まで冷却した後、メタノールを撹拌している別の容器に滴下し撹拌した後、ろ過、乾燥により側鎖型液晶ポリマーＡ－１を収率７３％（３６ｇ）で得た。

得られた側鎖型液晶ポリマーＡ－１について、^１Ｈ－ＮＭＲにより構造解析を行った。
^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。
＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６０～１．８１（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５０～４．４４（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７５～７．７７（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）
また、^１Ｈ－ＮＭＲの結果から求めた液晶モノマー１とモノマーＡとの共重合比（モル比）は６７：３３であり、前述のＧＰＣにより測定した質量平均分子量Ｍｗは２２０００であった。

（製造例２～５：側鎖型液晶ポリマーＡ－１～Ａ－５の合成）
前記製造例１の側鎖型液晶ポリマーＡ－１の合成において、前記液晶モノマー１と、前記モノマーＡの仕込み量を表１のように変更した以外は、前記製造例１と同様にし、側鎖型液晶ポリマーＡ－２～Ａ－５を得た。

得られた側鎖型液晶ポリマーＡ－２～Ａ－５の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。
側鎖型液晶ポリマーＡ－２～Ａ－５の^１Ｈ－ＮＭＲの結果から求めた液晶モノマー１とモノマーＡとの共重合比（モル比）、及び、前述のＧＰＣにより測定した質量平均分子量Ｍｗは下記表３に示す。

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－２＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５５～１．８３（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５３～４．４４（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７８～７．７０（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－３＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５７～１．８３（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５１～４．４７（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７６～７．７４（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１４（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－４＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５８～１．８４（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．４９～４．４５（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７４～７．７７（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－５＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６３～１．８０（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５０～４．４５（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７８～７．７６（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

（製造例６～７：側鎖型液晶ポリマーＡ－６～Ａ－７の合成）
前記製造例１の側鎖型液晶ポリマーＡ－１の合成において、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）の量を表２のように変更した以外は、前記製造例１と同様にし、側鎖型液晶ポリマーＡ－６～Ａ－７を得た。

得られた側鎖型液晶ポリマーＡ－６～Ａ－７の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。
側鎖型液晶ポリマーＡ－６～Ａ－７の^１Ｈ－ＮＭＲの結果から求めた液晶モノマー１とモノマーＡとの共重合比（モル比）、及び、前述のＧＰＣにより測定した質量平均分子量Ｍｗは下記表３に示す。

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－６＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６４～１．８０（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５０～４．４２（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７５～７．７２（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－７＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５９～１．８１（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５１～４．４４（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７５～７．７７（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

（製造例８～１１：側鎖型液晶ポリマーＡ－８～Ａ－１１の合成）
前記製造例１の側鎖型液晶ポリマーＡ－１の合成において、液晶モノマーを表４のように変更し、液晶モノマーの仕込み量をそれぞれ同じモル量（６５ｍｍｏｌ）となるように調整した以外は、前記製造例１と同様にし、側鎖型液晶ポリマーＡ－８～Ａ－１１を得た。
得られた側鎖型液晶ポリマーＡ－８～Ａ－１１の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。
また、側鎖型液晶ポリマーＡ－８～Ａ－１１の^１Ｈ－ＮＭＲの結果から求めた液晶モノマーと非液晶モノマーとの共重合比（モル比）、及び、前述のＧＰＣにより測定した質量平均分子量Ｍｗを表４に示す。

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－８＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６０～１．８０（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．４４～４．４６（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７５～７．７７（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－９＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６１～１．８２（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．６３～４．３２（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．９８～７．７２（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１０＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６１～１．８１（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），２．５６（ｂｓ ｂｅｎｚｙｌ－Ｈ），３．５８～４．４１（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．５２～７．４５（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１１＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６０～１．８１（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５０～４．４４（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．８０～７．７５（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

（製造例１２～２４、比較製造例１～２：側鎖型液晶ポリマーＡ－１２～Ａ－２４、比較側鎖型液晶ポリマーＡ－Ｘ１～Ａ－Ｘ２の合成）
前記製造例１の側鎖型液晶ポリマーＡ－１の合成において、非液晶モノマーを表５のように変更し、非液晶モノマーの仕込み量をそれぞれ同じモル量（３５ｍｍｏｌ）とした以外は、前記製造例１と同様にし、側鎖型液晶ポリマーＡ－１２～Ａ－２４及び比較側鎖型液晶ポリマーＡ－Ｘ１～Ａ－Ｘ２を得た。
得られた側鎖型液晶ポリマーＡ－１２～Ａ－２４及び比較側鎖型液晶ポリマーＡ－Ｘ１～Ａ－Ｘ２の^１Ｈ－ＮＭＲの結果を以下に示す。
また、側鎖型液晶ポリマーＡ－１２～Ａ－２４及び比較側鎖型液晶ポリマーＡ－Ｘ１～Ａ－Ｘ２の^１Ｈ－ＮＭＲの結果から求めた液晶モノマーと非液晶モノマーとの共重合比（モル比）、及び、前述のＧＰＣにより測定した質量平均分子量Ｍｗを表５に示す。

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１２＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６０～１．８２（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．４４～４．６０（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７５～７．７７（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１２（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１３＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．４７～１．８０（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５４～４．３０（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７２～７．７１（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１４＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５５～１．６６（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），２．４９（ｂｓ ｂｅｎｚｙｌ－Ｈ），３．７７～４．１７（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．８０～７．７３（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１１（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１５＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５４～１．９５（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．１２（ｂｓ，ＯＨ），３．３１～４．３８（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－，ＨＯ－ＣＨ），６．８１～７．９９（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１６＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５７～１．７４（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），２．４４（ｂｓ ｂｅｎｚｙｌ－Ｈ），３．６３～４．２０（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．８０～７．７３（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１１（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１７＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５３～１．７４（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），２．２９（ｂｓ ｂｅｎｚｙｌ－Ｈ），３．１３～４．５９（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７２～７．７５（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１２（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１８＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５５～１．８２（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．４０～４．４９（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７１～７．６８（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１２（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－１９＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．６０～１．７９（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），２．０２（ｂｓ，－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－），３．２１～４．５０（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７７～７．６５（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１３（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－２０＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５６～１．７６（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），１．９８（ｂｓ，－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－），３．２１～４．５０（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．８０～７．７３（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１２（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－２１＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：３．７５～４．６１（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７３～７．８０（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１１（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－２２＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５８～１．８２（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．１０（ｂｓ，ＯＨ），３．３０～４．３２（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－，ＨＯ－ＣＨ），６．８９～７．６６（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１１（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－２３＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５７～１．８８（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．５６～４．５５（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７４～７．８０（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１２（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜側鎖型液晶ポリマーＡ－２４＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５４～１．８２（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．１８～４．３７（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－，－ＮＨ－ＣＨ２－），６．７１～７．６８（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ，ＮＨ），８．１１（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜比較側鎖型液晶ポリマーＡ－Ｘ１＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５５～１．８９（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．６５～４．２３（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７９～７．７３（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１７（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

＜比較側鎖型液晶ポリマーＡ－Ｘ２＞
^１Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ－ｄ６，ＴＭＳ）：０．５５～１．８９（ｍ，Ａｌｋｙｌ－Ｈ），３．６１～４．３２（ｍ，－Ｏ－ＣＨ２－），６．７０～７．７６（ｍ，Ａｒｏｍａｔｉｃ－Ｈ），８．１１（ｂｓ，ＣＮ－Ｃ＝ＣＨ－）

重合性液晶化合物として、下記化学式Ｂ－１で表される化合物を準備した。

（実施例１）
（１）液晶組成物の調製
側鎖型液晶ポリマー（Ａ－１）１５質量部、重合性液晶化合物（Ｂ－１）８５質量部、光重合開始剤（チバスペシャリフィケミカルズ社製，イルガキュア９０７）４質量部を、シクロヘキサノン４００質量部に溶解させ、実施例１の液晶組成物１を調製した。

（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の作製
厚み３８μｍのＰＥＴ基材の片面に、２－フェノキシエチルアクリレートと、テトラヒドロフルフリルアクリレートと、ジペンタエリスリトールトリアクリレートと、ビス（２－ビニルオキシエチル）エーテルとを１：１：４：５の質量比で混合し、更に、重合開始剤としてＬｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）を４質量％の割合で添加した混合物を、硬化後の膜厚が３μｍになるようにコーティングし、２０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化させた。
続いて、形成した硬化膜上に、前記液晶組成物１を、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布し、成膜した。その後、８５℃で１２０秒乾燥させた後に紫外線（ＵＶ）を照射して位相差層を形成し、実施例１の位相差フィルム乃至転写用積層体を得た。

（実施例２～２７、比較例１～６）
（１）液晶組成物２～２７、比較液晶組成物Ｘ１～Ｘ６の調製
実施例１の（１）において、側鎖型液晶ポリマーの種類及び添加量（質量部）、並びに重合性液晶化合物の添加量（質量部）を表６に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～２７の液晶組成物２～２７、及び比較例１～６の比較液晶組成物Ｘ１～Ｘ６を得た。
（２）位相差フィルム乃至転写用積層体の作製
実施例１の（２）において、液晶組成物１に代えて、液晶組成物２～２７及び比較液晶組成物Ｘ１～Ｘ６をそれぞれ用いた以外は、実施例１の（２）と同様にして、位相差フィルム乃至転写用積層体を得た。

［評価］
＜垂直配向性評価＞
各実施例及び各比較例で得られた位相差フィルム乃至転写用積層体の位相差層を粘着層付きガラス板に転写して測定サンプルを作製し、王子計測機器（株）社製 ＫＯＢＲＡ－ＷＲを用いて、測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）を室温（２３℃）下で測定し、下記評価基準により垂直配向性を評価した。評価結果を表６に示す。
（評価基準）
Ａ：Ｒｔｈが－１１０ｎｍ未満であった
Ｂ：Ｒｔｈが－１１０ｎｍ以上－８０ｎｍ未満であった
Ｃ：Ｒｔｈが－８０ｎｍ以上であった
Ｄ：配向せず、Ｒｔｈが測定できなかった
前記垂直配向性評価がＡ又はＢであれば、垂直配向性に優れており、Ａであればより優れている。

＜耐熱性評価＞
前記垂直配向性評価で用いた測定サンプルを１００℃で６０分間加熱し、加熱前後の測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）をそれぞれ室温（２３℃）下で測定した。測定値を用いて、下記式で算出される加熱後の位相差変動率を算出し、下記評価基準により耐熱性を評価した。評価結果を表６に示す。
加熱後の位相差変動率（％）＝｛（加熱前Ｒｔｈ－加熱後Ｒｔｈ）／加熱前Ｒｔｈ｝×１００
（評価基準）
Ａ：加熱後の位相差変動率が１０％以下であった
Ｂ：加熱後の位相差変動率が１０％超過１４％以下であった
Ｃ：加熱後の位相差変動率が１４％超過であった
なお、比較例１、４、６は、位相差層が配向せず、Ｒｔｈを測定することが出来なかったため、位相差変動率を求めることができなかった。

＜液晶配向温度域の測定＞
実施例１で得られた液晶組成物１と実施例１６で得られた液晶組成物１６について、下記方法により液晶性成分が垂直配向する温度域を測定した。
厚み３８μｍのＰＥＴ基材の片面に、２－フェノキシエチルアクリレートと、テトラヒドロフルフリルアクリレートと、ジペンタエリスリトールトリアクリレートと、ビス（２－ビニルオキシエチル）エーテルとを１：１：４：５の質量比で混合し、更に、重合開始剤としてＬｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）を４質量％の割合で添加した混合物を、硬化後の膜厚が３μｍになるようにコーティングし、２０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して硬化させた。続いて、形成した硬化膜上に、液晶組成物１又は液晶組成物１６を、硬化後の膜厚が１μｍになるように塗布し、成膜した。液晶組成物１を塗布したものについては、６５℃、７０℃、１２０℃、１２５℃の各温度で１２０秒乾燥したものを各々準備し、乾燥後の塗膜に紫外線（ＵＶ）を照射して各々位相差層を形成した。液晶組成物１６を塗布したものについては、５０℃、５５℃、１２０℃、１２５℃の各温度で１２０秒乾燥したものを各々準備し、乾燥後の塗膜に紫外線（ＵＶ）を照射して各々位相差層を形成した。
得られた各位相差フィルム乃至転写用積層体の位相差層を粘着層付きガラス板に転写して測定サンプルを作製し、測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）を測定した。
実施例１で得られた液晶組成物１は、位相差層を形成する際の乾燥温度を６５℃又は１２５℃とした場合に、形成された位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ以上であり、乾燥温度を７０℃又は１２０℃とした場合に、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ未満であった。よって、実施例１で得られた液晶組成物１は、液晶性成分が垂直配向する温度域が６５℃超過１２５℃未満であり、少なくとも７０℃以上１２０℃以下の温度域では液晶性成分が垂直配向することが明らかにされた。
実施例１６で得られた液晶組成物１６は、位相差層を形成する際の乾燥温度を５０℃又は１２５℃とした場合に、形成された位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ以上であり、乾燥温度を５５℃又は１２０℃とした場合に、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ未満であった。よって、実施例１６で得られた液晶組成物１６は、液晶性成分が垂直配向する温度域が５０℃超過１２５℃未満であり、少なくとも５５℃以上１２０℃以下の温度域では液晶性成分が垂直配向することが明らかにされた。
実施例１６で得られた液晶組成物１６は、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位における疎水性部Ｙ乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位における疎水性部Ｙ’が、芳香族炭化水素基を含んでいることにより、垂直配向する温度域が広がったと考えられる。

［結果のまとめ］
表６の結果から、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有する共重合体を側鎖型液晶ポリマーとして用いた実施例１～２７では、位相差層の垂直配向性に優れ、加熱による位相差変動率が小さく、耐熱性に優れていた。また、実施例１、４～２６と比較例１、４との対比により、本開示の液晶組成物を用いて形成した位相差層は、前記側鎖型液晶ポリマーの含有量が少量でも、垂直配向性が向上することが示された。また、実施例２７と比較例２、５との対比により、本開示の液晶組成物を用いて形成した位相差層は、重合性液晶化合物の含有量を減らしても、加熱による位相差変動が生じにくく、耐熱性に優れることが示された。また、比較例３では、前記一般式（Ｉ）で表される構成単位乃至前記一般式（Ｉ’）で表される構成単位を有しない側鎖型液晶ポリマーを用いた場合、垂直配向させるために必要な添加量で側鎖型液晶ポリマーを含有させると、耐熱性が不十分になることが示された。比較例６では、側鎖型液晶ポリマーを用いなかったため、垂直配向性に劣っていた。

１ 位相差層
２、２’ 基材
３ 配向膜
１０、１０’、１０” 位相差フィルム
１１、２１、３１ 位相差層
１２、２２、３２ 第二の基材
１３、２３、３３ 配向膜
１５、２５、３５ 剥離可能な支持体
１６、２６、３６ 位相差層を含む転写層
１７ 配向膜と位相差層との界面
２７ 第二の基材と配向膜との界面
２０、３０、４０ 転写用積層体
５０ 偏光板
６０ 光学部材
７１ 透明電極層
７２ 発光層
７３ 電極層
１００ 発光表示装置

Claims (12)

1. 側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物と、光重合開始剤とを含有し、
   前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有し、
   前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、液晶組成物。
   

   

   （一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは親水性部を表し、Ｙは疎水性部を表す。
   親水性部を表すＸは、
   （ｘ１）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－（ｎは２以上１７以下）、
   （ｘ２）水酸基が置換された炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－からなる群から選ばれる少なくとも１種の連結基との組み合わせ、又は、
   （ｘ３）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－（ｎ’は１以上１７以下）と水酸基が置換されていてもよい炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と前記連結基との組み合わせであり、
   Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す。
   疎水性部を表すＹは、
   （ｙ１）炭素数８以上２２以下の脂肪族炭化水素基、
   （ｙ２）ナフチル基又はビフェニル基、
   （ｙ３）炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基と炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基との組み合わせ、又は、
   （ｙ４）炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種と－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－（ｍは１以上５以下）との組み合わせである。）
2. 側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物と、光重合開始剤とを含有し、
   前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有し、
   前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、液晶組成物。
   

   

   （一般式（Ｉ’）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ’は親水性部を表し、Ｙ’は疎水性部を表す。親水性部を表すＸ’は、デイビス法による原子団固有の基数が０．５以上５．７以下の２価の基であり、疎水性部を表すＹ’は、デイビス法による原子団固有の基数が－１０．５以上－３．０以下の１価の基である。）
3. 位相差層を有する位相差フィルムであって、
   前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有し、前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、液晶組成物の硬化物を含む、位相差フィルム。
   

   

   （一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは親水性部を表し、Ｙは疎水性部を表す。
   親水性部を表すＸは、
   （ｘ１）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－（ｎは２以上１７以下）、
   （ｘ２）水酸基が置換された炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－からなる群から選ばれる少なくとも１種の連結基との組み合わせ、又は、
   （ｘ３）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－（ｎ’は１以上１７以下）と水酸基が置換されていてもよい炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と前記連結基との組み合わせであり、
   Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す。
   疎水性部を表すＹは、
   （ｙ１）炭素数８以上２２以下の脂肪族炭化水素基、
   （ｙ２）ナフチル基又はビフェニル基、
   （ｙ３）炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基と炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基との組み合わせ、又は、
   （ｙ４）炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種と－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－（ｍは１以上５以下）との組み合わせである。）
4. 位相差層を有する位相差フィルムであって、
   前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有し、前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、液晶組成物の硬化物を含む、位相差フィルム。
   

   

   （一般式（Ｉ’）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ’は親水性部を表し、Ｙ’は疎水性部を表す。親水性部を表すＸ’は、デイビス法による原子団固有の基数が０．５以上５．７以下の２価の基であり、疎水性部を表すＹ’は、デイビス法による原子団固有の基数が－１０．５以上－３．０以下の１価の基である。）
5. 前記位相差層の測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ未満である、請求項３又は４に記載の位相差フィルム。
6. 請求項１又は２に記載の液晶組成物を成膜する工程と、
   前記成膜された前記液晶組成物中の前記側鎖型液晶ポリマーが有する前記液晶性構成単位と、前記重合性液晶化合物を配向させる工程と、
   前記配向させる工程の後に、前記重合性液晶化合物を重合する工程とを有することにより、位相差層を形成する、位相差フィルムの製造方法。
7. 位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
   前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有し、前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、液晶組成物の硬化物を含む、
   前記位相差層の転写に供する転写用積層体。
   

   

   （一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは親水性部を表し、Ｙは疎水性部を表す。
   親水性部を表すＸは、
   （ｘ１）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－（ｎは２以上１７以下）、
   （ｘ２）水酸基が置換された炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－ＮＲ^２－Ｃ（＝Ｏ）－及び－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＲ^２－からなる群から選ばれる少なくとも１種の連結基との組み合わせ、又は、
   （ｘ３）－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ’－（ｎ’は１以上１７以下）と水酸基が置換されていてもよい炭素数１以上５以下の飽和脂肪族炭化水素基と前記連結基との組み合わせであり、
   Ｒ^２は水素原子又はメチル基を表す。
   疎水性部を表すＹは、
   （ｙ１）炭素数８以上２２以下の脂肪族炭化水素基、
   （ｙ２）ナフチル基又はビフェニル基、
   （ｙ３）炭素数１以上２２以下の脂肪族炭化水素基と炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基との組み合わせ、又は、
   （ｙ４）炭素数４以上２２以下の脂肪族炭化水素基及び炭素数６以上１２以下の芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種と－（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｍ－（ｍは１以上５以下）との組み合わせである。）
8. 位相差層と、前記位相差層を剥離可能に支持した支持体とを備え、
   前記位相差層が、側鎖型液晶ポリマーと、重合性液晶化合物とを含有し、前記側鎖型液晶ポリマーが、下記一般式（Ｉ’）で表される構成単位と、液晶性部分を含む側鎖を有する液晶性構成単位とを有し、前記側鎖型液晶ポリマーと前記重合性液晶化合物との合計質量に対する、前記側鎖型液晶ポリマーの質量比が、１質量％以上２５質量％以下である、液晶組成物の硬化物を含む、
   前記位相差層の転写に供する転写用積層体。
   

   

   （一般式（Ｉ’）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ’は親水性部を表し、Ｙ’は疎水性部を表す。親水性部を表すＸ’は、デイビス法による原子団固有の基数が０．５以上５．７以下の２価の基であり、疎水性部を表すＹ’は、デイビス法による原子団固有の基数が－１０．５以上－３．０以下の１価の基である。）
9. 前記位相差層の測定波長５５０ｎｍにおける厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が－８０ｎｍ未満である、請求項７又は８に記載の転写用積層体。
10. 請求項３乃至５のいずれか１項に記載の位相差フィルム上に、偏光板を備える、光学部材。
11. 請求項７乃至９のいずれか１項に記載の転写用積層体を準備する工程と、
    少なくとも偏光板を含む被転写体と、前記転写用積層体の前記位相差層とを対向させ、前記被転写体上に前記転写用積層体を転写する転写工程と、
    前記被転写体上に転写された前記転写用積層体から、前記支持体を剥離する剥離工程と を有する、光学部材の製造方法。
12. 請求項３乃至５のいずれか１項に記載の位相差フィルム、又は当該位相差フィルム上に偏光板を備える光学部材、を備える表示装置。

Images