JPS63205306A - 酸素透過体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、酸素透過性、装用感および耐汚染性に優れた
弗素含有重合体から形成された酸素透過体に関する。さ
らに詳細にはハードコンタクトレンズなどの医療用酸素
透過体として用いると生体適合性に優れ、長時間の装着
が可能となりかつ優れた性能を発揮することのできる酸
素透過体に関する。
弗素含有重合体から形成された酸素透過体に関する。さ
らに詳細にはハードコンタクトレンズなどの医療用酸素
透過体として用いると生体適合性に優れ、長時間の装着
が可能となりかつ優れた性能を発揮することのできる酸
素透過体に関する。
眼の角膜は血管のない組織であるために、その呼吸代謝
に必要な酸素は眠っている時は眼瞼結膜や房水からの拡
散により得られているが、起きている時は大気中から取
り入れられている。そのため、ハードコンタクトレンズ
であれソフトコンタクトレンズであれ、コンタクトレン
ズを装着することは酸素供給の障害となり易く、長時間
装着を行うと、充血、浮腫およびその他の角膜障害をひ
き起こすことが多かった。従って、コンタクトレンズ用
の素材には光学的性質、化学的性質、物理的性質、機械
的性質に優れていることに加えて、酸素透過性に優れて
いることが求められている。
に必要な酸素は眠っている時は眼瞼結膜や房水からの拡
散により得られているが、起きている時は大気中から取
り入れられている。そのため、ハードコンタクトレンズ
であれソフトコンタクトレンズであれ、コンタクトレン
ズを装着することは酸素供給の障害となり易く、長時間
装着を行うと、充血、浮腫およびその他の角膜障害をひ
き起こすことが多かった。従って、コンタクトレンズ用
の素材には光学的性質、化学的性質、物理的性質、機械
的性質に優れていることに加えて、酸素透過性に優れて
いることが求められている。
また、コンタクトレンズ用の素材には涙、液成分である
タンパク質、脂質、ムチン質などに対する耐汚染性およ
び細菌や、真菌1こ対する耐汚染性に優れていることの
他に、装用感に優れ、生体適合性に優れているこ^が求
められている。
タンパク質、脂質、ムチン質などに対する耐汚染性およ
び細菌や、真菌1こ対する耐汚染性に優れていることの
他に、装用感に優れ、生体適合性に優れているこ^が求
められている。
従来、コンタクトレンズ用の材料としてはポリメチルメ
タクリレート(PMMA )および種々メタク1〕ル酸
エステル系単量体の重合体が広く用いられているが、こ
れらのほとんどは酸素透過性が劣り、長時間の装着に耐
え得るものではなかった。従来のメタクリル酸エステル
系重合体の酸素透過、性を改善するためにメタクリル酸
エステル分子内にシロキサン結合を導入し元シリコーン
メ、タフ、リレート系重合体(特公昭’52−3a5o
2号公報、酢酸酪酸セルロースを主体とする酸素透過性
重合体およびフッ素含有メタクリレート系重合体(特開
昭57−51705号公報および特開昭61−1113
08号公報)などを用いたコンタクトレンズが提供され
ている。
タクリレート(PMMA )および種々メタク1〕ル酸
エステル系単量体の重合体が広く用いられているが、こ
れらのほとんどは酸素透過性が劣り、長時間の装着に耐
え得るものではなかった。従来のメタクリル酸エステル
系重合体の酸素透過、性を改善するためにメタクリル酸
エステル分子内にシロキサン結合を導入し元シリコーン
メ、タフ、リレート系重合体(特公昭’52−3a5o
2号公報、酢酸酪酸セルロースを主体とする酸素透過性
重合体およびフッ素含有メタクリレート系重合体(特開
昭57−51705号公報および特開昭61−1113
08号公報)などを用いたコンタクトレンズが提供され
ている。
しかしながら、これらの重合体は従来のPHMAなどの
メタクリル酸エステル系重合体に比べれば、酸素透過性
は改善されているが、まだ充分ではなく、さらに酸素透
過性の改善された重合体が求められている。また、これ
らの重合体は耐汚染性、親水性、水膨潤性などの性能に
おいても満足できるものではない。
メタクリル酸エステル系重合体に比べれば、酸素透過性
は改善されているが、まだ充分ではなく、さらに酸素透
過性の改善された重合体が求められている。また、これ
らの重合体は耐汚染性、親水性、水膨潤性などの性能に
おいても満足できるものではない。
本発明者らは、従来の酸素透過体、とくにコンタクトレ
ンズの先行技術が上記の状況にあることを認識し、酸素
透過体、装用感および耐汚染性に優れた酸素透過体につ
いて鋭意検討を行った結果、特定の弗素含有重合体が前
述の目的を充足することを見出し、本発明に到達した。
ンズの先行技術が上記の状況にあることを認識し、酸素
透過体、装用感および耐汚染性に優れた酸素透過体につ
いて鋭意検討を行った結果、特定の弗素含有重合体が前
述の目的を充足することを見出し、本発明に到達した。
〔問題点を解決するための手段〕 ゛本
発明によれば、一般式(If Rf CH2=C−Co□CH,CHCH,OR”
(1)OCOR’ 〔式中、Rfは少なくとも3個の弗素原子が結合した酸
素原子を含有していてもよい炭素原子数1ないし30の
弗素置換炭化水素基を示し、R’lは水素原子またはメ
チル基を示し、R″は炭素原子数1゛ないし30の弗素
原子または酸素原子を含有していてもよい炭化水素基を
示す〕で□表わされる弗素含有(メタ)アクリル酸エス
テル系単量体からなる弗素含有重合体から形成される酸
素透過体が提供される。
発明によれば、一般式(If Rf CH2=C−Co□CH,CHCH,OR”
(1)OCOR’ 〔式中、Rfは少なくとも3個の弗素原子が結合した酸
素原子を含有していてもよい炭素原子数1ないし30の
弗素置換炭化水素基を示し、R’lは水素原子またはメ
チル基を示し、R″は炭素原子数1゛ないし30の弗素
原子または酸素原子を含有していてもよい炭化水素基を
示す〕で□表わされる弗素含有(メタ)アクリル酸エス
テル系単量体からなる弗素含有重合体から形成される酸
素透過体が提供される。
本発明の酸素透過体の弗素含有重合体は、・一般式(1
) 〔式中、Rtは少なくとも3個の弗素原子が結合した酸
素原子を含有していてもよい炭繁威子数1ないし300
弗素置換炭化水素基を示し、嚢“は水素原子またはメチ
ル基を示し、R2は炭素原子数1ない゛シ30の弗素原
子または酸素原子を含有していて゛もよい炭イ’b水素
基を示す〕で表わされる□弗素含有(メタ)アクリル酸
エステル系単量体を主成□分として含有する実質上線状
弗素含有重合体であり、該弗素含有(メタ)アクリル酸
エステル系単量体の単独重合体の他に、該弗素含有(メ
タ)アクリル酸エステル系単量体と他の単官能性共重合
性単量体との共重合体であってもよい。
) 〔式中、Rtは少なくとも3個の弗素原子が結合した酸
素原子を含有していてもよい炭繁威子数1ないし300
弗素置換炭化水素基を示し、嚢“は水素原子またはメチ
ル基を示し、R2は炭素原子数1ない゛シ30の弗素原
子または酸素原子を含有していて゛もよい炭イ’b水素
基を示す〕で表わされる□弗素含有(メタ)アクリル酸
エステル系単量体を主成□分として含有する実質上線状
弗素含有重合体であり、該弗素含有(メタ)アクリル酸
エステル系単量体の単独重合体の他に、該弗素含有(メ
タ)アクリル酸エステル系単量体と他の単官能性共重合
性単量体との共重合体であってもよい。
該一般式(1)で表わされる(メタ)アクリル酸エステ
ル系単量体において、Rfは少なくとも3個の弗素原子
が結合した酸素原子を含有していてもよい炭素原子数が
4ないし25の弗素置換炭化水素基であることが好まし
い。ここで少なくとも3個の弗素原子′が結合した酸素
原子を含有していてもよい炭素原子ia工ないし30の
弗素置換炭化水素基R1として具°体的には□、たとえ
ば −CF、、−CFzCh゛、−(cF、) 、CF
8、−(CFり1cF3、(CF t ) s CF
!、−(cps)tcp、、’ (CFz)wcFa、
−(CF、) 、 、CF3、−CFzCFJ、−CF
tCFHCFs、−(CF2)”、H,−(CF2)4
H。
ル系単量体において、Rfは少なくとも3個の弗素原子
が結合した酸素原子を含有していてもよい炭素原子数が
4ないし25の弗素置換炭化水素基であることが好まし
い。ここで少なくとも3個の弗素原子′が結合した酸素
原子を含有していてもよい炭素原子ia工ないし30の
弗素置換炭化水素基R1として具°体的には□、たとえ
ば −CF、、−CFzCh゛、−(cF、) 、CF
8、−(CFり1cF3、(CF t ) s CF
!、−(cps)tcp、、’ (CFz)wcFa、
−(CF、) 、 、CF3、−CFzCFJ、−CF
tCFHCFs、−(CF2)”、H,−(CF2)4
H。
−(CFt)J、 −(Ch)+。H、−CH(CF、
)! 、−CF(CF3)!、CF(CzFs)z、−
CH,0CFICF2H,−CI20CF2CFHCF
3、などを例示することができる。これらの弗素置換炭
化水素基Rfのうちでは−(CF2)5CF3、−(C
F2)?CF3、−(CF2)9CF3、−(CF、)
6H1−(CF2)l。Hlまた、該一般式(1)で(
メタ)アクリル酸エステル系単量体において、RZは炭
素原子数4ないし25の弗素原子または酸素原子を含有
していてもよい炭化水素基であることが好ましい。ここ
で、炭素原子数が1ないし30の弗素原子または酸素原
子を含有していてもよい炭化水素基R2として具体的に
は、たとえば −CH2C3F?、CH2C?F+5、−CHz(CF
z)+oHなどを例示することができる。これらの弗素
原子を含有していてもよい炭化水素基R2のうちではま
た、本発明の酸素透過体を形成する弗素含有重合体にお
いて、該弗素含有(メタ)アクリル酸エステル系単量体
と共重合することのある単官能性共重合性単量体として
具体的には、 などの炭化水素系(メタ)アクリレート、CH2Cl。
)! 、−CF(CF3)!、CF(CzFs)z、−
CH,0CFICF2H,−CI20CF2CFHCF
3、などを例示することができる。これらの弗素置換炭
化水素基Rfのうちでは−(CF2)5CF3、−(C
F2)?CF3、−(CF2)9CF3、−(CF、)
6H1−(CF2)l。Hlまた、該一般式(1)で(
メタ)アクリル酸エステル系単量体において、RZは炭
素原子数4ないし25の弗素原子または酸素原子を含有
していてもよい炭化水素基であることが好ましい。ここ
で、炭素原子数が1ないし30の弗素原子または酸素原
子を含有していてもよい炭化水素基R2として具体的に
は、たとえば −CH2C3F?、CH2C?F+5、−CHz(CF
z)+oHなどを例示することができる。これらの弗素
原子を含有していてもよい炭化水素基R2のうちではま
た、本発明の酸素透過体を形成する弗素含有重合体にお
いて、該弗素含有(メタ)アクリル酸エステル系単量体
と共重合することのある単官能性共重合性単量体として
具体的には、 などの炭化水素系(メタ)アクリレート、CH2Cl。
l
CH2=CC00CH2CH20H、CHz=CCOO
CHzCHCHa などのH ヒドロキシ(メタ)アクリレート、 CI(3CHコ CHz=CCOOCHzC1’+、 CHz=CCO
OCH(CF3)z、CF3 CHz”CC00CHzCHzCJ+t などのF系
(メタ)アクリレート、 CI3 CI(2=CCOOCH,CH2N(C)Iff) Z
などのアミノ (メタ)CF3 アクリレート、 C)1z=ccOo(C1(zcH2
0) 3CH3、CI(。
CHzCHCHa などのH ヒドロキシ(メタ)アクリレート、 CI(3CHコ CHz=CCOOCHzC1’+、 CHz=CCO
OCH(CF3)z、CF3 CHz”CC00CHzCHzCJ+t などのF系
(メタ)アクリレート、 CI3 CI(2=CCOOCH,CH2N(C)Iff) Z
などのアミノ (メタ)CF3 アクリレート、 C)1z=ccOo(C1(zcH2
0) 3CH3、CI(。
CHz=CCOO(CHzCHzO)z3cl(+
などのポリエチレングリコールモノ (メタ)アクリレ
ート、CF3 CHz=CCOOCHzCHzCHzSi−(QSi(
CL)+ 33などのシリコーン系(メタ)アクリレー
トなどを例示するでは、CHz=CCOOCHzCF3
、 CHz=CCOOCIbCFzCFHCF3、CH
2Cl。
などのポリエチレングリコールモノ (メタ)アクリレ
ート、CF3 CHz=CCOOCHzCHzCHzSi−(QSi(
CL)+ 33などのシリコーン系(メタ)アクリレー
トなどを例示するでは、CHz=CCOOCHzCF3
、 CHz=CCOOCIbCFzCFHCF3、CH
2Cl。
I
CHz=CCOOCHz(CFz)tH,CH2=CC
00CH2CH2C6F+3、CF3 ■ CHz=CCOOCHgCHgC1lF+ ?などのF
系(メタ)アクリ暖 レートや CHz”CC00CHzCHzCHzSi−
(QSi(CL)a) 3などのシリコーン系(メタ)
アクリレートなどが好ましい。
00CH2CH2C6F+3、CF3 ■ CHz=CCOOCHgCHgC1lF+ ?などのF
系(メタ)アクリ暖 レートや CHz”CC00CHzCHzCHzSi−
(QSi(CL)a) 3などのシリコーン系(メタ)
アクリレートなどが好ましい。
本発明の酸素透過体を形成する弗素含有重合体は前記一
般式(1)で表わされる弗素含有(メタ)アクリル酸エ
ステル系単量体の単独重合体である場合もあるし、前記
単官能性共重合性単量体との共重合体である場合もある
。共重合体である場合には該弗素含有(メタ)アクリル
酸エステル系単量体の含有率は30重量%以上、好まし
くは50重量%以上である。また、必要に応じ、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ノナエチレングリコー
ルジメタクリレート、テトラデカエチレングリコールジ
メタクリレート、ノナプロピレングリコールジメタクリ
レート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレートなどの多官能性単量体を架橋剤と
して任意の割合で添加することもできる。
般式(1)で表わされる弗素含有(メタ)アクリル酸エ
ステル系単量体の単独重合体である場合もあるし、前記
単官能性共重合性単量体との共重合体である場合もある
。共重合体である場合には該弗素含有(メタ)アクリル
酸エステル系単量体の含有率は30重量%以上、好まし
くは50重量%以上である。また、必要に応じ、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ノナエチレングリコー
ルジメタクリレート、テトラデカエチレングリコールジ
メタクリレート、ノナプロピレングリコールジメタクリ
レート、アリルメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレートなどの多官能性単量体を架橋剤と
して任意の割合で添加することもできる。
また、本発明の酸素透過体を形成する重合体または、重
合前の段階に各種の安定剤、顔料、増粘剤などの添加物
も任意の割合で添加することができる。
合前の段階に各種の安定剤、顔料、増粘剤などの添加物
も任意の割合で添加することができる。
本発明の酸素透過体を形成する弗素含有重合体を製造す
る方法としては、前記弗素含有(メタ)アクリル酸エス
テル系単量体および必要に応じて加えられる他の共重合
成分からなる単量体混合物および重合開始剤からなる混
合物を反応させる方法を挙げることができる。重合開始
剤のうちで、熱重合用ラジカル開始剤は、アゾビスイソ
ブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリ
ル、フェニルアゾビスブチロニトリル、アゾビスジメチ
ルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t
−ブチルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキ
サイドなどを例示することができ、また、重合開始剤の
うちで光重合開始剤として具ル、イソブチルなどのベン
ゾインエーテル類、ベンゾフェノンやベンゾエートなど
のベンゾフェノン類、キサントン、チオキサントンなど
のキサンすることができる。熱重合の際の温度は通常4
0ないし200℃、好ましくは45ないし120℃の範
囲であり、重合に要する時間は通常0.5ないし500
0分、好ましくは30ないL、 2000分である”。
る方法としては、前記弗素含有(メタ)アクリル酸エス
テル系単量体および必要に応じて加えられる他の共重合
成分からなる単量体混合物および重合開始剤からなる混
合物を反応させる方法を挙げることができる。重合開始
剤のうちで、熱重合用ラジカル開始剤は、アゾビスイソ
ブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニトリ
ル、フェニルアゾビスブチロニトリル、アゾビスジメチ
ルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t
−ブチルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキ
サイドなどを例示することができ、また、重合開始剤の
うちで光重合開始剤として具ル、イソブチルなどのベン
ゾインエーテル類、ベンゾフェノンやベンゾエートなど
のベンゾフェノン類、キサントン、チオキサントンなど
のキサンすることができる。熱重合の際の温度は通常4
0ないし200℃、好ましくは45ないし120℃の範
囲であり、重合に要する時間は通常0.5ないし500
0分、好ましくは30ないL、 2000分である”。
光重合による場合は、重合に必要な時間は使用するモノ
マーおよび光重合開始剤の種類や量によっても、また使
用する光源の種類によっても相違場合は、UV照射によ
り、数秒ないし数分間の範囲の時間で実用上充分な強度
の重合体が得、ら、れる。
マーおよび光重合開始剤の種類や量によっても、また使
用する光源の種類によっても相違場合は、UV照射によ
り、数秒ないし数分間の範囲の時間で実用上充分な強度
の重合体が得、ら、れる。
本発明の酸素透過体を製造する方法としては、上記の方
法で得られた弗素含有重合体を溶融牟件下に所望の形状
に成形する方法を採用することもできるし、前記単量体
混合物および重合開始剤からなる混合物を重合型枠内で
重合させることにより所望の形状の弗素含有重合体を得
る方法を採用することもできる。
法で得られた弗素含有重合体を溶融牟件下に所望の形状
に成形する方法を採用することもできるし、前記単量体
混合物および重合開始剤からなる混合物を重合型枠内で
重合させることにより所望の形状の弗素含有重合体を得
る方法を採用することもできる。
′該弗素含有重合体の酢酸エチル中で30℃で測定した
極限粘度〔η〕は通常0.1ないし、3.0a / 、
gである。該弗素含有重合体中の弗素含有率が高い場合
には溶媒不溶性となり極限粘度〔η〕が測定できないこ
ともあるが、この場合にも本発明の酸素透過体に利用す
ることができる。
極限粘度〔η〕は通常0.1ないし、3.0a / 、
gである。該弗素含有重合体中の弗素含有率が高い場合
には溶媒不溶性となり極限粘度〔η〕が測定できないこ
ともあるが、この場合にも本発明の酸素透過体に利用す
ることができる。
該弗素含有重合体の示差走査熱量計(D S C”)で
測定したガラス転移温度(Tg)は通常−80ないし2
00℃、好ましくは−50ないし200℃の範囲でであ
る。
測定したガラス転移温度(Tg)は通常−80ないし2
00℃、好ましくは−50ないし200℃の範囲でであ
る。
また、該弗素含有重合体は酸素透過性に優れており、そ
の酸素透過係数(DK値x 10− ” cc (ST
P) cm/ c+1l−sec、mmHg)は通常は
10以上、好ましくは15以上、とくに好ましくは20
以上の範囲にある。ここで、該弗素含有重合体の酸素透
過率は、製科研式のフィルム酸素透過率計を用いて測定
した。
の酸素透過係数(DK値x 10− ” cc (ST
P) cm/ c+1l−sec、mmHg)は通常は
10以上、好ましくは15以上、とくに好ましくは20
以上の範囲にある。ここで、該弗素含有重合体の酸素透
過率は、製科研式のフィルム酸素透過率計を用いて測定
した。
該弗素含有重合体はたんばく質、脂質またはムチン質な
どの涙液成分に対する耐汚染性に優れている。
どの涙液成分に対する耐汚染性に優れている。
本発明の弗素含有重合体からなる酸素透過体は装用感、
耐汚染性に優れており、酸素透過性に著しく優れており
かつ生体適合性に優れているので、生体用酸素透過体た
とえばハードコンタクドレンズ、または、各種の分離膜
などの用途に適している。とくに本発明の酸素透過体を
ハードコンタクトレンズとして用いると、従来のものに
比べて酸素透過性、装用感、涙液成分に対する耐汚染性
に優れ、生体適合性に優れているので、長時間の装着が
可能となるという利点がある。
耐汚染性に優れており、酸素透過性に著しく優れており
かつ生体適合性に優れているので、生体用酸素透過体た
とえばハードコンタクドレンズ、または、各種の分離膜
などの用途に適している。とくに本発明の酸素透過体を
ハードコンタクトレンズとして用いると、従来のものに
比べて酸素透過性、装用感、涙液成分に対する耐汚染性
に優れ、生体適合性に優れているので、長時間の装着が
可能となるという利点がある。
次に、実施例によって本発明の酸素透過体を具体的に説
明する。
明する。
参考例1
グリシジルメタクリレート
CH3
CH2=CC00CH2CHCH2142,2g (
IM )、(C6H3CH2N(C2H4):l )
・CI 3.0gを混合し、85℃、5時間反応を
行った。この溶液を精製し得られた白色結晶は、NMR
の解析により 豐 化合物9 g (0,0314M ) 、パーフルオロ
ノナン酸(、F、、C0OH16g (0,0345M
)、P−)ルエンスルホの反応溶液を精製し、11.
9gの白色結晶を得た。
IM )、(C6H3CH2N(C2H4):l )
・CI 3.0gを混合し、85℃、5時間反応を
行った。この溶液を精製し得られた白色結晶は、NMR
の解析により 豐 化合物9 g (0,0314M ) 、パーフルオロ
ノナン酸(、F、、C0OH16g (0,0345M
)、P−)ルエンスルホの反応溶液を精製し、11.
9gの白色結晶を得た。
IR,NMRの解析より、
豐
参考例2
参考例1において、β−ナフトールのかわり以外は、参
考例1と同様な操作で、室温で無色透実施例1 7H・ 100部にアゾビスイソブチロニトリル0.5部を加え
、加熱融解して十分に攪拌混合して、10分間真空脱気
した。この溶液を窒素雰囲気下で、200μのテフロン
バッキングをスペーサーとした2枚のガラス板間中に流
し込み、締具で固定した後、恒温槽に入れ、60℃24
時間、70℃、80℃、90℃で各2時間ずつ加熱し重
合を行った。重合終了後、生成した透明なフィルムをガ
ラス板よりはがし、酸素透過係数を測定した。結果を表
1に示す。
考例1と同様な操作で、室温で無色透実施例1 7H・ 100部にアゾビスイソブチロニトリル0.5部を加え
、加熱融解して十分に攪拌混合して、10分間真空脱気
した。この溶液を窒素雰囲気下で、200μのテフロン
バッキングをスペーサーとした2枚のガラス板間中に流
し込み、締具で固定した後、恒温槽に入れ、60℃24
時間、70℃、80℃、90℃で各2時間ずつ加熱し重
合を行った。重合終了後、生成した透明なフィルムをガ
ラス板よりはがし、酸素透過係数を測定した。結果を表
1に示す。
実施例2
I
を用いて実施例1と同様な操作で重合し、酸素透過係数
を測定した。結果を表1に示す。
を測定した。結果を表1に示す。
I
50部とシロキサニルメタクリレート
CH。
C)lz=ccODc)lzc)IzC)lzsi (
05i(CH3)+ ) 350部を混合B した系において実施例1と同様な操作で重合し、酸素透
過係数を測定した。結果を表1に示す。
05i(CH3)+ ) 350部を混合B した系において実施例1と同様な操作で重合し、酸素透
過係数を測定した。結果を表1に示す。
501mト1.1,2.2−テトラヒドロパーフルオロ
デシル合した系において実施例1と同様な操作で重合し
、酸素透過率を測定した。結果を表1に示す。
デシル合した系において実施例1と同様な操作で重合し
、酸素透過率を測定した。結果を表1に示す。
比較例I
CH。
■
メチルメタクリレート CH2=CC00C1(3のみ
を用いて実施例1と同様な操作で重合を行い、酸素透過
係数を測定した。結果を表1に示す。
を用いて実施例1と同様な操作で重合を行い、酸素透過
係数を測定した。結果を表1に示す。
比較例2
1.1,2.2−テトラヒドロパーフルオロデシルメC
I(3 タフリレートCH2=CCD0CH2CH2C,F、
7のみを用いて実施例1と同様な操作で重合し、酸素透
過係数を測定した。
I(3 タフリレートCH2=CCD0CH2CH2C,F、
7のみを用いて実施例1と同様な操作で重合し、酸素透
過係数を測定した。
Claims (1)
- (1)一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^fは少なくとも3個の弗素原子が結合した
酸素原子を含んでいてもよい炭素原子数1ないし30の
弗素置換炭化水素基を示し、R^1は水素原子またはメ
チル基を示し、R^2は炭素原子数1ないし30の弗素
原子または酸素原子を含有していてもよい炭化水素基を
示す〕で表わされる弗素含有(メタ)アクリル酸エステ
ル系単量体からなる弗素含有重合体から形成される酸素
透過体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3787687A JPS63205306A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 酸素透過体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3787687A JPS63205306A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 酸素透過体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63205306A true JPS63205306A (ja) | 1988-08-24 |
Family
ID=12509733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3787687A Pending JPS63205306A (ja) | 1987-02-23 | 1987-02-23 | 酸素透過体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63205306A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008111685A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Fujifilm Corporation | Liquid crystal composition, retardation plate, liquid crystal display device, and process for producing retardation plate |
JP2008257205A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-10-23 | Fujifilm Corp | 液晶組成物、位相差板、液晶表示装置、及び位相差板の製造方法 |
-
1987
- 1987-02-23 JP JP3787687A patent/JPS63205306A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008111685A1 (en) * | 2007-03-14 | 2008-09-18 | Fujifilm Corporation | Liquid crystal composition, retardation plate, liquid crystal display device, and process for producing retardation plate |
JP2008257205A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-10-23 | Fujifilm Corp | 液晶組成物、位相差板、液晶表示装置、及び位相差板の製造方法 |
US8053040B2 (en) | 2007-03-14 | 2011-11-08 | Fujifilm Corporation | Liquid crystal composition, retardation plate, liquid crystal display device, and process for producing retardation plate |
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