JP2008248239A - シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス - Google Patents

シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス Download PDF

Info

Publication number
JP2008248239A
JP2008248239A JP2008055918A JP2008055918A JP2008248239A JP 2008248239 A JP2008248239 A JP 2008248239A JP 2008055918 A JP2008055918 A JP 2008055918A JP 2008055918 A JP2008055918 A JP 2008055918A JP 2008248239 A JP2008248239 A JP 2008248239A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
group
siloxane resin
polymerizable organic
mol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008055918A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2008248239A5 (https=
Inventor
Hitoshi Araki
斉 荒木
Mitsufumi Suwa
充史 諏訪
Hiroyuki Nio
宏之 仁王
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2008055918A priority Critical patent/JP2008248239A/ja
Publication of JP2008248239A publication Critical patent/JP2008248239A/ja
Publication of JP2008248239A5 publication Critical patent/JP2008248239A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
JP2008055918A 2007-03-08 2008-03-06 シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス Pending JP2008248239A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008055918A JP2008248239A (ja) 2007-03-08 2008-03-06 シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007058163 2007-03-08
JP2008055918A JP2008248239A (ja) 2007-03-08 2008-03-06 シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008248239A true JP2008248239A (ja) 2008-10-16
JP2008248239A5 JP2008248239A5 (https=) 2010-09-16

Family

ID=39973554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008055918A Pending JP2008248239A (ja) 2007-03-08 2008-03-06 シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008248239A (https=)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010013816A1 (ja) * 2008-08-01 2010-02-04 旭硝子株式会社 ネガ型感光性組成物、それを用いた光学素子用隔壁および該隔壁を有する光学素子
JP2010532792A (ja) * 2007-04-10 2010-10-14 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド オプトエレクトロニクスデバイス用の組成物、層、及びフィルム、並びにこれらの使用
WO2011068766A1 (en) * 2009-12-04 2011-06-09 Dow Corning Corporation Stabilization of silsesquioxane resins
JP2012082393A (ja) * 2010-09-17 2012-04-26 Jsr Corp ポリシロキサン組成物、並びにその硬化膜及びその形成方法
WO2013047131A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Fujifilm Corporation Curable resin composition, optical member set, method of producing the same, and solid state imaging device using the same
CN103119691A (zh) * 2010-10-20 2013-05-22 株式会社德山 光固化性纳米压印用组合物、使用该组合物的图案的形成方法及具有该组合物的固化体的纳米压印用复制模具
JPWO2013115191A1 (ja) * 2012-01-31 2015-05-11 旭硝子株式会社 指紋付着防止剤およびその製造方法、ハードコート用組成物、ハードコート層を有する基材ならびにタッチパネル
JP2016040353A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 日本曹達株式会社 有機無機複合体及びその形成用組成物
JP2016056256A (ja) * 2014-09-08 2016-04-21 セイコーインスツル株式会社 コーティング剤、コーティング膜、およびコーティング剤の製造方法
WO2017057105A1 (ja) * 2015-09-28 2017-04-06 東レ株式会社 高分子化合物、樹脂組成物、膜、固体撮像素子、高分子化合物の製造方法、固体撮像素子の製造方法、および光学デバイス
KR20180016986A (ko) 2015-06-11 2018-02-20 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 감방사선성 조성물
JPWO2018097284A1 (ja) * 2016-11-28 2019-10-17 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 保護膜を具備する薄膜トランジスタ基板およびその製造方法
CN111373325A (zh) * 2017-11-21 2020-07-03 东丽株式会社 硅氧烷树脂组合物、固化膜及显示装置
JPWO2020196750A1 (https=) * 2019-03-28 2020-10-01
JP2024095969A (ja) * 2022-12-30 2024-07-11 達興材料股▲ふん▼有限公司 洗浄組成物、洗浄方法及び半導体製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02110121A (ja) * 1988-10-18 1990-04-23 Shin Etsu Chem Co Ltd 紫外線硬化性組成物
JP2005036051A (ja) * 2003-07-17 2005-02-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 放射線硬化性シリコーンゴム組成物および電気・電子装置
WO2005085922A1 (ja) * 2004-03-09 2005-09-15 Jsr Corporation 光導波路チップの製造方法
JP2007002194A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Nippon Kayaku Co Ltd フッ素含有ポリシロキサン、それを用いる感光性樹脂組成物及びその硬化物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02110121A (ja) * 1988-10-18 1990-04-23 Shin Etsu Chem Co Ltd 紫外線硬化性組成物
JP2005036051A (ja) * 2003-07-17 2005-02-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 放射線硬化性シリコーンゴム組成物および電気・電子装置
WO2005085922A1 (ja) * 2004-03-09 2005-09-15 Jsr Corporation 光導波路チップの製造方法
JP2007002194A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Nippon Kayaku Co Ltd フッ素含有ポリシロキサン、それを用いる感光性樹脂組成物及びその硬化物

Cited By (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010532792A (ja) * 2007-04-10 2010-10-14 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド オプトエレクトロニクスデバイス用の組成物、層、及びフィルム、並びにこれらの使用
US8557502B2 (en) 2008-08-01 2013-10-15 Asahi Glass Company, Limited Negative photosensitive composition, partition walls for optical device using it and optical device having the partition walls
JP5093352B2 (ja) * 2008-08-01 2012-12-12 旭硝子株式会社 ネガ型感光性組成物、それを用いた光学素子用隔壁および該隔壁を有する光学素子
WO2010013816A1 (ja) * 2008-08-01 2010-02-04 旭硝子株式会社 ネガ型感光性組成物、それを用いた光学素子用隔壁および該隔壁を有する光学素子
JP2013512994A (ja) * 2009-12-04 2013-04-18 ダウ コーニング コーポレーション シルセスキオキサン樹脂の安定化
WO2011068766A1 (en) * 2009-12-04 2011-06-09 Dow Corning Corporation Stabilization of silsesquioxane resins
US8648125B2 (en) 2009-12-04 2014-02-11 Dow Corning Corporation Stabilization of silsesquioxane resins
JP2012082393A (ja) * 2010-09-17 2012-04-26 Jsr Corp ポリシロキサン組成物、並びにその硬化膜及びその形成方法
US9228035B2 (en) 2010-10-20 2016-01-05 Tokuyama Corporation Photo-curable nanoimprint composition, method for formatting pattern using the composition, and nanoimprint replica mold comprising cured product of the composition
CN103119691A (zh) * 2010-10-20 2013-05-22 株式会社德山 光固化性纳米压印用组合物、使用该组合物的图案的形成方法及具有该组合物的固化体的纳米压印用复制模具
CN103119691B (zh) * 2010-10-20 2016-01-13 株式会社德山 光固化性纳米压印用组合物、使用该组合物的图案的形成方法及具有该组合物的固化体的纳米压印用复制模具
EP2631932A4 (en) * 2010-10-20 2014-05-14 Tokuyama Corp A LIGHT-CURABLE NANOPRINTING COMPOSITION, A METHOD OF FORMING A STRUCTURE USING THE COMPOSITION, AND A NANO-PROOF REPLICA FORM WITH A CROPPED PRODUCT FROM THE COMPOSITION
WO2013047131A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Fujifilm Corporation Curable resin composition, optical member set, method of producing the same, and solid state imaging device using the same
US9637649B2 (en) 2011-09-30 2017-05-02 Fujifilm Corporation Curable resin composition containing siloxane resin having polysilsesquioxane structure, optical member set, method of producing the same, and solid state imaging device using the same
JP2014040558A (ja) * 2011-09-30 2014-03-06 Fujifilm Corp 硬化性樹脂組成物、光学部材セット、その製造方法、これを用いた固体撮像素子
JPWO2013115191A1 (ja) * 2012-01-31 2015-05-11 旭硝子株式会社 指紋付着防止剤およびその製造方法、ハードコート用組成物、ハードコート層を有する基材ならびにタッチパネル
JP2016040353A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 日本曹達株式会社 有機無機複合体及びその形成用組成物
JP2016056256A (ja) * 2014-09-08 2016-04-21 セイコーインスツル株式会社 コーティング剤、コーティング膜、およびコーティング剤の製造方法
KR20180016986A (ko) 2015-06-11 2018-02-20 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 감방사선성 조성물
US11561472B2 (en) 2015-06-11 2023-01-24 Nissan Chemical Industries, Ltd. Radiation sensitive composition
WO2017057105A1 (ja) * 2015-09-28 2017-04-06 東レ株式会社 高分子化合物、樹脂組成物、膜、固体撮像素子、高分子化合物の製造方法、固体撮像素子の製造方法、および光学デバイス
JP7033259B2 (ja) 2016-11-28 2022-03-10 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 保護膜を具備する薄膜トランジスタ基板およびその製造方法
JPWO2018097284A1 (ja) * 2016-11-28 2019-10-17 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 保護膜を具備する薄膜トランジスタ基板およびその製造方法
CN111373325B (zh) * 2017-11-21 2023-10-17 东丽株式会社 硅氧烷树脂组合物、固化膜及显示装置
CN111373325A (zh) * 2017-11-21 2020-07-03 东丽株式会社 硅氧烷树脂组合物、固化膜及显示装置
CN113631601A (zh) * 2019-03-28 2021-11-09 株式会社钟化 有机无机复合树脂及其制造方法
WO2020196750A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01 株式会社カネカ 有機無機複合樹脂及びその製造方法
JPWO2020196750A1 (https=) * 2019-03-28 2020-10-01
JP7433295B2 (ja) 2019-03-28 2024-02-19 株式会社カネカ 有機無機複合樹脂の製造方法
CN113631601B (zh) * 2019-03-28 2024-10-11 株式会社钟化 有机无机复合树脂及其制造方法
JP2024095969A (ja) * 2022-12-30 2024-07-11 達興材料股▲ふん▼有限公司 洗浄組成物、洗浄方法及び半導体製造方法
JP7685031B2 (ja) 2022-12-30 2025-05-28 達興材料股▲ふん▼有限公司 洗浄組成物、洗浄方法及び半導体製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2008248239A (ja) シロキサン樹脂組成物、それを用いた硬化膜および光学デバイス
JP5589387B2 (ja) シロキサン樹脂組成物およびそれを用いたタッチパネル用保護膜
JP5407210B2 (ja) シロキサン樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜
JP5907235B2 (ja) シロキサン樹脂組成物およびその製造方法
JP6417669B2 (ja) 感光性樹脂組成物、保護膜及び絶縁膜並びにタッチパネルの製造方法
JP5212571B2 (ja) タッチパネル部材
JP6295950B2 (ja) 感光性樹脂組成物、保護膜又は絶縁膜、タッチパネル及びその製造方法
JP6201280B2 (ja) シロキサン系樹脂組成物の製造方法、それを用いた硬化膜、光学物品および固体撮像素子の製造方法
JP4973093B2 (ja) シロキサン系樹脂組成物、光学物品およびシロキサン系樹脂組成物の製造方法
JP5459315B2 (ja) シランカップリング剤、ネガ型感光性樹脂組成物、硬化膜、およびタッチパネル用部材
JP7027886B2 (ja) 樹脂組成物、その硬化膜およびその製造方法ならびに固体撮像素子
JP5671936B2 (ja) ネガ型感光性樹脂組成物およびそれを用いた硬化膜
JP5830978B2 (ja) シロキサン系樹脂組成物およびその製造方法、それを硬化してなる硬化膜ならびにそれを有する光学物品および固体撮像素子
JP2010026360A (ja) ネガ型感光性シロキサン樹脂組成物
JP5353011B2 (ja) シロキサン系樹脂組成物、これを用いた光学デバイスおよびシロキサン系樹脂組成物の製造方法
JP7732206B2 (ja) ネガ型感光性着色組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、隔壁付き基板、および画像表示装置
JP2012087316A (ja) シロキサン系樹脂組成物、硬化膜および光学物品
JP2020100819A (ja) 樹脂組成物、硬化膜およびその製造方法
JP2022064302A (ja) ネガ型シロキサン樹脂組成物、硬化膜および素子
JP2012158743A (ja) 非感光性樹脂組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有するタッチパネル用素子
CN111770905A (zh) 有机改性的金属氧化物或准金属氧化物聚合物膜

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100729

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100729

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120420

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120508

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120625

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121009

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121113

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130205