JP2008248239A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8901268B2 (en) * 2004-08-03 2014-12-02 Ahila Krishnamoorthy Compositions, layers and films for optoelectronic devices, methods of production and uses thereof
WO2010013816A1 (ja) * 2008-08-01 2010-02-04 旭硝子株式会社 ネガ型感光性組成物、それを用いた光学素子用隔壁および該隔壁を有する光学素子
US8648125B2 (en) 2009-12-04 2014-02-11 Dow Corning Corporation Stabilization of silsesquioxane resins
JP2012082393A (ja) * 2010-09-17 2012-04-26 Jsr Corp ポリシロキサン組成物、並びにその硬化膜及びその形成方法
SG188504A1 (en) * 2010-10-20 2013-05-31 Tokuyama Corp Photo-curable nanoimprint composition, method for forming pattern using the composition, and nanoimprint replica mold comprising cured product of composition
WO2013047131A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Fujifilm Corporation Curable resin composition, optical member set, method of producing the same, and solid state imaging device using the same
JP6206188B2 (ja) * 2012-01-31 2017-10-04 旭硝子株式会社 指紋付着防止剤組成物、指紋付着防止剤の製造方法、ハードコート用組成物、ハードコート層を有する基材およびタッチパネル
JP2016040353A (ja) * 2014-08-12 2016-03-24 日本曹達株式会社 有機無機複合体及びその形成用組成物
JP2016056256A (ja) * 2014-09-08 2016-04-21 セイコーインスツル株式会社 コーティング剤、コーティング膜、およびコーティング剤の製造方法
CN107615168B (zh) 2015-06-11 2023-12-19 日产化学工业株式会社 感放射线性组合物
KR20180059751A (ko) * 2015-09-28 2018-06-05 도레이 카부시키가이샤 고분자 화합물, 수지 조성물, 막, 고체 촬상 소자, 고분자 화합물의 제조 방법, 고체 촬상 소자의 제조 방법 및 광학 디바이스
KR102465013B1 (ko) * 2016-11-28 2022-11-09 메르크 파텐트 게엠베하 보호막을 구비하는 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조방법
WO2019102655A1 (ja) * 2017-11-21 2019-05-31 東レ株式会社 シロキサン樹脂組成物、硬化膜および表示装置
JP7433295B2 (ja) * 2019-03-28 2024-02-19 株式会社カネカ 有機無機複合樹脂の製造方法
TWI861658B (zh) * 2022-12-30 2024-11-11 達興材料股份有限公司 清潔組合物、清洗方法和半導體製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0681774B2 (ja) * 1988-10-18 1994-10-19 信越化学工業株式会社 紫外線硬化性組成物
JP2005036051A (ja) * 2003-07-17 2005-02-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 放射線硬化性シリコーンゴム組成物および電気・電子装置
WO2005085922A1 (ja) * 2004-03-09 2005-09-15 Jsr Corporation 光導波路チップの製造方法
JP4671338B2 (ja) * 2005-06-27 2011-04-13 日本化薬株式会社 フッ素含有ポリシロキサン、それを用いる感光性樹脂組成物及びその硬化物

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