JP2008226429A - 磁気記録媒体、及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板12と、基板12上に形成された垂直磁気記録層30を備える磁気記録媒体10であって、垂直磁気記録層30は、磁気信号を記録するグラニュラ層20と、グラニュラ層20と磁気的に結合する連続膜層24とを有し、連続膜層24は、グラニュラ層20に磁気信号が記録される記録領域に対応する位置にそれぞれ形成される複数の硬磁性部204と、複数の硬磁性部204の間に形成される磁気シールド部であって、磁化曲線を測定した場合に、印加磁場が0の領域において磁化曲線の傾きが前記硬磁性部より大きく、かつ残留磁気分極が前記硬磁性部よりも小さい磁界シールド部202とを含む。
【選択図】図1
Description
主記録層の複数の記録領域は、例えば、補助磁性層から受ける磁気的影響により区画される。磁界シールド部は、例えば、外部から磁場が加えられた場合に、当該磁場と反対方向の反磁場を発生することにより、内部の磁束密度を外部よりも小さくする。また、内部の磁束密度を小さくすることにより、例えば、複数の硬磁性部の間における基板の主表面と平行な方向への磁界の広がりを抑える。
この態様では、(1)グラニュラー磁気記録層を有し、(2)磁気的結合層(連続層ではなく、単層)を有し、(3)磁気的結合層は、磁気記録層と磁気的結合し、(4)磁気的結合層に、硬磁性部と、硬磁性部よりも磁性が弱い軟磁性部、とを有している。また、磁気記録層と磁気的結合層とは接触している。
本発明の他の態様では、上記の構成1〜7及びその説明において、「補助磁性層」を「磁気的結合層」と読み替えた内容が適用される。
(構成8)非磁性の基板上に、柱状に連続して成長した磁性粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の磁気記録層と、磁気記録層に隣接し上記基板の面内方向に磁気的に連続した磁気的結合層とを、この順に積層した磁気ディスクであって、
上記磁気的結合層および磁気記録層のうちの少なくとも磁気的結合層は、磁気記録層に磁気信号が記録される記録領域に対応する位置にそれぞれ形成される複数の硬磁性部と、
上記隣接する硬磁性部間に形成される、磁化曲線を測定した場合に、印加磁場が0の領域において磁化曲線の傾きが上記硬磁性部より大きく、かつ、残留磁気分極が前記硬磁性部よりも小さい磁界シールド部とを有することを特徴とする磁気ディスク。
このように構成すれば、上述した構成1等と同様の効果を得ることができる。
例えば、このように構成すれば、記録領域間の磁気的な分離を適切に行うことができる。そのため、例えば、磁気記録媒体をDTR媒体又はパターンド媒体として適切に機能させることができる。また、これにより、例えばトラックエッジノイズが低減されるため、トラック幅(Erase幅)を低減し、トラック密度を向上させることが可能になる。
(構成9)上記磁気的結合層における硬磁性部は、磁気記録層の磁気信号が記録される記録領域に対応する位置に形成されており、上記軟磁性部は、それ以外の領域に形成されていることを特徴とする磁気ディスク。
(構成10)上記軟磁性部および硬磁性部は、上記円板状基板の中心に対して同心円状に形成されていることを特徴とする磁気ディスク。
(構成11)上記磁気記録層と磁気的結合層は接していることを特徴とする磁気ディスク。
(構成12)上記磁気的結合層は少なくともCoCrPtを有することを特徴とする磁気ディスク。
以下、本発明に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体10の一例を示す。図1(a)は、磁気記録媒体10の構成の一例を示す。磁気記録媒体10は、垂直磁気記録方式HDD(ハードディスクドライブ)に搭載される垂直二層媒体方式の磁気ディスクである。
以下、本発明に係る他の実施形態を、図7を参照しながら説明する。
本例において、磁気記録媒体10は、基板12、付着層14、軟磁性層16、下地層18、垂直磁気記録層30、保護層26、及び潤滑層28をこの順で備える。また、垂直磁気記録層30は、グラニュラ層20と磁気的結合層24’(連続層ではなく、単層)とを、この順に積層して備える。
本例において、基板12、付着層14、軟磁性層16、下地層18、保護層26、及び潤滑層28に関しては、上記実施形態1と同様であるので、これらの説明は省略する。
磁気的結合層の例としては、CoCr、CoCrTa、CoCrPt、CoCrPtTa、CoCrPtB等の合金系材料を挙げることができる。
磁気的結合層としては、少なくともCoCrPtが含まれていることが好ましく、CoCrPtが主体であると、グラニュラー層の高密度記録性と低ノイズ性に加えて、高熱耐性を付け加えることができる。
磁気的結合層は、磁性粒子の粒界(非磁性粒界)には金属の酸化物や窒化物を含有しない非グラニュラ構造を有する。
磁気的結合層の膜厚は、例えば1〜10nm、より好ましくは2〜9nmである。
磁気的結合層の膜厚は、グラニュラ層の膜厚の1/2以下であることが好ましく、1/3以下であることが更に好ましい。膜厚の下限は、0より大きく、磁気的結合層としての機能を発現しうる膜厚とすることが好ましい。
グラニュラ層がCoCrPt−SiO2層である場合においては、磁気的結合層の厚さをある程度厚くしないと高いSN比が得られない。しかし、磁気的結合層の厚さを厚くすると、保持力Hcが低下する。また、磁気的結合層の厚さが厚いと、厚み全体に対して特性変化させる必要あるため、イオンビーム照射による特性変化(例えば軟磁性化)が起こりにくい。
これに対し、グラニュラ層がCoCrPt−SiO2−TiO2層である場合においては、グラニュラ層がCoCrPt−SiO2層である場合に比べ、グラニュラ層における磁性粒子の粒界がよりはっきりするため、グラニュラ層がCoCrPt−SiO2層である場合に比べ保持力Hcが高くなる。したがって、磁気的結合層の厚さを従前に比べ相対的に薄くしても、相対的に高い保持力Hcが得られる。
磁気的結合層の厚さを薄くできると、イオンビーム照射による特性変化(例えば軟磁性化)が容易であることに加え、記録領域間の磁気的な分離を適切に行うことができる。そのため、例えば、磁気記録媒体をDTR媒体又はパターンド媒体として適切に機能させることができる。
(実施例1)
真空引きを行った成膜装置を用いて、DCマグネトロンスパッタリング法にて、Ar雰囲気中で、アルミノシリケートガラスの基板12上に、付着層14、及び軟磁性層16を順次成膜する。このとき、付着層14は、厚さ10nmのCrTi層となるように、CrTiターゲットを用いて成膜する。また、軟磁性層16は、全厚50nmのアモルファスCoTaZr層となるように、CoTaZrターゲットを用いて成膜する。軟磁性層16は、磁区制御のために、厚さ0.9nmのRu層を挟む二層構造とする。
カップリング制御層22及び連続膜層24を形成しない以外は実施例1と同様にして、比較例1に係る磁気記録媒体を作成する。比較例1に係る磁気記録媒体は、グラニュラ媒体である。グラニュラ媒体とは、グラニュラ層20と同一又は同様の磁性層のみで垂直磁気記録層を構成する磁気記録媒体である。このグラニュラ媒体において、グラニュラ層の膜厚は30nmである。
磁界シールド部202を形成しない以外は実施例1と同様にして、比較例2に係る磁気記録媒体を作成する。比較例2に係る磁気記録媒体は、磁界シールド部202を設けていないCGC媒体(以下、従来型CGC媒体という)である。
図6は、比較例1、2に係る磁気記録媒体に記録された情報の記録パターンのシミュレーション結果を示す。図6(a)は、比較例1に係る磁気記録媒体であるグラニュラ媒体における記録パターンを示す。
真空引きを行った成膜装置を用いて、DCマグネトロンスパッタリング法にて、Ar雰囲気中で、アルミノシリケートガラスの基板12上に、付着層14、及び軟磁性層16を順次成膜する(図7参照)。このとき、付着層14は、厚さ10nmのCrTi層となるように、CrTiターゲットを用いて成膜する。また、軟磁性層16は、全厚50nmのアモルファスCoTaZr層となるように、CoTaZrターゲットを用いて成膜する。軟磁性層16は、磁区制御のために、厚さ0.9nmのRu層を挟む二層構造とする。
磁界シールド部202を形成しない以外は実施例2と同様にして、比較例3に係る磁気記録媒体を作成する。
実施例2に係る磁気記録媒体10では、磁界シールド部202を形成することにより、磁気信号をトラックに記録する場合に、トラックの外側に広がる記録磁界を遮断して、記録磁界がトラックの外側に広がることを防止できる。これにより、実施例2においては、トラック幅の外側にグレー領域が広がることを抑えることができる。
Claims (12)
- 基板と、前記基板上に形成された磁性層を備える磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、磁気信号を記録する主記録層と、前記主記録層と磁気的に結合する補助磁性層とを有し、
前記補助磁性層は、
前記主記録層に磁気信号が記録される記録領域に対応する位置にそれぞれ形成される複数の硬磁性部と、
前記複数の硬磁性部の間に形成される磁気シールド部であって、磁化曲線を測定した場合に、印加磁場が0の領域において磁化曲線の傾きが前記硬磁性部より大きく、かつ残留磁気分極が前記硬磁性部よりも小さい磁界シールド部と
を含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - 前記磁界シールド部は、軟磁性であることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体。
- 前記磁界シールド部は、前記基板の主表面と平行な面内方向に磁化容易軸を有することを特徴とする請求項2に記載の磁気記録媒体。
- 前記磁気記録媒体は、垂直磁気記録用の磁気記録媒体であり、
前記補助磁性層の前記硬磁性部は、界面磁気異方性により垂直磁気異方性を示す磁性領域であり、
前記補助磁性層の前記磁界シールド部は、界面の状態が硬磁性部と異なり、界面磁気異方性による垂直磁気異方性を実質的に示さない磁性領域であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 前記主記録層は、磁性粒子の粒界に非磁性物質が偏析したグラニュラ構造の層であり、
前記補助磁性層の前記硬磁性部は、Co化合物の層とPd層又はPt層とを交互に積層した多層膜であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の磁気記録媒体。 - 基板と、前記基板上に形成された、磁気信号を記録する主記録層、及び前記主記録層と磁気的に結合する補助磁性層を有する磁性層とを備える磁気記録媒体の製造方法であって、
前記主記録層を形成する主記録層形成工程と、
前記補助磁性層を形成する補助磁性層形成工程と
を備え、
前記補助磁性層形成工程は、前記主記録層に磁気信号が記録される記録領域に対応する位置にそれぞれ形成される複数の硬磁性部と、前記複数の硬磁性部の間に形成される磁気シールド部であって、磁化曲線を測定した場合に、印加磁場が0の領域において磁化曲線の傾きが前記硬磁性部より大きく、かつ残留磁気分極が前記硬磁性部よりも小さい磁界シールド部とを形成する工程であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 前記補助磁性層形成工程は、硬磁性層を形成し、当該硬磁性層の一部にイオンビームを照射して、前記イオンビームが照射された領域を軟磁性化することにより、前記磁界シールド部を形成することを特徴とする請求項6に記載の磁気記録媒体の製造方法。
- 非磁性の基板上に、柱状に連続して成長した磁性粒子の間に非磁性の粒界部を形成したグラニュラー構造の磁気記録層と、磁気記録層に隣接し上記基板の面内方向に磁気的に連続した磁気的結合層とを、この順に積層した磁気ディスクであって、
上記磁気的結合層および磁気記録層のうちの少なくとも磁気的結合層は、磁気記録層に磁気信号が記録される記録領域に対応する位置にそれぞれ形成される複数の硬磁性部と、
上記隣接する硬磁性部間に形成される、磁化曲線を測定した場合に、印加磁場が0の領域において磁化曲線の傾きが上記硬磁性部より大きく、かつ、残留磁気分極が前記硬磁性部よりも小さい磁界シールド部とを有することを特徴とする磁気ディスク。 - 上記磁気的結合層における硬磁性部は、磁気記録層の磁気信号が記録される記録領域に対応する位置に形成されており、上記軟磁性部は、それ以外の領域に形成されていることを特徴とする請求項8に記載の磁気ディスク。
- 上記軟磁性部および硬磁性部は、上記円板状基板の中心に対して同心円状に形成されていることを特徴とする請求項8又は9に記載の磁気ディスク。
- 上記磁気記録層と磁気的結合層は接していることを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項に記載の磁気デ
ィスク。 - 上記磁気的結合層は少なくともCoCrPtを有することを特徴とする請求項8〜11のいずれか一項に記載の磁気ディスク。
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