JP2008213158A - 吐出ヘッド、吐出装置、吐出ヘッド製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ノズル孔はシリコン基板等の無機基板31に形成されるので、位置精度が高いだけではなく、耐久性も高い。吐出ヘッド20の吐出口23が位置する表面には、多孔質膜32が形成されているので、吐出ヘッドの耐久性が高い。多孔質膜32は表面に凹凸が形成され、吐出液はその凸部に接触して収縮するので、吐出液が吐出ヘッド表面で広がらず、吐出液の吐出精度が高い。
【選択図】図7
Description
ノズル孔を形成する加工手段としては、打ち抜き、ウェットエッチング、ドライエッチング、レーザー加工、電鋳等の手段が用いられている。
液滴の吐出口であるノズル孔の加工手段として打ち抜き、電鋳等の穴開け工法を用いると要求される精度を満足させることは困難である。レーザーによる穴加工では、高精度の加工が達成されるが、実用的な基材はポリイミド等の樹脂部材に限られてしまう。
剛性の高い基材と張り合わせた物を液滴吐出ヘッドとして用いた場合は、各基材をアッセンブルする際に吐出口の位置精度が低下してしまう。
本発明は吐出ヘッドであって、前記ノズル孔は、無機基板に形成され、前記多孔質膜は、前記無機基板の表面に配置された吐出ヘッドである。
本発明は吐出装置であって、前記吐出ヘッドを有する吐出装置である。
本発明は、吐出液室内に配置された吐出液を、前記吐出液室に接続されたノズル孔の開口である吐出口から吐出する吐出ヘッドを製造する吐出ヘッド製造方法であって、前記吐出液室と前記ノズル孔が形成された表面処理対象物の、前記吐出口が位置する表面に、無機薄膜の材料液に樹脂粒子が分散された多孔質膜原料液の層を形成した後、加熱して前記樹脂粒子が分散された薄膜を形成し、前記薄膜中の前記樹脂粒子を燃焼させて除去し、表面に凹凸を有する多孔質膜を形成する吐出ヘッド製造方法である。
本発明は吐出ヘッド製造方法であって、前記樹脂粒子が分散された薄膜を形成する際に、前記表面処理対象物の表面上の前記多孔質膜原料液の層を、前記樹脂粒子が変形しない温度に加熱する吐出ヘッド製造方法である。
本発明は吐出ヘッド製造方法であって、前記多孔質膜が形成された前記表面処理対象物を真空槽内に配置し、前記真空槽内にプラズマを形成し、前記吐出液室内と前記ノズル孔内部に形成された前記多孔質膜を前記プラズマに曝し、前記吐出液室内と前記ノズル孔内の前記多孔質膜を除去する吐出ヘッド製造方法である。
本発明は吐出ヘッド製造方法であって、前記樹脂微粒子の直径が、前記ノズル孔の直径の0.2倍以下の大きさである吐出ヘッド製造方法である。
本発明は吐出ヘッド製造方法であって、直径10μm以下の前記樹脂粒子を用いる吐出ヘッド製造方法である。
本発明は吐出ヘッド製造方法であって、前記多孔質膜の原料液は、酢酸金属溶液であることを特徴とする吐出ヘッド製造方法である。
本発明は吐出ヘッド製造方法であって、前記多孔質膜の原料液は、硫酸金属溶液であることを特徴とする吐出ヘッド製造方法である。
図4は、吐出ヘッド20の概略断面図であり、複数の吐出液室21を有している。
図2に示すように、吐出ヘッド20は吐出液供給装置13にそれぞれ接続されており、吐出液供給装置13から供給された吐出液が、図4に示す各吐出ヘッド20の吐出液室21とノズル孔22の内部に充満するように構成されている。
図1に示す吐出装置10の台11上には処理対象物14(ここではガラス基板)が配置されており、吐出された吐出液は、処理対象物14の表面に着弾する。
多孔質膜32内部の孔(空洞)35は一部が表面に露出され、その結果、多孔質膜32表面には多数の微細な凹凸が形成されている(図8(a)、(b))。
吐出ヘッド20の製造工程を説明する。
<表面処理対象基板の製造工程>
無機基板30として厚さ0.2mm程度のシリコン基板を用いる場合を説明する。
ノズル孔用レジスト膜40には、ノズル孔22が形成されるべき位置に、底面に無機基板30が露出する第一の窓開部41が形成されている。
吐出液室用レジスト膜50を剥離すると、同図(e)の符号60に示すように、表面処理対象基板(表面処理対象物)が得られる。
表面処理対象基板60の表面を露出させた状態で、熱酸化炉内に搬入し、表面処理対象基板60表面を酸化させると、図7(f)に示すように、表面処理対象基板60表面に下地酸化膜31が形成される。ここでは、下地酸化膜31は厚さ100nmのシリコン酸化物(SiO2)の薄膜である。
酢酸金属と硫酸金属のいずれか一方又は両方と、水とアルコール(メタノールやエタノール)のいずれか一方又は両方と、直径10μm以下の樹脂粒子とを含む多孔質原料液を用意する。
尚、余剰な多孔質原料液がノズル孔22内部や吐出液室21内部に入り込むと、多孔質膜32はノズル孔22内部や吐出液室21内部にも形成されてしまう。
上記方法にて得られた多孔質膜32の表面を純水にて接触角を測定したところ、120°以上の値を示し、十分な撥液性が満たされる。
上記多孔質膜32は、下記実施例に記載した工程で形成することができ、いずれの多孔質膜32も図8(a)、(b)に示すような微細凹凸を有している。
多孔質膜原料液として、0.5Mの酢酸亜鉛二水和物(関東化学社製)に樹脂粒子(ここでは、1.5重量%の直径が0.5μmのポリスチレンビーズ(JSR(株)社製))が分散された混合水溶液を用いた。
スピンコートによって形成した多孔質膜原料液の層は、先ず、100℃で1時間の第一加熱処理によって乾燥し、樹脂粒子が分散された酸化物膜(ここでは酸化クロム膜)を形成した。
なお、さらに、ハイドロフルオロエーテル溶液である住友3M社製のノベックHFE−7100(登録商標)で超音波洗浄を行うことが望ましい。
本発明に用いる無機基板30は、シリコン基板に限定されず、パイレックス(コード7740)(登録商標:コーニングインターナショナル株式会社製)等のガラス基板を用いることができる。厚さは0.15mm程度である。
次いで、吐出液室21とは反対側の面に、スパッタリング法によって、Cr薄膜を成長させ、Cr薄膜をリソグラフィーによってパターニングし、ノズル孔用レジスト膜40を形成する。
多孔質膜原料液として、1Mの酢酸アルミニウムn水和物(塩基性)(関東化学社製)と、直径1μmの樹脂粒子(ここではポリスチレンビーズ(Polyscience社製))が2.5重量%となるような混合水溶液を用いた。
この多孔質膜32の膜厚は約670nmであった。また、多孔質膜32表面の純水の接触角を測定したところ、約120°であり、十分な撥液性がしめされる。
多孔質膜原料液として、0.8Mの酢酸クロム(III)溶液(関東化学社製)と直径0.3μmの樹脂粒子(ここではポリスチレンビーズ(Polyscience社製))が1重量%のとなるような混合水溶液を用いた。
本発明は、金属酸化物(シリコン酸化物を含む)の多孔質膜32を形成するものであり、多孔質膜32と表面処理対象基板60との間の結合が強いので、物理的な磨耗に対する耐久性が確保できる。
また、樹脂粒子としては、ポリスチレンやアクリルといった樹脂材料であれば良く、そのサイズ(直径)は50nm以上10μm以下の大きさがよい。
これらの加熱工程は大気圧でも良いが、特に、樹脂粒子を焼成する温度は真空中でもよい。
この結果、吐出される液滴の位置精度および液滴特性が十分満足される吐出ヘッド20を作成することが可能となる。
Claims (10)
- 吐出液室内に配置された吐出液を、前記吐出液室に接続されたノズル孔の開口である吐出口から吐出する吐出ヘッドであって、
前記吐出口が位置する表面には表面に凹凸を有する多孔質膜が形成された吐出ヘッド。 - 前記ノズル孔は、無機基板に形成され、前記多孔質膜は、前記無機基板の表面に配置された請求項1記載の吐出ヘッド。
- 請求項1又は請求項2のいずれか1項記載の前記吐出ヘッドを有する吐出装置。
- 吐出液室内に配置された吐出液を、前記吐出液室に接続されたノズル孔の開口である吐出口から吐出する吐出ヘッドを製造する吐出ヘッド製造方法であって、
前記吐出液室と前記ノズル孔が形成された表面処理対象物の、前記吐出口が位置する表面に、無機薄膜の材料液に樹脂粒子が分散された多孔質膜原料液の層を形成した後、加熱して前記樹脂粒子が分散された薄膜を形成し、
前記薄膜中の前記樹脂粒子を燃焼させて除去し、表面に凹凸を有する多孔質膜を形成する吐出ヘッド製造方法。 - 前記樹脂粒子が分散された薄膜を形成する際に、前記表面処理対象物の表面上の前記多孔質膜原料液の層を、前記樹脂粒子が変形しない温度に加熱する請求項4記載の吐出ヘッド製造方法。
- 前記多孔質膜が形成された前記表面処理対象物を真空槽内に配置し、前記真空槽内にプラズマを形成し、
前記吐出液室内と前記ノズル孔内部に形成された前記多孔質膜を前記プラズマに曝し、前記吐出液室内と前記ノズル孔内の前記多孔質膜を除去する請求項4又は請求項5のいずれか1項記載の吐出ヘッド製造方法。 - 前記樹脂微粒子の直径が、前記ノズル孔の直径の0.2倍以下の大きさである請求項4乃至請求項6のいずれか1項記載の吐出ヘッド製造方法。
- 直径10μm以下の前記樹脂粒子を用いる請求項4乃至請求項7のいずれか1項記載の吐出ヘッド製造方法。
- 前記多孔質膜の原料液は、酢酸金属溶液であることを特徴とする請求項4乃至請求項8のいずれか1項記載の吐出ヘッド製造方法。
- 前記多孔質膜の原料液は、硫酸金属溶液であることを特徴とする請求項4乃至請求項8のいずれか1項記載の吐出ヘッド製造方法。
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