JP2011051274A - 液体噴射ヘッド、及び、液体噴射ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】結晶性基材から成り、インクを噴射するノズル8がエッチング加工により開設されたノズル基板を有し、ノズルは、結晶性基材の板厚方向に同軸上で連続し直径の異なる複数のノズル部から成り、各ノズル部のうち最も噴射側に位置する第1の直径D1の第1ノズル部8aと、当該第1ノズル部に連続し第1の直径よりも大きい第2の直径D2の第2ノズル部8bとの径差が、第1の直径に対して0.1以上0.4以下である。
【選択図】図3
Description
前記ノズルは、結晶性基材の板厚方向に同軸上で連続し直径の異なる複数のノズル部から成り、
前記各ノズル部のうち最も噴射側に位置する第1の直径の第1ノズル部と、当該第1ノズル部に連続し前記第1の直径よりも大きい第2の直径の第2ノズル部との径差が、前記第1の直径に対して0.1以上0.4以下であることを特徴とする。
結晶性基材に対し、板厚方向に同軸上で連続し直径の異なる複数のノズル部を形成するノズル形成工程を含み、
前記ノズル形成工程において、前記各ノズル部のうち最も噴射側に位置する第1の直径の第1ノズル部と、当該第1ノズル部に連続し前記第1の直径よりも大きい第2の直径の第2ノズル部との径差が、前記第1の直径に対して0.1以上0.4以下に設定されることを特徴とする。
図4は、ノズル形成工程の流れを説明する要部断面図である。まず、ノズル基板3となるシリコン基板17の表面(圧力室側となる面)全体にフォトレジスト18が成膜され、その上に第1ノズル穴パターン用のマスク19が形成される(図4(a))。次に、このマスク19を介してフォトレジスト18に対して露光および現像が行われ、第1ノズル部8aに対応する部分に開口20が設けられたレジストパターンが形成される(図4(b))。そして、上記レジストパターンをエッチングマスクとしてシリコン基板17に対し異方性ドライエッチングが行われ、直径D1の第1ノズル部8aが形成される。その後、レジストパターンが除去される(図4(c))。なお、ノズル部の直径は、マスクに設けられる開口の大きさによって調整される。
なお、図の上側が圧力室側、下側が噴射側(記録紙等の噴射対象側)となる。ノズル8からインクを噴射する際には、まず、上記圧力発生手段の作動により圧力室5が膨張されて当該圧力室内が減圧され、これにより、定常状態ではノズル8の噴射側開口近傍に位置するメニスカスが圧力室側に引き込まれる(図5(a)、図5(b))。そして、メニスカスのノズル内壁と接触している部分が第1ノズル部8aと第2ノズル部8bとの境界近傍まで移動した時点で、膨張状態の圧力室5が急激に収縮されて圧力室内が加圧される。これにより、メニスカスの中央部が盛り上がり、噴射側に押し出される(図5(c))。その後、噴射するインク滴とメニスカスとを分離させるべく、再度圧力室5が膨張される(図5(d))。その後、圧力室5が定常容積まで復帰され、ノズル8からは規定量のインクが噴射される(図5(e))。
Claims (4)
- 結晶性基材から成り、液体を噴射するノズルがエッチング加工により開設されたノズル基板を有し、
前記ノズルは、結晶性基材の板厚方向に同軸上で連続し直径の異なる複数のノズル部から成り、
前記各ノズル部のうち最も噴射側に位置する第1の直径の第1ノズル部と、当該第1ノズル部に連続し前記第1の直径よりも大きい第2の直径の第2ノズル部との径差が、前記第1の直径に対して0.1以上0.4以下であることを特徴とする液体噴射ヘッド。 - 前記第1ノズル部から遠い位置にあるノズル部ほど直径が大きいことを特徴とする請求項1に記載の液体噴射ヘッド。
- 隣り合うノズル部の径差が、前記第1ノズル部から遠いほど大きいことを特徴とする請求項2に記載の液体噴射ヘッド。
- 結晶性基材から成り、液体を噴射するノズルが開設されたノズル基板を有する液体噴射ヘッドの製造方法であって、
結晶性基材に対し、板厚方向に同軸上で連続し直径の異なる複数のノズル部をエッチング加工により形成するノズル形成工程を含み、
前記ノズル形成工程において、前記各ノズル部のうち最も噴射側に位置する第1の直径の第1ノズル部と、当該第1ノズル部に連続し前記第1の直径よりも大きい第2の直径の第2ノズル部との径差が、前記第1の直径に対して0.1以上0.4以下に設定されることを特徴とする液体噴射ヘッドの製造方法。
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