JP2008201129A - インクジェット記録ヘッドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インクを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を一方の面側に有する基板と、基板の一方の面から一方の面の裏面である他方の面へと貫通して設けられ、インクを供給するための供給口と、を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、一方の面側の開口と他方の面側の開口間を貫通し供給口となる貫通孔と、貫通孔の他方の面側の開口の領域内にまで張り出した第1の保護層と、を有する基板を用意する工程と、少なくとも第1の保護層の他方の面側の開口の領域内にまで張り出した部分と貫通孔の内壁とを連続して被覆するように第2の保護層を形成する工程と、第2の保護層のうち一方の面側の開口に対応する部分を除去する工程と、を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【選択図】図2
Description
前記基板の一方の面から前記一方の面の裏面である他方の面へと貫通して設けられ、インクを供給するための供給口と、
を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
前記一方の面側の開口と前記他方の面側の開口間を貫通し前記供給口となる貫通孔と、前記貫通孔の前記他方の面側の開口の領域内にまで張り出した第1の保護層と、を有する基板を用意する工程と、
少なくとも前記第1の保護層の前記他方の面側の開口の領域内にまで張り出した部分と前記貫通孔の内壁とを連続して被覆するように第2の保護層を形成する工程と、
前記第2の保護層のうち前記一方の面側の開口に対応する部分を除去する工程と、
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
図1は、本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法の一例を工程順に説明する模式的断面図であり、図5におけるI−I’を通り基板に垂直な面の位置で見た図である。
図1、2を参照して実施例について説明する。
まず、厚さ400μmの基板1を準備し、この基板1の一方の面上に熱CVD法により厚さ0.45μmのSiO2からなる素子絶縁膜3を形成した。次に、汎用の半導体プロセス技術によりエネルギー発生素子2を形成した後、プラズマCVD法により厚さ0.3μmのSiNからなる素子保護膜4を形成した(図1(a))。
使用装置:ICP−RIEエッチング装置
使用ガス:SF6(10〜200sccm)とO2(0.5〜60sccm)の混合ガス。
使用装置:日立製作所製M318
使用ガス:酸素 50sccm。
2 吐出圧力発生素子
3 素子絶縁膜
4 素子保護膜
5 流路用型材
6 オリフィスプレート
7 第1の保護層
8 第2の保護層
12 開口
13 スルーホール
14 裏面
16 オリフィス
Claims (7)
- インクを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を一方の面上に有する基板と、
前記基板の一方の面から前記一方の面の裏面である他方の面へと貫通して設けられ、インクを供給するための供給口と、
を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
前記一方の面側の開口と前記他方の面側の開口間を貫通し前記供給口となる貫通孔と、前記貫通孔の前記他方の面側の開口の領域内にまで張り出した第1の保護層と、を有する基板を用意する工程と、
少なくとも前記第1の保護層の前記他方の面側の開口の領域内にまで張り出した部分と前記貫通孔の内壁とを連続して被覆するように第2の保護層を形成する工程と、
前記第2の保護層のうち前記一方の面側の開口に対応する部分を除去する工程と、
を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記第2の保護層のうち、前記一方の面側の開口に対応する部分と前記第1の保護層の前記他方の面側の開口の領域内にまで張り出した部分を覆っている箇所の一部とを一括してエッチングして除去することを特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記第2の保護層はポリパラキシリレンで形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記第1の保護層は酸化シリコンで形成されることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記第1の保護層はSiON、SiN、SiC、又はSiOCで形成されることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記基板を用意する工程において、前記基板の一方の面上に第1の層を有する基板を用意し、
前記第2の保護層を形成する工程において、前記基板上に設けられた第1の層に接触させるように第2の保護層を形成することを特徴とする請求項1から5の何れか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記エッチングはドライエッチングであり、前記他方の面側から前記基板の全体にわたって前記ドライエッチングを行うことにより、内壁が被覆された前記貫通孔を形成することを特徴とする請求項2に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
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