JP2008195691A - 4−フルオロ−1,3−ジオキソラン−2−オンの製造法 - Google Patents
4−フルオロ−1,3−ジオキソラン−2−オンの製造法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】特定の4級アンモニウムカチオンとハロゲンアニオンとの化合物を触媒とし、4−クロロ−1,3−ジオキソラン−2−オンを有機溶媒中にて金属フッ化物によりフッ素化して4−フルオロ−1,3−ジオキソラン−2−オンを製造する。
【選択図】なし
Description
式(1):
R4N+X- (1)
(式中、Rは炭素数1〜7のアルキル基、フェニル基、ベンジル基またはシクロアルキル基;Xはハロゲン原子)で示される4級アンモニウムカチオンとハロゲンアニオンとの化合物を触媒とし、4−クロロ−1,3−ジオキソラン−2−オン(Cl−EC)を有機溶媒中にて金属フッ化物によりフッ素化することを特徴とする4−フルオロ−1,3−ジオキソラン−2−オン(F−EC)の製造法に関する。
式(1):
R4N+X- (1)
で示される4級アンモニウムカチオンとハロゲンアニオンとの化合物である。
装置:BRUKER製のAC−300
測定条件:
19F−NMR:282MHz(トリフルオロメチルベンゼン=−62.3ppm)
1H−MNR:300MHz(トリフルオロメチルベンゼン=7.51ppm)
装置:島津製作所製のGC−17A
カラム:DB624(J&Wサイエンティフィック社製)
測定条件:100℃→5分間保持→10℃/分で昇温→230℃
撹拌装置を備えた30mlのガラス製3口フラスコの上部に還流管を取り付け、スプレー乾燥したフッ化カリウム2.85g(49.0mmol)を加え、真空下で攪拌しながらフレームドライにより水分除去を行った。その後シリンジを用いてアセトニトリル15ml、Cl−EC5g(40.6mmol)、テトラブチルアンモニウムフルオライド−THF溶液(1mol/l)4.9ml(4.90mmol)を加えて攪拌した。反応温度80℃で反応を行い進行はGCを用いて分析した。反応は4時間で終了し、原料のピークの消失を確認した。反応終了後、反応溶液を純水で再沈を行い下層の溶液を採取した。採取後蒸留により精製を行い、85℃(100mmHg)の留分として、収率85%、GC純度99.8%でF−ECが得られた。
19F−NMR:(重アセトン):−122.6〜−122.3ppm(1F,m)
1H−NMR:(重アセトン):4.54〜4.91ppm(2H,m)、6.42〜6.68ppm(1H,dd)
撹拌装置を備えた30mlのガラス製3口フラスコの上部に還流管を取り付け、粉末のフッ化カリウム2.85g(49.0mmol)を加え、真空下で攪拌しながらフレームドライにより水分除去を行った。その後シリンジを用いてアセトニトリル15ml、Cl−EC5g(40.6mmol)、テトラブチルアンモニウムフルオライド−THF溶液(1mol/l)4.9ml(4.90mmol)を加えて攪拌した。反応温度80℃で反応を行い進行はGCを用いて分析した。反応は9時間で終了し、原料のピークの消失を確認した。反応終了後、反応溶液を純水で再沈を行い下層の溶液を採取した。採取後蒸留により精製を行い、85℃(100mmHg)の留分として、収率85%、GC純度99.8%でF−ECが得られた。
撹拌装置を備えた30mlのガラス製3口フラスコの上部に還流管を取り付け、スプレー乾燥したフッ化カリウム2.85g(49.0mmol)を加え、真空下で攪拌しながらフレームドライにより水分除去を行った。その後シリンジを用いてN−メチルピロリドン15ml、Cl−EC5g(40.6mmol)、テトラブチルアンモニウムフルオライド−THF溶液(1mol/l)4.9ml(4.90mmol)を加えて攪拌した。反応温度80℃で反応を行い進行はGCを用いて分析した。反応は8時間で終了し、原料のピークの消失を確認した。反応終了後、反応溶液を純水で再沈を行い下層の溶液を採取した。採取後蒸留により精製を行い、85℃(100mmHg)の留分として、収率85%、GC純度99.8%でF−ECが得られた。
Claims (7)
- 式(1):
R4N+X- (1)
(式中、Rは炭素数1〜7のアルキル基、フェニル基、ベンジル基またはシクロアルキル基;Xはハロゲン原子)で示される4級アンモニウムカチオンとハロゲンアニオンとの化合物を触媒とし、4−クロロ−1,3−ジオキソラン−2−オンを有機溶媒中にて金属フッ化物によりフッ素化することを特徴とする4−フルオロ−1,3−ジオキソラン−2−オンの製造法。 - 4級アンモニウムカチオンとハロゲンアニオンとの化合物が、式(1)において、Rが炭素数1〜7のアルキル基である化合物である請求項1記載の製造法。
- 4級アンモニウムカチオンとハロゲンアニオンとの化合物を構成するハロゲン原子が、フッ素原子である請求項1または2記載の製造法。
- 有機溶媒が非プロトン性溶媒である請求項1〜3のいずれかに記載の製造法。
- 有機溶媒が、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミドまたはN,N−ジメチルアセトアミドである請求項4記載の製造法。
- 金属フッ化物が、アルカリ金属フッ化物である請求項1〜5のいずれかに記載の製造法。
- 4級アンモニウムカチオンとハロゲンアニオンとの化合物を金属フッ化物の0.01〜0.5等量使用する請求項1〜6のいずれかに記載の製造法。
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