JP2008187179A - 複数のｖｈｆ源の電力を配分することによる、ウエハ全体のプラズマプロセス均一性の改善 - Google Patents

複数のｖｈｆ源の電力を配分することによる、ウエハ全体のプラズマプロセス均一性の改善 Download PDF

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