JP2008166823A - 半導体パッケージ及びこれを搭載するためのモジュールプリント回路基板 - Google Patents

半導体パッケージ及びこれを搭載するためのモジュールプリント回路基板 Download PDF

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Abstract

【課題】半導体パッケージ及びこれを搭載するためのモジュールプリント回路基板を提供する。
【解決手段】基板と、基板の第1領域に形成された第1型パッド構造物と、基板の第2領域に形成された第2型パッド構造物と、を含む。第1型パッド構造物は、基板上に形成された第1導電性パッドと、基板上に塗布され、第1導電性パッドの側壁の一部分が露出されたオープニングを有し、第1導電性パッドの一部を覆う第1絶縁膜と、を含むことができる。第2型パッド構造物は、基板上に塗布され、第2オープニングを有する第2絶縁膜と、第2オープニング内の基板上に形成され、側壁が露出された第2導電性パッドと、を含むことができる。このような構造によれば、物理的ストレス及び熱的ストレスに対する信頼性の優れた構造を採択することで、半導体パッケージとモジュールプリント回路基板100のストレスに対する信頼性を高めることができる。
【選択図】図10

Description

本発明は、半導体装置に関し、より詳細には、半導体パッケージ及びこれを搭載するためのモジュールプリント回路基板に関する。
近来の半導体製品は、マルチメディア化及びデジタル化の拡大に伴い、大容量、高速動作、多機能、小型化及び低消費電力への要求が次第に高まっている。それによって、微細ピッチ(fine pitch)及びハイピン(high pin)化が進行されており、半導体パッケージ(package)は、基板を使用するボールグリッドアレイ(BGA:Ball Grid Array)パッケージに転換される傾向である。BGAパッケージには、マイクロBGA(micro BGA)、ワイヤボンディングBGA(WBGA:Wire Bonding BGA)、ボードオンチップ(BOC:Board On Chip)などがある。
ボールアレイ(ball array)形態を有するパッケージは、外部リード(outer lead)を使用して基板と連結する代わりに、ソルダボール(solder ball)を基板に付着して製造され、一つのモジュールプリント回路基板に一般的に2〜32個のBGA製品が装着される。
図1は、従来の半導体パッケージを搭載するためのモジュールプリント回路基板を示す図である。
図1を参照すると、プリント回路基板10は、回路基板12に半導体パッケージが在置されるマウント領域(mount region)14が形成されており、前記マウント領域14には、半導体パッケージと接続される複数のパッド20が形成されている。前記マウント領域14のパッド配列は、搭載される半導体パッケージによって多様に変形設計されることができる。例えば、図示されたように、マウント領域14の両側にパッドが一列に配列されることができ、中央に配列されたり、マトリックス形状でパッドが配列されることもできる。
プリント回路基板10だけでなく半導体パッケージにも、プリント回路基板10に配列されたパッド20に対応する位置にパッドが形成されている。半導体パッケージとプリント回路基板との接続のためのパッドは、SMD(Solder Mask Defined)構造とNSMD(Non Solder Mask Defined)構造とに区分できる。
図2A及び図2Bは、各々NSMD構造のパッドの平面図とそれのI−I’線断面図である。
図2A及び図2Bを参照すると、NSMD構造のパッド20は、回路基板12上にオープニングを有するように塗布されたPSR(Photo Solder Resist)22と前記オープニング内の回路基板12に形成された導電性パッド24とを含む。NSMD構造において、導電性パッド24の側壁は、PSR22の側壁から所定間隔Wa離隔して配置されることで、オープニング内に露出される。
NSMD構造のパッドは、導電性パッド24がPSR22から所定間隔Wa離隔しているため、熱的ストレス(thermal stress)に対する信頼度が高い反面、導電性パッド24の結合力が弱くて、物理的ストレスに対して弱いという短所がある。半導体パッケージが搭載されたモジュールプリント回路基板は、柔軟な材質で形成されるので、基板の曲がり(bending)及びツイスト(twist)により、NSMD構造のパッドにおいて、導電性パッドが分離されたり、パッドと接触した回路基板にクラックが発生する可能性がある。
図3A及び図3Bは、各々SMD構造のパッドの平面図とそれのII−II’線断面図である。
図3A及び図3Bを参照すると、SMD構造のパッドは、PSR32が塗布された回路基板12に導電性パッド34が形成されており、PSR32は導電性パッド34の一部分上に重なっている。導電性パッド34のエッジ部分の所定幅Wbと側壁とがPSR32で覆われているので、SMD構造のパッド30は、物理的ストレスに対する信頼度が高い反面、導電性パッド34とPSR32との接触面に熱的ストレスが集中され、信頼性が落ちるという短所がある。
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、半導体パッケージとモジュールプリント回路基板のストレスに対する信頼性を高めるために、物理的ストレス及び熱的ストレスに対する信頼性の優れたパッド構造を有する半導体パッケージ及びモジュールプリント回路基板を提供することにある。
上記目的を達成すべく、本発明の好ましい実施の形態による半導体パッケージは、半導体チップとモジュールプリント回路基板とを接続するパッケージ基板と、前記パッケージ基板の第1領域に形成された第1型パッド構造物と、前記パッケージ基板の第2領域に形成された第2型パッド構造物と、を含む。前記第1型パッド構造物は、前記パッケージ基板上に形成された第1導電性パッドと、前記パッケージ基板上に塗布され、前記第1導電性パッドの側壁の一部分が露出されたオープニングを有し、前記第1導電性パッドの一部を覆う第1絶縁膜と、を含むことができる。
前記第2型パッド構造物は、前記パッケージ基板上に塗布され、第2オープニングを有する第2絶縁膜と、前記第2オープニング内の前記パッケージ基板上に形成され、側壁が露出された第2導電性パッドと、を含むことができる。
本発明の好ましい実施の形態によるモジュールプリント回路基板は、回路基板と、前記回路基板に形成され、半導体パッケージが在置されるマウント領域と、を含む。前記マウント領域の第1領域に第1型パッド構造物が形成されており、前記マウント領域の第2領域に第2型パッド構造物が形成されている。
前記第1型パッド構造物は、前記回路基板上に形成された第1導電性パッドと、前記回路基板上に塗布され、前記第1導電性パッドの側壁の一部分が露出された第1オープニングを有し、前記第1導電性パッドの一部を覆う第1絶縁膜と、を含むことができる。
前記第2型パッド構造物は、前記回路基板上に塗布され、第2オープニングを有する第2絶縁膜と、前記第2オープニング内の前記回路基板上に形成され、側壁が露出された第2導電性パッドと、を含むことができる。
本発明の一実施の形態で、前記回路基板は、複数のマウント領域を含むことができる。最外郭のマウント領域は、第1領域に第3型のパッド構造物が形成され、第2領域に第2型のパッド構造物が形成されることができる。前記第3型のパッド構造物は、前記回路基板上に形成された第3導電性パッド及び前記回路基板上に塗布され、前記第3導電性パッドのエッジ上に重なった第3絶縁膜とを含むことができる。一方、前記最外郭マウント領域の間の内側マウント領域には、第1領域に前記第1パッド構造物が形成されることができ、第2領域に前記第2パッド構造物が形成されることができる。
本発明によれば、物理的ストレス及び熱的ストレスに対する信頼性の優れた構造を採択することで、半導体パッケージとモジュールプリント回路基板のストレスに対する信頼性を高めることができる。
また、物理的ストレスに弱い領域には、物理的ストレスに対する信頼性の優れた構造のパッドを形成し、熱的ストレスに弱い領域には、熱的ストレスに対する信頼性の優れた構造のパッドを形成することで、半導体パッケージが搭載されたモジュールプリント回路基板のストレスに対する信頼性を高めることができる。
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。しかしながら、本発明は、ここで説明される実施形態に限定されずに他の形態に具体化され得る。むしろ、ここで紹介される実施形態は、開示される内容が徹底且つ完全になるように、そして当業者に本発明の思想が十分に伝達されるように提供されるものである。図面において、層及び領域の厚さは、明確性のために誇張されている。尚、層が他の層または基板「上」にあると記載される場合、それは他の層または基板上に直接形成されるかまたはそれらの間に第3の層が介在され得る。明細書全体において、同じ参照符号で示す部分は、同じ構成要素を示す。
図4は、本発明の好ましい実施の形態による半導体パッケージ及びモジュールプリント回路基板のマウント領域を示す平面図である。
図4を参照すると、半導体パッケージ及びモジュールプリント回路基板のマウント領域は、基板50にパッドが形成された第1領域及び第2領域を含むことができる。前記第1領域は、少なくとも基板50の角領域50eを含み、前記第2領域は、少なくとも基板50の中央領域50cを含むことができる。前記第1領域に配列されたパッドは、第1型のパッド構造60(図5A参照)を有することができ、第2領域に配列されたパッドは、第2型のパッド構造20(図6参照)を有することができる。
前記角領域50eの間の側面領域50sは、場合によって第1領域になることもでき、第2領域になることもできる。前記基板50には、複数のパッドが配列され得る。前記パッドは、一方向にコラム形状で配列されるか、またはマトリックス形状で配列され得る。例えば、前記側面領域50sは、第2領域になり、第2型のパッド構造物20が前記側面領域50sに形成され得る。他の例として、前記側面領域50sは第1領域になり、第1型のパッド構造物60が形成され得る。本発明で、第1型のパッド構造物60は、少なくとも物理的ストレスに対する信頼性の優れた構造であり、第2型のパッド構造物20は、熱的ストレスに対する信頼性の優れた構造である。従って、物理的ストレスに弱い領域には、第1型のパッド構造物60が形成され、熱的ストレスに弱い領域には、第2型のパッド構造物20が形成される。
図5Aは、第1実施の形態による第1型のパッド構造物を示す平面図であり、図5Bは、図5AのIII-III’線断面図である。
図5A及び図5Bを参照すると、第1型のパッド構造物60は、基板50上に形成された絶縁膜62、導電性パッド64を含む。前記導電性パッド64は、円形の平面構造を有し得る。前記絶縁膜62は、前記導電性パッド64の一部分が露出されたオープニングを有する。前記オープニングは、前記絶縁膜62の側壁62eにより境界が定義される。前記絶縁膜62は、前記導電性パッド64の一部分上に所定幅W3だけ重なり、所定領域Raで、前記導電性パッド64の側壁64eの一部分は前記絶縁膜の側壁62eから所定間隔W2だけ離隔して、前記オープニング内に露出される。
第1型のパッド構造物60は、SMD構造とNSMD構造が組み合わせられた構造である。即ち、前記導電性パッド64上に絶縁膜62が重なった部分はSMD構造に該当し、前記導電性パッド64の側壁が露出された部分はNSMD構造に該当し得る。従って、第1型のパッド構造物60は、導電性パッド64と絶縁膜62とが接触して、物理的ストレスに対する信頼性を有することができ、所定領域Raで前記導電性パッド64に側壁の一部分が露出され、前記絶縁膜62から離隔することで、この部分を介して熱的ストレスが緩和されて、ストレスに対する信頼性を有することもできる。
本発明において、前記第2型のパッド構造物20は、熱的ストレスに対する信頼性の優れた従来のNSMD構造と同一である。即ち、図2A及び図2Bに図示されたように、導電性パッド24は、PSRのような絶縁膜22のオープニング内に形成されて、絶縁膜22から所定間隔Waだけ離隔する。
図6に示すように、本発明の半導体パッケージは、基板50の少なくとも角領域50eに形成された第1型のパッド構造物60と他の領域に形成された第2型パッド構造物20とを含むことができる。
図7Aは、第2実施の形態による第1型のパッド構造物を示す平面図であり、図7Bは、図7AのIV-IV’線断面図である。
図7A及び図7Bを参照すると、第1型のパッド構造物70は、パッケージ基板71上に形成された導電性パッド74と、前記パッケージ基板71上に形成されて導電性パッド74の一部分を覆う絶縁膜72を含むことができる。前記導電性パッド74は、銅及び前記銅上に形成されたニッケル及び金を含むことができる。前記導電性パッド74は、中心部74aと前記中心部74aを囲む周辺部74bとを含むことができる。前記周辺部74bは、前記中心部74aに比べて薄い厚さを有し得る。前記絶縁膜72は、前記周辺部74bの一部分に重なり、前記絶縁膜72の境界72eは、前記中心部74aの側壁74cから所定幅だけ離隔し、前記周辺部74bの側壁74eは、前記絶縁膜72に覆われる。
第2実施の形態の第1型のパッド構造物70で、前記導電性パッド74が露出されたオープニングは、図5A及び図5Bに図示されたように、導電性パッド74の側壁74eの一部分が露出された平面構造を有することができる。従って、前記周辺部74bの側壁74eの一部分は、前記絶縁膜72で覆われ、他の一部分は前記絶縁膜72から所定間隔だけ離隔して、オープニング内に露出され得る。
図8及び図9は、各々本発明の第3実施の形態及び第4実施の形態による第1型のパッド構造物を示す平面図である。
図8を参照すると、第3実施の形態による第1型のパッド構造物80は、基板上に形成された導電性パッド84と前記導電性パッド84の一部分を覆う絶縁膜82とを含む。前記導電性パッド84は、中心から外部に伸びた複数のリード84aを含む。前記導電性パッド84の側壁84eの一部分は、前記絶縁膜82の境界82eから離隔して、前記絶縁膜82により定義されたオープニング内に露出され得る。前記絶縁膜82は、前記リード84aの端部に重なり、前記リード84aの端部で、前記導電性パッド84の側壁84eは前記絶縁膜82に接触する。
図9を参照すると、第4実施の形態による第1型のパッド構造物90は、前記第3実施の形態による第1型のパッド構造物80と同様に、中央から外部に伸びた複数のリード94aを有する導電性パッド94を含む。基板上に塗布された絶縁膜92は、前記リード94aの端部と重なり、前記導電性パッド94から所定間隔離隔した境界92eを有する。前記絶縁膜92の境界92eはオープニングを定義し、前記オープニング内に前記導電性パッド94の側壁の一部が露出される。
第3実施の形態とは異なり、第4実施の形態は、前記絶縁膜92下部の前記リード94aの端部が連結されたことを特徴とする。
図10を参照して後述するように、本発明の好ましい実施の形態によるモジュールプリント回路基板100は、複数のマウント領域104c、104eを含むことができ、前記モジュールプリント回路基板100のマウント領域104c、104eは、全て前記第1領域及び第2領域に区分でき、各々の第1領域には、第1〜第4実施の形態の第1型のパッド構造物60−90のうち何れか一つが形成され、各々の第2領域には、第2型のパッド構造物20が形成されることができる。しかし、モジュールプリント回路基板100に形成されたマウント領域104c、104eの位置によって、形成されるパッド108a−108cの構造が異なり得る。
図10は、本発明の好ましい実施の形態によるモジュールプリント回路基板を示す図である。
図10を参照すると、モジュールプリント回路基板100は、回路基板102と前記回路基板102に形成されて半導体パッケージが在置される複数のマウント領域104c、104eとを含む。前記マウント領域104c、104eは、各々前記第1型のパッド構造物60−90のうち何れか一つが形成される第1領域と前記第2型のパッド構造物20が形成される第2領域とに区分できる。内側マウント領域104cに比べて回路基板102のエッジに位置する最外郭マウント領域104eは、回路基板102の曲がりまたはツイストによる物理的ストレスに弱い部分である。本発明において、最外郭マウント領域104eの角領域106bに形成されたパッド108bは、図3A及び図3Bに図示されたSMD構造の第3型のパッド構造物30であり、最外郭マウント領域104eの側面領域106dに形成されたパッド108dは、図2A及び図2Bに図示されたNSMD構造の第2型のパッド構造物20であり得る。前記最外郭マウント領域104eの角領域106bに形成されたパッド108bは、SMD構造でなく前記第1型のパッド構造物60−90のうち何れか一つでもあり得る。
前記最外郭マウント領域104eの間の前記内側マウント領域104cの角領域106aに形成されるパッド108aは、前記第1型のパッド構造物60−90のうち何れか一つであり、前記内側マウント領域104cの側面領域106cに形成されたパッド108cは、第2型のパッド構造物20であり得る。
本発明において、第3型のパッド構造物30が形成された最外郭マウント領域104eは、回路基板102のエッジ部分のマウント領域の一つまたはそれ以上でもあり得る。即ち、回路基板102が薄膜化し、搭載される半導体チップの個数が増加すると、回路基板102のエッジ部分で、複数の最外郭マウント領域104eを選択して、第3型のパッド構造物30を配置できるであろう。
また、本発明において、前記内側マウント領域104cの側面領域106cと異なり、前記最外郭マウント領域104eの側面領域106dには、前記第1型パッド構造物60−90のうち何れか一つまたは前記第3型のパッド構造物30が配置されるようにもできる。
図10では、マウント領域104c、104eのエッジに平行にコラム形状で配列されたパッド108a−108dが図示されているが、前記マウント領域104c、104eには、パッド108a−108dがマトリックス形状で配列されるよう設計できる。後者の場合、各マウント領域104c、104eのエッジに配置されるパッド108a−108dは、第1型のパッド構造物60−90のうち何れか一つであり、中央領域に配置されるパッド108a−108dは、第2型のパッド構造物20であり得る。他の実施の形態として、回路基板102の最外郭マウント領域104eのエッジに配置されるパッド108bは、前記第3型のパッド構造物30であり、内側マウント領域104cのエッジに配置されるパッド108aは、第1型のパッド構造物60−90のうち何れか一つであり得る。さらに、前記最外郭マウント領域104eの中央部分に配置されるパッド108dも、第1型のパッド構造物60−90のうち一つであり得る。このようなパッド構造を有することで、回路基板102のエッジには、物理的ストレスに対する信頼性の優れた第1型のパッド構造物60−90または第3型のパッド構造物30が形成されることができ、回路基板102の中央部分には、熱的ストレスに対する信頼性の優れた第2型のパッド構造物20が形成され、物理的ストレスに弱い部分には、第1型のパッド構造物60−90が形成され得る。
上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。
一般的なモジュールプリント回路基板を示す図である。 一般的なパッド構造を示す平面図である。 図2Aの断面図である。 一般的なパッド構造を示す平面図である。 図3Aの断面図である。 本発明の好ましい実施の形態による半導体パッケージまたはモジュールプリント回路基板のマウント領域を示す図である。 本発明の第1実施の形態によるパッド構造を示す図である。 本発明の第1実施の形態によるパッド構造を示す図である。 本発明の好ましい実施の形態による半導体パッケージまたはモジュールプリント回路基板のマウント領域の一部を示す図である。 本発明の第2実施の形態によるパッド構造を示す図である。 本発明の第2実施の形態によるパッド構造を示す図である。 本発明の第3実施の形態によるパッド構造を示す図である。 本発明の第4実施の形態によるパッド構造を示す図である。 本発明の好ましい実施の形態によるモジュールプリント回路基板を示す図である。
符号の説明
100 モジュールプリント回路基板
102 回路基板
104c、104e マウント領域
106a、106b 角領域
106c、106d 側面領域
108a〜108d パッド

Claims (19)

  1. パッケージ基板と、
    前記パッケージ基板の第1領域に形成された第1型パッド構造物と、
    前記パッケージ基板の第2領域に形成された第2型パッド構造物と、を含み、
    前記第1型パッド構造物は、前記パッケージ基板上に形成された第1導電性パッドと、前記パッケージ基板上に塗布され、前記第1導電性パッドの側壁の一部分が露出されたオープニングを有し、前記第1導電性パッドの一部を覆う第1絶縁膜と、を含み、
    前記第2型パッド構造物は、前記パッケージ基板上に塗布され、第2オープニングを有する第2絶縁膜と、前記第2オープニング内の前記パッケージ基板上に形成され、側壁が露出された第2導電性パッドと、を含むことを特徴とする半導体パッケージ。
  2. 前記第1領域は、前記パッケージ基板のエッジ領域であり、
    前記第2領域は、前記パッケージ基板の中央領域であることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
  3. 前記第1領域は、前記パッケージ基板の角領域であり、
    前記第2領域は、前記角領域の間の側面領域であることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
  4. 前記第1導電性パッドは、中心から伸びた複数のリードを含み、
    前記第1絶縁膜は、前記リード上に重なり、前記第1オープニングに前記リードの間の側壁が露出されることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
  5. 前記第1絶縁膜下部で、前記リードは互いに連結されることを特徴とする請求項4に記載の半導体パッケージ。
  6. 前記第1導電性パッドは、中心部、及び前記中心部の周りに前記中心部より低い周辺部を含み、
    前記第1絶縁膜は、前記周辺部の一部と重なり、前記中心部の側壁は、前記第1オープニング内に露出されることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケージ。
  7. 回路基板と、
    前記回路基板に形成され、半導体パッケージが在置されるマウント領域と、
    前記マウント領域の第1領域に形成された第1型パッド構造物と、
    前記マウント領域の第2領域に形成された第2型パッド構造物と、を含み、
    前記第1型パッド構造物は、前記回路基板上に形成された第1導電性パッドと、前記回路基板上に塗布され、前記第1導電性パッドの側壁の一部分が露出された第1オープニングを有し、前記第1導電性パッドの一部を覆う第1絶縁膜と、を含み、
    前記第2型パッド構造物は、前記回路基板上に塗布され、第2オープニングを有する第2絶縁膜と、前記第2オープニング内の前記回路基板上に形成され、側壁が露出された第2導電性パッドと、を含むことを特徴とするモジュールプリント回路基板。
  8. 前記第1領域は、前記マウント領域のエッジ領域であり、
    前記第2領域は、前記マウント領域の中央領域であることを特徴とする請求項7に記載のモジュールプリント回路基板。
  9. 前記第1領域は、前記マウント領域の角領域であり、
    前記第2領域は、前記角領域の間の側面領域であることを特徴とする請求項7に記載のモジュールプリント回路基板。
  10. 前記第1導電性パッドは、中心から伸びた複数のリードを含み、
    前記第1絶縁膜は、前記リード上に重なり、前記第1オープニングに前記リードの間の側壁が露出されることを特徴とする請求項7に記載のモジュールプリント回路基板。
  11. 前記第1絶縁膜下部で前記リードは互いに連結されることを特徴とする請求項10に記載のモジュールプリント回路基板。
  12. 前記第1導電性パッドは、中心部、及び前記中心部の周りに前記中心部より低い周辺部を含み、
    前記第1絶縁膜は、前記周辺部の一部と重なり、前記中心部の側壁は、前記第1オープニング内に露出されることを特徴とする請求項7に記載のモジュールプリント回路基板。
  13. 回路基板と、
    前記回路基板に形成され、半導体パッケージが在置される複数のマウント領域と、
    最外郭マウント領域(outermost mount region)の第1領域に形成された第3型パッド構造物と、
    前記最外郭マウント領域の第2領域に形成された第2型パッド構造物と、を含み、
    前記第3型パッド構造物は、前記回路基板上に形成された第3導電性パッドと、前記回路基板上に塗布され、前記第3導電性パッドのエッジ上に重なった第3絶縁膜と、を含み、
    前記第2型パッド構造物は、前記回路基板上に塗布され、第2オープニングを有する第2絶縁膜と、前記第2オープニング内の前記回路基板上に形成され、側壁が露出された第2導電性パッドと、を含むことを特徴とするモジュールプリント回路基板。
  14. 前記最外郭マウント領域の間の内側マウント領域の第1領域に形成された第1型パッド構造物をさらに含み、
    前記第2型パッド構造物は、前記内側マウント領域の第2領域に形成され、
    前記第1型パッド構造物は、前記回路基板上に形成された第1導電性パッドと、前記回路基板上に塗布され、前記第1導電性パッドの側壁の一部分が露出された第1オープニングを有し、前記第1導電性パッドの一部を覆う第1絶縁膜と、を含むことを特徴とする請求項13に記載のモジュールプリント回路基板。
  15. 前記内側マウント領域の第1領域は、前記内側マウント領域のエッジ領域であり、
    前記内側マウント領域の第2領域は、前記内側マウント領域の中央領域であることを特徴とする請求項14に記載のモジュールプリント回路基板。
  16. 前記内側マウント領域の第1領域は、前記内側マウント領域の角領域であり、
    前記内側マウント領域の第2領域は、前記角領域間の側面領域であることを特徴とする請求項14に記載のモジュールプリント回路基板。
  17. 前記第1導電性パッドは、中心から伸びた複数のリードを含み、
    前記第1絶縁膜は、前記リード上に重なり、前記第1オープニングにより前記リードの間の側壁が露出されることを特徴とする請求項14に記載のモジュールプリント回路基板。
  18. 前記第1絶縁膜下部で、前記リードは互いに連結されることを特徴とする請求項17に記載のモジュールプリント回路基板。
  19. 前記第1導電性パッドは、中心部、及び前記中心部の周りに前記中心部より低い周辺部を含み、
    前記第1絶縁膜は、前記周辺部の一部と重なり、前記中心部の側壁は、前記第1オープニング内に露出されることを特徴とする請求項14に記載のモジュールプリント回路基板。
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