JP2008162811A - シリコン原料の製造方法 - Google Patents
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Abstract
シリコンインゴットを低コストで製造するためのシリコンの原料の製造方法を提供することにある。
【解決手段】
離型材を塗布した鋳型内でシリコン融液を凝固させてシリコンインゴット1を形成する工程と、前記シリコンインゴット1の表層領域を切断して表層部材10を切り出す工程と、前記表層領域のうち、前記シリコンインゴット1の表面を面処理して除去する工程と、前記面処理された表層部材10を、シリコン原料とする工程と、を含んでなるシリコン原料の製造方法。
【選択図】図2
Description
シリコンインゴットの鋳肌面には、鋳型内面に塗布された離型材が付着しているが、当該表層部材を面処理することによって、離型材を直接除去することができる。
本発明のシリコン原料の製造方法によれば、離型材3を塗布した鋳型2内でシリコン融液を凝固させてシリコンインゴット1を形成する工程と、前記シリコンインゴット1の表層領域を切断して表層部材10を切り出す工程と、前記表層領域のうち、前記シリコンインゴット1の表面を面処理して除去する工程と、前記面処理された表層部材10を、シリコン原料とする工程と、を含んでなるようにした。
続いて、上述のようにして得られたシリコン原料を用いて再度シリコンインゴット1を製造する場合について以下に説明する。
ここで、qは電気素量(1.6×10^19[C])、μはキャリアの移動度[cm2/V/s]を意味し、μは製造するシリコンインゴット1がP型の場合にはホールの移動度、N型の場合には電子の移動度を意味する。
2 :鋳型
3 :離型材
4 :断熱材
5 :加熱機構
6 :冷却機構
7 :鋳型保持台
10 :表層部材
11 :上面表層部材
11a:上面
11b:側面
12 :底面表層部材
13 :側面表層部材
14 :シリコンブロック
Claims (9)
- 離型材を塗布した鋳型内でシリコン融液を凝固させてシリコンインゴットを形成する工程と、
前記シリコンインゴットの表層領域を切断して表層部材を切り出す工程と、
前記表層領域のうち、前記シリコンインゴットの表面を面処理して除去する工程と、
前記面処理された表層部材を、シリコン原料とする工程と、
を含んでなるシリコン原料の製造方法。 - 前記シリコンインゴットは、前記シリコン融液を前記鋳型底部から前記鋳型上部に向かって凝固させて形成してなることを特徴とする請求項1に記載のシリコン原料の製造方法。
- 前記表層部材は、前記シリコン融液の最終凝固領域を含んでなることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のシリコン原料の製造方法。
- 前記表層部材は、前記鋳型開口部側に形成された前記シリコンインゴットの上面を含んでなることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のシリコン原料の製造方法。
- 前記表層部材は、前記シリコンインゴットの鋳肌面を含んでなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のシリコン原料の製造方法。
- 前記面処理は、前記シリコンインゴットをシリコンの融点以上の温度に曝してなることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のシリコン原料の製造方法。
- 前記面処理は、ウエットエッチングであることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のシリコン原料の製造方法。
- 前記面処理は、研削であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のシリコン原料の製造方法。
- 前記面処理は、ブラスト処理であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のシリコン原料の製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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