JP2008158013A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5402929B2 (ja) * 2008-07-16 2014-01-29 ソニー株式会社 光学素子
JP5111305B2 (ja) * 2008-08-29 2013-01-09 富士フイルム株式会社 パターン形成体およびその製造方法
JP5439783B2 (ja) 2008-09-29 2014-03-12 ソニー株式会社 光学素子、反射防止機能付き光学部品、および原盤
JP4968953B2 (ja) * 2008-11-17 2012-07-04 修司 岩田 反射防止機能を有する機能性基板とその製造方法
JP5257066B2 (ja) * 2008-12-26 2013-08-07 ソニー株式会社 光学素子、表示装置、反射防止機能付き光学部品、および原盤
JP2011053495A (ja) * 2009-09-02 2011-03-17 Sony Corp 光学素子、およびその製造方法
JP2012208526A (ja) * 2009-09-02 2012-10-25 Sony Corp 光学素子、および表示装置
JP5075234B2 (ja) * 2009-09-02 2012-11-21 ソニー株式会社 光学素子、および表示装置
JP5490216B2 (ja) 2010-03-02 2014-05-14 パナソニック株式会社 光学素子及び光学素子の製造方法
JP6252047B2 (ja) * 2013-09-03 2017-12-27 大日本印刷株式会社 透過率異方性部材、透過率異方性部材の製造方法及び表示装置
JP6794308B2 (ja) * 2017-04-27 2020-12-02 富士フイルム株式会社 マイクロレンズアレイ製造用金型の作製方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4270806B2 (ja) * 2002-05-24 2009-06-03 大日本印刷株式会社 ゾルゲル法による反射防止物品の製造方法
JP4092723B2 (ja) * 2002-06-28 2008-05-28 太陽誘電株式会社 光情報記録媒体のスタンパー作成方法
JPWO2004031815A1 (ja) * 2002-10-07 2006-03-23 ナルックス株式会社 反射防止用回折格子
JP4457589B2 (ja) * 2003-04-07 2010-04-28 コニカミノルタホールディングス株式会社 透過型光学素子を有する光学装置
JP2006012854A (ja) * 2003-10-06 2006-01-12 Omron Corp 面光源装置及び表示装置
JP2006048848A (ja) * 2004-08-05 2006-02-16 Hitachi Maxell Ltd 光ディスク及び光ディスクの製造方法

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