JP2008147674A - マークを備える基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板は第1のマーク及び第2のマークを備える。第1のマークは、第1の材料で形成された少なくとも1つのマーク部と第2の材料で形成された少なくとも1つの区域とを備える。第1の材料と第2の材料とは、所定の基板処理工程がなされることにより少なくとも1つのマーク部と少なくとも1つの区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の段差が形成され得るように該基板処理工程について異なる材料特性を有する。第2のマークには、該基板処理工程により第2の段差が設けられ得る。第2の段差の高さは第1の段差の高さとは実質的に異なる。
【選択図】図1
Description
・上記の第1のマーク及び第2のマークを備える基板を準備し、
・アライメントセンサを設け、
・アライメントセンサを第1のマークに対し用いて少なくとも第1の測定を実行することを含み、
・第1の測定が成功したか否かを判定し、
・成功しなかった場合にはアライメントセンサを第2のマークに対し用いて第2の測定を実行することをさらに含む。
・放射ビームB(例えばUV放射またはEUV放射)を調整する照明系(イルミネータ)ILと、
・パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、所定パラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めする第1ポジショナPMに接続される支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
・基板(例えば、レジストが塗布されたウエーハ)Wを保持し、所定パラメータに従って基板を正確に位置決めする第2ポジショナPWに接続される基板テーブル(例えばウエーハテーブル)WTと、
・パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つまたは複数のダイからなる)目標部分Cに投影する投影系(屈折投影レンズ系)PSと、を備える。
典型的なアライメントセンサはアライメントマークの位置を測定する。アライメントに際してアライメントマークにはアライメント用の放射ビームが照射される。アライメント放射ビームはアライメントマークによりいくつかの回折次数例えば+1次、−1次、+2次、−2次に回折される。光学素子を使用して、対応する1組の回折次数(例えば+1次と−1次)ごとにアライメントマークの像が基準プレート上に形成される。基準プレートは、測定対象となる対応回折次数の各組に適する基準格子を備える。基準格子の背後には、別個の検出器が、基準格子を通過した像の放射照度を測定するよう設けられている。基準プレートに対してアライメントマークを移動することにより、1つまたは複数の像の最大照度位置が検出される。この位置から位置合わせすべき位置が与えられる。
本発明の一実施形態によれば、第1のマークM1及び第2のマークM2が形成される。第1のマークM1及び第2のマークM2は一組の相補マークM1、M2を構成する。第1のマークM1と第2のマークM2とは、マーク特性の少なくとも1つにオフセットを有するように異なっている。一組の相補マークM1、M2は、x方向及びy方向の両方に設けられてもよい。以下の実施例では、1つの方向についてのみ説明する。
第1のマークM1と第2のマークM2とのオフセットの違いはマークのレイアウト自体に起因するものであってもよい。例えば、パターン密度の違いにより生成されるものであってもよい。この場合、CMP処理と相俟って、第1のマークM1と第2のマークM2との間に段差が生じる。パターンのCMP処理耐性は、そのパターンにおける材料の相対量に関連する。
更なる実施形態によれば、一組の相補マークM1、M2は、基板Wへのプロセス中に第2のマークM2とは異なる処理を第1のマークM1に施すことにより形成されてもよい。その結果、2つのマークの材料は化学機械研磨処理に対して異なる材料特性を取得し、基板表面に実質的に垂直な方向における段差が一方のマークと他方のマークとで異なるようになる。
当業者に知られているように、CMP処理技術は確実に進歩している。このため、SiO2が25%のときの段差高さΔz3とSiO2が75%のときの段差高さΔz4との差は小さくなりつつある。CMP処理が材料の耐性により影響されにくくなってきているからである。実際のところ、SiO2が25%のときの段差高さΔz3とSiO2が75%のときの段差高さΔz4との差は実質的にゼロにもなりうる。そうすると、第1のマークM1または第2のマークM2を不透明層の成膜後にアライメントに使用することが不可能となってしまう。
第1及び第2のマークM1、M2間の切替は、例えば回折効率、グリッド残渣、次数ごとのオフセット量などに基づいていてもよい。これらについては以下の段落で説明する。
上述の一対の相補マークはアライメント等に使用することができる。測定は第1及び第2のマークの一方について実行されてもよい。(段差高さΔzがほぼゼロであるために)アライメントが不成功である場合に、相補マークの他方に対し第2の測定が実行されてもよい。
上述の実施形態では、CMP処理に対し異なる耐性を有するSiO2及びSiNのマークが説明されているが、CMP処理に対し異なる耐性を有する適切な材料をいかに組み合わせてもよい。一般化すれば、マークは第1の材料と第2の材料とにより形成される。ここで、第1の材料はCMP処理に対し第1の耐性を有し、第2の材料はCMP処理に対し第2の耐性を有する。第1の材料と第2の材料とのCMP耐性の違いは、基板Wへの処理工程において第2のマークM2とは異なる処理を第1のマークM1に施すことによって得られるものであってもよい。上述のように例えば、第1のマークM1に処理を行わずに第2のマークM2にリンまたはホウ素を注入してもよい。アライメントマークと露出層とが定まるまでになされるリソグラフィ処理または他の処理のうちいかなる処理であってもよい。また、複数の処理がなされてもよい。一対の相補マークM1、M2の第1及び第2のマーク間の段差高さの違いが増される効果がある限りは、上述の各実施例で説明した特定のマークデザインと特定の処理とが組み合わされてもよい。
Claims (33)
- 基板表面に設けられ、第1の材料で形成された少なくとも1つのマーク部と第2の材料で形成された少なくとも1つの区域とを備える第1のパターンを備え、所定の基板処理工程がなされることにより前記少なくとも1つのマーク部と前記少なくとも1つの区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の段差が形成され得るように該基板処理工程について第1の材料と第2の材料とが異なる材料特性を有する第1のマークと、
少なくとも1つの第2のマーク部と該第2のマーク部に隣接して形成された少なくとも1つの第2の区域とを備え、前記基板処理工程がなされることにより前記少なくとも1つの第2のマーク部と前記少なくとも1つの第2の区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の第2の段差が形成され得るよう構成されている第2のマークと、を備え、
前記第2の段差の高さが第1の段差の高さとは実質的に異なることを特徴とする基板。 - 複数の目標部分を備え、前記第1及び第2のマークがともに共通の目標部分に関連することを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 前記第2のマークは、前記少なくとも1つの第2のマーク部を形成する前記第1の材料と前記少なくとも1つの第2の区域を形成する前記第2の材料とにより形成される第2のパターンを備え、該第2のパターンは前記第1のパターンとは異なることを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 前記少なくとも1つの第2のマーク部は第3の材料で形成され、該第3の材料は化学機械研磨処理について前記第1の材料と比べて異なる材料特性を有することを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 前記少なくとも1つの第2の区域は第4の材料で形成され、該第4の材料は化学機械研磨処理について前記第2の材料と比べて異なる材料特性を有することを特徴とする請求項4に記載の基板。
- 前記第3及び第4の材料の少なくとも一方は前記第2のマークに所定の処理を施すことにより生成されることを特徴とする請求項5に記載の基板。
- 前記第3の材料は前記第2のマークに所定の処理を施すことにより生成されることを特徴とする請求項4に記載の基板。
- 前記所定の処理は、リンの注入、ホウ素の注入、またはイオンの注入のいずれかであることを特徴とする請求項7に記載の基板。
- 前記第1の材料は酸化シリコンであることを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 前記第2の材料は窒化シリコンであることを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 前記第1のマークの少なくとも1つのマーク部と、前記第2のマークの少なくとも1つのマーク部とのうち少なくとも一方は、より微細な構造に分割されていることを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 微細構造がスライス状構造であることを特徴とする請求項11に記載の基板。
- 微細構造がさいころ状構造であることを特徴とする請求項11に記載の基板。
- 前記少なくとも1つの区域は前記少なくとも1つのマーク部に隣接し、前記少なくとも1つの第2の区域は前記少なくとも1つの第2のマーク部に隣接することを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 基板に形成され、第1のマーク及び第2のマークを備えるマーク構造であって、
前記第1のマークは、第1の材料で形成された少なくとも1つのマーク部と第2の材料で形成された少なくとも1つの区域とを備える第1のパターンを備え、所定の基板処理工程がなされることにより前記少なくとも1つのマーク部と前記少なくとも1つの区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の段差が形成され得るように該基板処理工程について第1の材料と第2の材料とが異なる材料特性を有し、
前記第2のマークは、少なくとも1つの第2のマーク部と該第2のマーク部に隣接して形成された少なくとも1つの第2の区域とを備え、前記基板処理工程がなされることにより前記少なくとも1つの第2のマーク部と前記少なくとも1つの第2の区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の第2の段差が形成され得るよう構成され、
前記第2の段差の高さが第1の段差の高さとは実質的に異なることを特徴とするマーク構造。 - 前記第2のマークは第2のパターンを備え、該第2のパターンは前記第1のパターンとは異なることを特徴とする請求項15に記載のマーク構造。
- 請求項15に記載のマーク構造を生成するよう構成されているパターニングデバイス。
- パターニングデバイスからのパターンを基板に投影するリソグラフィ投影装置であって、該パターニングデバイスが請求項1に記載の前記第1のマーク及び前記第2のマークに対応するパターンを備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
- パターニングデバイスからのパターンを基板に転写するリソグラフィ装置であって、該パターニングデバイスが請求項1に記載の前記第1のマーク及び前記第2のマークに対応するパターンを備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
- 請求項19に記載の装置を使用して製造されたデバイス。
- パターン付与された放射ビームを基板に投影することを含むデバイス製造方法であって、パターニングデバイスが請求項1に記載の前記第1のマーク及び前記第2のマークに対応するパターンを備えることを特徴とする方法。
- パターニングデバイスからのパターンを基板に転写することを含むデバイス製造方法であって、該パターニングデバイスが請求項1に記載の前記第1のマーク及び前記第2のマークに対応するパターンを備えることを特徴とする方法。
- 請求項22に記載の方法で製造されたデバイス。
- アライメントセンサ及び第1のマークを使用して少なくとも第1の測定を実行し、
前記第1の測定が成功したか否かを判定し、
前記第1の測定が成功しなかった場合には、前記アライメントセンサ及び第2のマークを使用して第2の測定を実行することを含む基板位置測定方法であって、
前記第1のマークは、第1の材料で形成された少なくとも1つのマーク部と第2の材料で形成された少なくとも1つの区域とを備える第1のパターンを備え、所定の基板処理工程の結果として前記少なくとも1つのマーク部と前記少なくとも1つの区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の段差が存在するように該基板処理工程について第1の材料と第2の材料とが異なる材料特性を有し、
前記第2のマークは、少なくとも1つの第2のマーク部と該第2のマーク部に隣接して形成された少なくとも1つの第2の区域とを備え、前記基板処理工程の結果として前記少なくとも1つの第2のマーク部と前記少なくとも1つの第2の区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の第2の段差が存在するよう構成され、
前記第2の段差の高さが第1の段差の高さとは実質的に異なることを特徴とする方法。 - 前記第1の測定が成功したか否かの判定は、回折効率、グリッド残渣、または次数ごとのオフセット量のいずれかに基づいて実行されることを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 前記第2の測定は、前記第1の測定が成功したか否かの判定よりも前に実行されることを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 前記第2の測定は、前記第1の測定が成功しなかったと判定された後に実行されることを特徴とする請求項24に記載の方法。
- コンピュータ読み取り可能媒体にエンコードされているコンピュータプログラムであって、該コンピュータプログラムはアライメントセンサの制御方法を実行するための命令がエンコードされており、該方法は、
アライメントセンサ及び第1のマークを使用して少なくとも第1の測定を実行し、
前記第1の測定が成功したか否かを判定し、
前記第1の測定が成功しなかった場合には、前記アライメントセンサ及び第2のマークを使用して第2の測定を実行することを含み、
前記第1のマークは、第1の材料で形成された少なくとも1つのマーク部と第2の材料で形成された少なくとも1つの区域とを備える第1のパターンを備え、所定の基板処理工程の結果として前記少なくとも1つのマーク部と前記少なくとも1つの区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の段差が存在するように該基板処理工程について第1の材料と第2の材料とが異なる材料特性を有し、
前記第2のマークは、少なくとも1つの第2のマーク部と該第2のマーク部に隣接して形成された少なくとも1つの第2の区域とを備え、前記基板処理工程の結果として前記少なくとも1つの第2のマーク部と前記少なくとも1つの第2の区域との間に基板表面に実質的に垂直な方向の第2の段差が存在するよう構成され、
前記第2の段差の高さが第1の段差の高さとは実質的に異なることを特徴とするコンピュータプログラム。 - 少なくとも1つの基板処理システムと、
請求項28に記載のコンピュータプログラムに従って前記基板処理システムの動作を制御する制御プロセッサと、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記基板処理工程は化学機械研磨処理を含むことを特徴とする請求項1に記載の基板。
- 前記基板処理工程は化学機械研磨処理を含むことを特徴とする請求項15に記載のマーク構造。
- 前記基板処理工程は化学機械研磨処理を含むことを特徴とする請求項24に記載の方法。
- 前記基板処理工程は化学機械研磨処理を含むことを特徴とする請求項28に記載のコンピュータプログラム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/637,215 US8722179B2 (en) | 2006-12-12 | 2006-12-12 | Substrate comprising a mark |
US11/637,215 | 2006-12-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008147674A true JP2008147674A (ja) | 2008-06-26 |
JP5059575B2 JP5059575B2 (ja) | 2012-10-24 |
Family
ID=39498438
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007318469A Expired - Fee Related JP5059575B2 (ja) | 2006-12-12 | 2007-12-10 | マークを備える基板 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8722179B2 (ja) |
JP (1) | JP5059575B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8609441B2 (en) * | 2006-12-12 | 2013-12-17 | Asml Netherlands B.V. | Substrate comprising a mark |
JP2013145871A (ja) * | 2011-12-13 | 2013-07-25 | Canon Inc | リソグラフィー装置および方法、ならびに物品製造方法 |
US9217917B2 (en) * | 2014-02-27 | 2015-12-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Three-direction alignment mark |
EP3559748B1 (en) * | 2016-12-22 | 2023-03-29 | ASML Netherlands B.V. | A lithographic apparatus comprising an object with an upper layer having improved resistance to peeling off |
WO2019149586A1 (en) * | 2018-01-30 | 2019-08-08 | Asml Netherlands B.V. | Method of patterning at least a layer of a semiconductor device |
CN113296352B (zh) * | 2020-02-22 | 2023-01-24 | 长鑫存储技术有限公司 | 应用于半导体光刻工艺中的掩膜图形及光刻工艺方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003234272A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004134473A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Nikon Corp | 位置検出用マーク、位置検出装置、位置検出方法、露光装置、および露光方法 |
JP2005136428A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Asml Holding Nv | 調整可能なアライメントジオメトリ |
JP2006019738A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Asml Netherlands Bv | 不透明なゲート層の位置合わせ用マーカ、このようなマーカの製作方法、及びリソグラフィ機器でのこのようなマーカの使用 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3563809A (en) * | 1968-08-05 | 1971-02-16 | Hughes Aircraft Co | Method of making semiconductor devices with ion beams |
JPS6297327A (ja) | 1985-10-23 | 1987-05-06 | Mitsubishi Electric Corp | 重ね合わせ精度評価方法 |
US5217916A (en) * | 1989-10-03 | 1993-06-08 | Trw Inc. | Method of making an adaptive configurable gate array |
JP2766576B2 (ja) * | 1992-01-28 | 1998-06-18 | 三菱電機株式会社 | アライメント方法 |
JP3284641B2 (ja) | 1992-09-03 | 2002-05-20 | ソニー株式会社 | 重ね合わせ精度測定機の測定条件の最適化方法、並びにアラインメントマーク形状あるいは露光装置におけるアラインメントマーク測定方式の最適化方法 |
US5601957A (en) * | 1994-06-16 | 1997-02-11 | Nikon Corporation | Micro devices manufacturing method comprising the use of a second pattern overlying an alignment mark to reduce flattening |
JP3067732B2 (ja) | 1998-04-02 | 2000-07-24 | 日本電気株式会社 | 半導体装置のアライメント装置及びアライメント方法 |
US6534378B1 (en) * | 1998-08-31 | 2003-03-18 | Cypress Semiconductor Corp. | Method for forming an integrated circuit device |
JP3288320B2 (ja) | 1998-12-21 | 2002-06-04 | 沖電気工業株式会社 | レジストマーク |
JP3016776B1 (ja) * | 1999-01-14 | 2000-03-06 | 沖電気工業株式会社 | アライメントパタ―ンの形成方法及びマスクとの合わせ精度測定方法 |
JP2001036036A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-09 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP4666700B2 (ja) * | 1999-08-30 | 2011-04-06 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US6482572B1 (en) * | 2000-02-25 | 2002-11-19 | Micron Technology, Inc. | Method for providing an alignment diffraction grating for photolithographic alignment during semiconductor fabrication |
US7068833B1 (en) * | 2000-08-30 | 2006-06-27 | Kla-Tencor Corporation | Overlay marks, methods of overlay mark design and methods of overlay measurements |
JP3503888B2 (ja) | 2000-09-01 | 2004-03-08 | 沖電気工業株式会社 | アライメントマーク及びその形成方法 |
US6440816B1 (en) | 2001-01-30 | 2002-08-27 | Agere Systems Guardian Corp. | Alignment mark fabrication process to limit accumulation of errors in level to level overlay |
JP2003257828A (ja) | 2002-03-01 | 2003-09-12 | Nec Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
US7190823B2 (en) | 2002-03-17 | 2007-03-13 | United Microelectronics Corp. | Overlay vernier pattern for measuring multi-layer overlay alignment accuracy and method for measuring the same |
CN1506768B (zh) * | 2002-09-20 | 2011-01-26 | Asml荷兰有限公司 | 用于光刻系统的对准系统和方法 |
US6888260B2 (en) | 2003-04-17 | 2005-05-03 | Infineon Technologies Aktiengesellschaft | Alignment or overlay marks for semiconductor processing |
JP4412922B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2010-02-10 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置 |
US7223612B2 (en) | 2004-07-26 | 2007-05-29 | Infineon Technologies Ag | Alignment of MTJ stack to conductive lines in the absence of topography |
US7442624B2 (en) | 2004-08-02 | 2008-10-28 | Infineon Technologies Ag | Deep alignment marks on edge chips for subsequent alignment of opaque layers |
JP4290177B2 (ja) | 2005-06-08 | 2009-07-01 | キヤノン株式会社 | モールド、アライメント方法、パターン形成装置、パターン転写装置、及びチップの製造方法 |
US8609441B2 (en) | 2006-12-12 | 2013-12-17 | Asml Netherlands B.V. | Substrate comprising a mark |
-
2006
- 2006-12-12 US US11/637,215 patent/US8722179B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003234272A (ja) * | 2002-02-07 | 2003-08-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004134473A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Nikon Corp | 位置検出用マーク、位置検出装置、位置検出方法、露光装置、および露光方法 |
JP2005136428A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Asml Holding Nv | 調整可能なアライメントジオメトリ |
JP2006019738A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Asml Netherlands Bv | 不透明なゲート層の位置合わせ用マーカ、このようなマーカの製作方法、及びリソグラフィ機器でのこのようなマーカの使用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8722179B2 (en) | 2014-05-13 |
JP5059575B2 (ja) | 2012-10-24 |
US20080138623A1 (en) | 2008-06-12 |
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