JP2008130994A - 静電保護回路 - Google Patents

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Abstract

【課題】製造後にトリガ電圧の値を調整できる静電保護回路を提供する。
【解決手段】放電回路部11、トリガ回路部12A、及びトリガ制御回路部13から構成され、放電回路部11は、半導体装置の所定のノードに接続されており、この所定のノードにサージ電圧が印加された際に放電を行う。トリガ回路部12Aは、放電回路部11をトリガして放電回路部11における放電動作を開始させる。トリガ制御回路部13は、トリガ回路部12Aが放電回路部11における放電動作を開始させる際のトリガ電圧の値を調整する。
【選択図】 図1

Description

この発明は、サージ等による過大電流が半導体装置の内部回路に流れ込むのを防止するために使用される静電保護回路に関する。
半導体集積回路等の半導体装置には、サージ等による過大電流から内部回路を保護するために静電保護回路(以下、ESD保護回路と称する)が設けられている。
ESD保護回路には種々の構造のものが提案されており、ダイオードやMOSトランジスタにより内部回路を保護するものが広く使用されている。しかし、半導体装置の高集積化や低電圧化に伴って、ダイオードやMOSトランジスタでは十分な保護が行えなくなり、サイリスタ(SCR)を保護素子として使用するESD保護回路が、例えば特許文献1で提案されている。サイリスタは高速なスイッチング動作が可能であり、かつ大電流を流すことができ、しかも破壊に対して強いことから、サイリスタを使用したESD保護回路は高性能で保護能力が高い、という優れた特性を有する。サージ印加時に、サイリスタがオンして、サージ等による過大電流から内部回路を保護する動作が開始される電圧は一般にトリガ電圧と呼ばれる。
特許文献1に記載されているESD保護回路では、トリガ電圧の値が設計段階で決定されてしまい、製造後は調整することはできない。さらに、ある用途に使用する場合、ESD保護回路の保護動作を全く行わせない必要があるが、特許文献1に記載されているESD保護回路ではこのような動作を行わせることはできない。
特表2004−531055号公報
この発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、製造後においてもトリガ電圧の値を調整することができる静電保護回路を提供することである。
この発明の静電保護回路は、半導体装置の所定のノードに接続され、この所定のノードにサージ電圧が印加された際に放電を行う放電回路部と、上記放電回路部をトリガして上記放電回路部における放電動作を開始させるトリガ回路部と、上記トリガ回路部が上記放電回路部における放電動作を開始させる際のトリガ電圧の値を調整するトリガ制御回路部を具備したことを特徴とする。
この発明の静電保護回路は、半導体装置の所定のノードに接続され、この所定のノードにサージ電圧が印加された際に放電を行う放電回路部と、上記放電回路部をトリガして上記放電回路部における放電動作を開始させ、上記放電回路部における放電動作を開始させる際のトリガ電圧の値が固定されたトリガ回路部と、上記トリガ回路部のトリガ電圧の値にかかわらずに上記放電回路部における放電動作を禁止する放電制御回路部を具備したことを特徴とする。
この発明によれば、製造後においてもトリガ電圧の値を調整することができる静電保護回路を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。この説明に際して、全図にわたり共通する部分には共通する参照符号を付す。
<第1の実施形態>
図1は、この発明の静電保護回路(ESD保護回路)の第1の実施形態による構成を示すブロック図である。第1の実施形態のESD保護回路は、放電回路部11、トリガ回路部12A、及びトリガ制御回路部13から構成される。放電回路部11は、半導体装置の所定のノードに接続されており、この所定のノードにサージ電圧が印加された際に放電を行う。トリガ回路部12Aは、放電回路部11をトリガして放電回路部11における放電動作を開始させる。さらに、トリガ制御回路部13は、トリガ回路部12Aが放電回路部11における放電動作を開始させる際のトリガ電圧の値を調整する。
第1の実施形態のESD保護回路よれば、半導体装置に組み込まれて製造された後であっても、放電回路部11における放電動作を開始させる際のトリガ電圧の値を、トリガ制御回路部13により調整できる。さらに、トリガ制御回路部13におけるトリガ電圧の値が十分に大きくなるように調整することで、放電回路部11における放電動作を全く行わせないようにすることもできる。すなわち、ESD保護回路としての保護動作を全く行わせないようにもできる。
<第2の実施形態>
図2は、この発明のESD保護回路の第2の実施形態による構成を示すブロック図である。第2の実施形態のESD保護回路は、放電回路部11、トリガ回路部12B、及び放電制御回路部14から構成される。放電回路部11は、第1の実施形態のものと同様に、半導体装置の所定のノードに接続され、この所定のノードにサージ電圧が印加された際に放電を行う。トリガ回路部12Bは、放電回路部11をトリガして放電回路部11における放電動作を開始させるが、第1の実施形態のものと異なる点は、放電回路部11における放電動作を開始させる際のトリガ電圧の値が固定されていることである。放電制御回路部14は、放電回路部11が放電動作を開始する際の放電開始電圧の値を調整する。
第2の実施形態のESD保護回路よれば、半導体装置に組み込まれて製造された後であっても、トリガ回路部12Bによるトリガ後に、実際に放電回路部11で放電動作を開始させる際の放電開始電圧の値を、放電制御回路部14により調整できる。さらに、放電回路部11における放電開始電圧の値が十分に大きくなるように、放電制御回路部14により調整することで、放電回路部11における放電動作を全く行わせないようにすることもできる。すなわち、ESD保護回路としての保護動作を全く行わせないようにもできる。
<第1の実施形態の第1の具体例>
次に、第1、第2の実施形態のESD保護回路の具体例について以下に詳述する。
図3は、第1の実施形態の第1の具体例に係るESD保護回路の回路図である。放電回路部11は、半導体装置の所定のノード、例えば電源電圧の供給ノード21と基準電圧VSS(接地電圧)の供給ノードとの間に電流通路が挿入されたサイリスタ22を有している。図中、サイリスタ22は、PNP型のバイポーラトランジスタ23とNPN型のバイポーラトランジスタ24の組み合わせからなる等価回路によって示されている。しかし、実質的にサイリスタが構成されるようなものであれば、図示のように2個のバイポーラトランジスタによって構成されていなくともよい。トランジスタ23のベースはトランジスタ24のコレクタに接続されており、トランジスタ23のコレクタはトランジスタ24のベースに接続されている。また、トランジスタ23のエミッタとトランジスタ23のコレクタ及びトランジスタ24のエミッタ間がサイリスタ22の電流通路となり、トランジスタ23のベース及びトランジスタ24のコレクタの共通ノードがサイリスタ22の制御電極となる。
さらに、放電回路部11は、サイリスタ22の他に複数個のダイオード25と抵抗26を有する。複数個のダイオード25はそれぞれアノード側を電源電圧の供給ノード21に向けて、電源電圧の供給ノード21とサイリスタ22との間、具体的にはトランジスタ23のエミッタとの間に直列接続されている。抵抗26は、サイリスタ22、具体的にはトランジスタ23のコレクタとトランジスタ24のベースとの共通接続ノードと基準電圧VSSの供給ノードとの間に接続されている。
トリガ回路部12Aは、サイリスタ22の制御電極、つまりトランジスタ23のベース及びトランジスタ24のコレクタの共通ノードと基準電圧VSSのノードとの間に挿入された複数個のダイオード27を有している。これら複数個のダイオード27は、それぞれカソード側を基準電圧VSSの供給ノードに向けて直列に接続されている。
トリガ制御回路部13は、トリガ回路部12A内の複数個のダイオード27と基準電圧VSSのノードとの間にソース・ドレイン間の電流通路が接続されているPチャネルのMOSトランジスタ28を有する。MOSトランジスタ28のゲートは制御電圧Vcontが供給される制御端子29に接続されている。さらに、トリガ制御回路部13は、MOSトランジスタ28の他にゲート保護回路30及び抵抗31を有する。ゲート保護回路30は、端子29に印加されるサージからMOSトランジスタ28のゲート破壊を防止するために設けられており、正極性サージ用の保護回路32及び負極性サージ用のダイオード33から構成されている。また、抵抗31は、制御端子29が電位的にフローティングにされているときに、MOSトランジスタ28のゲートを基準電圧に設定して、MOSトランジスタ28をオンさせるためのものであり、例えば数10乃至数百MΩ程度の高抵抗が使用される。
図3のESD保護回路において、半導体装置がESDストレスに晒される可能性のある状態、つまり放置状態の場合、制御端子29は電位的にフローティング状態になっている。このとき、MOSトランジスタ28は、ゲートが抵抗31を介して接地電圧のノードに接続されているので、オン可能にされている。ここで、放電回路部11内で直列接続されているダイオード25の数をn個、トリガ回路部12A内で直列接続されているダイオード27の数をm個とし、各ダイオード25の順方向降下電圧をVf、トランジスタ23のエミッタ・ベース間電圧をVbe(23)とすると、トリガ回路部12Aのトリガ電圧は(n+m)*Vf+Vbe(23)(=Vtrg)で与えられる。
放置状態のときに電源電圧の供給ノード21にサージが印加され、その値が上記トリガ電圧Vtrgを超えると、トリガ回路部12Aによって放電回路部11がトリガされ、サイリスタ22がオンし、サージが放電回路部11によって放電され、サージが基準電圧VSSのノードに逃がされる。
次に、半導体装置に電源電圧を供給して動作させる場合について説明する。半導体装置を動作させる場合、制御端子29に制御電圧Vcontを供給する。制御電圧Vcontを供給する場合に、トリガ制御回路部13内のMOSトランジスタ28として低耐圧のものを使用する場合と、高耐圧のものを使用する場合の2通りがある。低耐圧のMOSトランジスタ28を使用する場合、制御端子29に供給する制御電圧Vcontの値をそれ程高くすることはできない。制御端子29に制御電圧Vcontを供給したときのトリガ回路部12Aのトリガ電圧は、MOSトランジスタ28のしきい値電圧の絶対値をVthとすると、(Vtrg+Vth+Vcont)で与えられる。すなわち、制御電圧Vcontを供給することにより、制御端子29がフローティング状態のときと比べて、トリガ回路部12Aのトリガ電圧は(Vth+Vcont)だけ上昇する。すなわち、トリガ電圧の値は、制御端子29に供給する制御電圧Vcontの値に応じて自由に調整できる。また、制御端子29を半導体装置の外部端子として取り出すようにすれば、トリガ電圧の値を外部から調整できるようになる。
一方、MOSトランジスタ28として高耐圧のものを使用した場合について説明する。高耐圧のものを使用すると、制御端子29には電源電圧の供給ノード21に供給される電源電圧に近い値の電圧を供給することができる。例えば、制御端子29をノード21に接続して、制御電圧Vcontとしてノード21に供給される電圧を供給すれば、放電回路部11は如何なる場合でもトリガ回路部12Aによってトリガされることがなくなる。すなわち、この場合には、ESD保護回路の保護動作を全く行わせないことができ、電源電圧の供給ノード21に供給された電源電圧を半導体装置内の他の回路部に常時、供給することができる。
<第1の実施形態の第2の具体例>
図4は、第1の実施形態の第2の具体例に係るESD保護回路の回路図である。このESD保護回路は、図3に示すESD保護回路と比べて、放電回路部11及びトリガ回路部12Aの構成は同じであり、トリガ制御回路部13の構成が一部異なる。従って、図3と異なる点についてのみ以下に説明する。
図3に示すトリガ制御回路部13ではPチャネルのMOSトランジスタ28を用いていたが、この第2の具体例ではPNP型のバイポーラトランジスタ34を用いている。また、これに伴って、先のゲート保護回路30の代わりにベース保護回路30Aが設けられている。ベース保護回路30Aは、制御端子29に印加されるサージからバイポーラトランジスタ34の破壊を防止するために設けられており、正極性サージ用の保護回路32及び負極性サージ用のダイオード33から構成されている。
第2の具体例では、制御端子29に制御電圧Vcontを供給したときのトリガ回路部12Aのトリガ電圧は、バイポーラトランジスタ34のエミッタ・ベース間電圧をVbe(34)とすると、(Vtrg+Vbe(34)+Vcont)で与えられる。すなわち、本具体例においても、トリガ電圧の値は、制御端子29に供給する制御電圧Vcontの値に応じて自由に調整できる。
一般に、MOSトランジスタに比べてバイポーラトランジスタは容易に高耐圧化が可能なので、特に、ESD保護回路の保護動作を全く行わせないようにする場合に好適である。
<第2の実施形態の具体例>
図5は、第2の実施形態の具体例に係るESD保護回路の回路図である。放電回路部11は、半導体装置の所定のノード、例えば電源電圧の供給ノード21と基準電圧VSS(接地電圧)の供給ノードとの間に電流通路が挿入されたサイリスタ22を有している。図3、図4と同様に、サイリスタ22は、PNP型のバイポーラトランジスタ23とNPN型のバイポーラトランジスタ24とからなる等価回路によって示されている。しかし、実質的にサイリスタが構成されるようなものであれば、図示のように2個のバイポーラトランジスタによって構成されていなくともよい。さらに、図3、図4と同様に、放電回路部11は、サイリスタ22の他に複数個のダイオード25と抵抗26を有する。
さらに、トリガ回路部12Bは、図3、図4と同様に、複数個のダイオード27を有している。図3、図4の場合とは異なり、これら複数個のダイオード27は、それぞれカソードを基準電圧VSSの供給ノード側に向けて、サイリスタ22の制御電極、つまりトランジスタ23のベース及びトランジスタ24のコレクタの共通ノードと基準電圧VSSのノードとの間に直列に接続されている。
放電制御回路部14は、放電回路部11内のサイリスタ22の電流通路に対して電流通路が直列に挿入されたバイポーラトランジスタ35を有する。具体的には、バイポーラトランジスタ35のエミッタ・コレクタ間からなる電流通路は、サイリスタ22を構成するバイポーラトランジスタ24のエミッタと基準電圧VSSの供給ノードとの間に接続されている。バイポーラトランジスタ35のベースは制御電圧Vcontが供給される制御端子29に接続されている。さらに、放電制御回路部14は、バイポーラトランジスタ35の他にベース保護回路30A及び抵抗31を有する。ベース保護回路30Aは、制御端子29に印加されるサージからバイポーラトランジスタ35の破壊を防止するために設けられており、正極性サージ用の保護回路32及び負極性サージ用のダイオード33から構成されている。抵抗31は、制御端子29が電位的にフローティングにされているときに、バイポーラトランジスタ35のベースを基準電圧に設定して、バイポーラトランジスタ35をオンさせるためのものである。
図5のESD保護回路において、半導体装置がESDストレスに晒される可能性のある状態、つまり放置状態の場合、制御端子29は電位的にフローティング状態になっている。このとき、バイポーラトランジスタ35は、ベースが抵抗31を介して接地電圧のノードに接続されているので、オン可能である。ここで、放電回路部11内で直列接続されているダイオード25の数をn個、トリガ回路部12B内で直列接続されているダイオード27の数をm個とし、各ダイオード25の順方向降下電圧をVf、トランジスタ23のエミッタ・ベース間電圧をVbe(23)とすると、トリガ回路部12Bのトリガ電圧は(n+m)*Vf+Vbe(23)(=Vtrg)で与えられる。すなわち、トリガ回路部12Bのトリガ電圧の値はVtrgに固定されている。
放置状態のときに電源電圧の供給ノード21にサージが印加され、その値が上記トリガ電圧Vtrgを超えると、トリガ回路部12Bによって放電回路部11がトリガされ、サイリスタ22がオンし、サージが放電回路部11によって放電され、サージが基準電圧VSSのノードに逃がされる。
次に、半導体装置に電源電圧を供給し、動作させる場合について説明する。半導体装置を動作させる場合、図3、図4に示す回路と同様に、制御端子29に供給する制御電圧Vcontの値を変えてトリガ電圧の値を調整する場合と、制御端子29をノード21に接続してESD保護回路としての保護動作を全く行わせない場合の両方がある。後者の場合、制御端子29をノード21に接続して、制御電圧Vcontとしてノード21に供給される電圧を供給する。このようにすれば、放電制御回路部14内のバイポーラトランジスタ35は如何なる場合でもオンすることがなく、サイリスタ22を構成するバイポーラトランジスタ24も如何なる場合でもオンすることがない。よって、トリガ回路部12Bのトリガ電圧の値にかかわらずに、放電制御回路部14により放電回路部11における放電動作が禁止される。すなわち、この場合には、ESD保護回路の保護動作を全く行わせないことができ、電源電圧の供給ノード21に供給された電源電圧を半導体装置内の他の回路部に常時、供給することができる。
前者の場合、ノード21にサージ電圧が印加されてトリガ回路部12Bのトリガ電圧を超えると、放電回路部11がトリガされる。しかし、放電回路部11が放電動作を開始するか否かは、制御端子29に供給される制御電圧Vcontの値によって決定される。この場合、放電回路部11が放電動作を開始するトリガ電圧Vtrgは、トランジスタ24がオン状態のときのコレクタ・エミッタ間電圧を0と仮定すると、次の(1)式で与えられる。
Vtrg=Vb(22)+Vbe(35)+Vcont… … (1)
Vb(22)はトランジスタ22のベース電圧、Vbe(35)はトランジスタ35のベース・エミッタ間電圧であり、Vb(22)はノード21の電圧をV(21)とすると、次の(2)式で与えられる。
Vb(22)=m*Vf/(n*Vf+Vbe(23)+m*Vf)*V(21)… … (2)
すなわち、トリガ電圧の値は、制御端子29に供給する制御電圧Vcontの値に応じて自由に調整できる。また、制御端子29を半導体装置の外部端子として取り出すようにすれば、トリガ電圧の値を外部から調整できるようになる。
図6は、図3、図4中のゲート保護回路30、あるいは図5中のベース保護回路30Aとして使用される保護回路の具体的な回路の一例を示している。これらの保護回路は、制御端子29に正極性のサージが印加された際に、このサージを逃がす機能を有するものであればどのような構成のものでも使用することができる。図6に示した保護回路はその一例であり、例えば先の特許文献1に記載されているものである。すなわち、この保護回路は、サイリスタ41と、制御端子29とサイリスタ41との間に直列に接続された複数個のダイオード42と、サイリスタ41の制御電極と接地電圧VSSのノードとの間に直列に接続された複数個のダイオード43などで構成されている。
この保護回路は、制御端子29にサージが印加され、制御端子29の電圧が、ダイオード42、43の順方向降下電圧、サイリスタ41を構成するバイポーラトランジスタのエミッタ・ベース間電圧によって決定されるトリガ電圧を超えると、サイリスタ41がオンし、サージが逃がされる。
<応用例>
次に、本発明の応用例について説明する。
半導体装置では、製造後に回路設定の変更を行う等の目的で不可逆変化回路が使用される。図7は、この不可逆変化回路50の一例を示す回路図である。図7において、51はMOSトランジスタからなる不可逆変化素子であり、52はこの不可逆変化素子を選択するスイッチ用のMOSトランジスタである。プログラム時に、不可逆変化素子51のゲートに高電圧のプログラム電圧VPGが供給される。選択すべき不可逆変化素子51に接続されているスイッチ用のMOSトランジスタ52のゲートに選択信号SELが供給されると、不可逆変化素子51のゲート・基板間にプログラム電圧VPGが印加され、不可逆変化素子51のゲートが破壊される。不可逆変化素子51からのデータ読み出し時には、ゲートの破壊/非破壊状態が1/0の2値データとして読み出され、半導体装置製造後の設定変更データとして使用される。
上記したように、プログラム時は、不可逆変化素子に高電圧のプログラム電圧VPGを供給する必要がある。このようなプログラム電圧VPGは、通常、図8に示すように高電圧発生回路60を用いて生成される。すなわち、図8は高電圧発生回路を使用したプログラム回路の一例を示している。高電圧発生回路60は、電源電圧VDDを昇圧してプログラム電圧VPGを生成する。プログラム電圧VPGは多数の不可逆変化回路50に供給される。また、電源電圧VDDの端子に印加されるサージから高電圧発生回路60、及び不可逆変化回路50を保護するために、ESD保護回路70が電源電圧VDDの端子に接続される。ESD保護回路70は、保護動作を開始するトリガ電圧が固定されている従来タイプのものである。
集積回路化した場合、図8中の高電圧発生回路60は非常に大きな面積を占有する。また、高電圧発生回路60の特性変動により、不可逆変化素子のプログラム状態が大きく変動する。従って、高電圧発生回路60はなるべく使用しないことが望ましい。そこで、図8から高電圧発生回路60を取り除き、電源電圧VDDの代わりにプログラム電圧VPGをESD保護回路70及び複数の不可逆変化回路50に直接供給することが考えられる。すると以下のような新たな問題が発生する。
不可逆変化回路50内の不可逆変化素子は、高電圧のプログラム電圧VPGが供給されると、ゲート破壊が起こり、プログラムされる。従って、通常動作時、プログラムを行う場合には、プログラム電圧VPGを電源端子に供給する必要がある。一方、放置状態のときは、電源端子にVPG以上のサージが印加されることがある。従って、ESD保護回路70では、トリガ電圧の値をより低く設定しておかなければならない。しかし、トリガ電圧の値がプログラム電圧VPGよりも低く設定されていると、不可逆変化素子にプログラム電圧VPGが加わる前にESD保護回路70がトリガされ、ESD保護回路70の保護動作が開始されてしまい、不可逆変化素子のプログラムができなくなってしまう。特に、プログラム電圧VPGがある範囲で任意の値を選べるような場合には、プログラムできなくなる可能性が非常に高くなる。従って、従来タイプのESD保護回路を使用する場合は、不可逆変化素子の保護と、プログラム時にプログラム電圧VPGを不可逆変化素子に供給するという2つのことを両立することができず、高電圧発生回路は必須となる。
これに対し、図9は本発明のESD保護回路を不可逆変化素子の保護に使用した応用例回路のブロック構成を示している。各不可逆変化回路50は、図7に示すようにMOSトランジスタからなる不可逆変化素子51とスイッチ用のMOSトランジスタ52とから構成されている。ESD保護回路80は、先に説明したように、制御端子29に供給される制御電圧Vcontに応じてトリガ電圧の値が調整できる第1あるいは第2の実施の形態に係るESD保護回路である。ESD保護回路80の電源電圧の供給ノード21は、不可逆変化回路50をプログラムする際にプログラム電圧VPGが供給される電源端子に接続されている。
図9の回路において、放置状態のときにプログラム電圧VPGが供給される電源端子にサージが印加され、その値がESD保護回路80のトリガ電圧を超えると、ESD保護回路80が保護動作を開始し、VPGが供給される電源端子に印加されたサージがESD保護回路80を介して接地電圧VSSのノードに逃がされる。
一方、回路にプログラム電圧VPGを供給して、不可逆変化回路50をプログラムする場合には、制御端子29をノード21に接続して、制御電圧Vcontとしてノード21に供給される電圧を供給する。このようにすれば、先に説明したようにESD保護回路80における放電動作が禁止される。すなわち、この場合には、ESD保護回路の保護動作を行わせないことができ、プログラム電圧VPGを不可逆変化回路50に供給することができる。
この発明のESD保護回路の第1の実施形態による構成を示すブロック図。 この発明のESD保護回路の第2の実施形態による構成を示すブロック図。 第1の実施形態の第1の具体例に係るESD保護回路の回路図。 第1の実施形態の第2の具体例に係るESD保護回路の回路図。 第2の実施形態の具体例に係るESD保護回路の回路図。 図3、図4、及び図5中の保護回路の一具体例を示す回路図。 不可逆変化回路の一例を示す回路図。 高電圧発生回路を使用したプログラム回路の一例を示す回路図。 本発明の応用例に係るプログラム回路の一例を示す回路図。
符号の説明
11…放電回路部、12A,12B…トリガ回路部、13…トリガ制御回路部、14…放電制御回路部、22…サイリスタ、25,27…ダイオード、28…MOSトランジスタ、29…制御端子、30…ゲート保護回路、30A…ベース保護回路、34,35…バイポーラトランジスタ。

Claims (5)

  1. 半導体装置の所定のノードに接続され、この所定のノードにサージ電圧が印加された際に放電を行う放電回路部と、
    上記放電回路部をトリガして上記放電回路部における放電動作を開始させるトリガ回路部と、
    上記トリガ回路部が上記放電回路部における放電動作を開始させる際のトリガ電圧の値を調整するトリガ制御回路部
    を具備したことを特徴とする静電保護回路。
  2. 前記放電回路部は、前記所定のノードと基準電圧のノードとの間に電流通路が挿入されたサイリスタを有し、
    前記トリガ回路部は、前記サイリスタの制御電極と前記基準電圧のノードとの間に挿入された複数個のダイオードを有し、
    前記トリガ制御回路部は、前記ダイオードと前記基準電圧のノードとの間に電流通路が挿入され、ゲートに制御電圧が供給されるMOSトランジスタを有することを特徴とする請求項1記載の静電保護回路。
  3. 前記放電回路部は、前記所定のノードと基準電圧のノードとの間に電流通路が挿入されたサイリスタを有し、
    前記トリガ回路部は、前記サイリスタの制御電極と前記基準電圧のノードとの間に挿入された複数個のダイオードを有し、
    前記トリガ制御回路部は、前記ダイオードと前記基準電圧のノードとの間に電流通路が挿入され、ベースに制御電圧が供給されるバイポーラトランジスタを有することを特徴とする請求項1記載の静電保護回路。
  4. 半導体装置の所定のノードに接続され、この所定のノードにサージ電圧が印加された際に放電を行う放電回路部と、
    上記放電回路部をトリガして上記放電回路部における放電動作を開始させ、上記放電回路部における放電動作を開始させる際のトリガ電圧の値が固定されたトリガ回路部と、
    上記トリガ回路部のトリガ電圧の値にかかわらずに上記放電回路部における放電動作を禁止する放電制御回路部
    を具備したことを特徴とする静電保護回路。
  5. 前記放電回路部は、前記所定のノードと基準電圧のノードとの間に電流通路が挿入されたサイリスタを有し、
    前記トリガ回路部は、前記サイリスタの制御電極と前記基準電圧のノードとの間に接続された複数個のダイオードを有し、
    前記放電制御回路部は、前記サイリスタの電流通路に対して電流通路が直列に挿入され、ベースに制御電圧が供給されるバイポーラトランジスタを有することを特徴とする請求項4記載の静電保護回路。
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