JP2016162884A - 静電気保護回路 - Google Patents

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Abstract

【課題】ESDサージを十分に放電出来ると共に、放電用のシャント素子を焼損による破壊から保護することが出来る静電気保護回路を提供すること。
【解決手段】一つの実施形態によれば、静電気保護回路は、第1の電源ラインと第2の電源ラインを有する。前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間に接続され、前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間の電圧変動に応答してトリガ信号を出力するトリガ回路を有する。前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間に主電流路が接続され、前記トリガ回路のトリガ信号によりオン/オフが制御されるシャント素子を有する。前記シャント素子の主電流路の電流値が予め定めた閾値を超えた時に制御信号を前記シャント素子に供給して、前記シャント素子をオフにする制御回路を有する。
【選択図】図1

Description

本実施形態は、静電気保護回路に関する。
従来、ESD (Electrostatic Discharge)に対する保護回路の提案が、種々行われている。ESDは、帯電した人間や機械からの半導体デバイスへの放電や、帯電した半導体デバイスからの接地電位への放電等を指す。半導体デバイスに対してESDが起こると、その端子から大量の電荷が電流となって半導体デバイスへ流入し、その電荷が半導体デバイス内部で高電圧を生成し、内部素子の絶縁破壊や半導体デバイスの故障を引き起こす。
静電気保護回路の代表例に、RCT(RC Triggered)MOS回路がある。電源端子間に抵抗とコンデンサの直列回路からなるトリガ回路を接続し、その抵抗とコンデンサの接続点の電圧をトリガ信号として、放電用のシャントトランジスタを駆動する構成となっている。放電用のシャントトランジスタのオン時間はトリガ回路の時定数により定まる為、トリガ回路の時定数はESDサージを十分放電できる時定数とする必要がある。しかしながら、長時間に亘って大きな電流が放電用のシャントトランジスタに流れ続けると放電用のシャントトランジスタ自体が焼損し破壊に至ると言った事態が生じる恐れがある。
特開2014−86580号公報 特開2008−235886号公報 特開平8−321756号公報 特表2009−534845号公報
本発明の一つの実施形態は、ESDサージを十分に放電出来ると共に、放電用のシャント素子を焼損による破壊から保護することが出来る静電気保護回路を提供することを目的とする。
本発明の一つの実施形態によれば、静電気保護回路は、第1の電源ラインと第2の電源ラインを有する。前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間に接続され、前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間の電圧変動に応答してトリガ信号を出力するトリガ回路を有する。前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間に主電流路が接続され、前記トリガ回路のトリガ信号によりオン/オフが制御されるシャント素子を有する。前記シャント素子の主電流路の電流値が予め定めた閾値を超えた時に制御信号を前記シャント素子に供給して、前記シャント素子をオフにする制御回路を有する。
図1は第1の実施形態の静電気保護回路を示す図である。 図2は第2の実施形態の静電気保護回路を示す図である。 図3は第3の実施形態の静電気保護回路を示す図である。 図4は第4の実施形態の静電気保護回路を示す図である。 図5は第5の実施形態の静電気保護回路を示す図である。
以下に添付図面を参照して、実施形態にかかる静電気保護回路を詳細に説明する。なお、これらの実施形態により本発明が限定されるものではない。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態の静電気保護回路を示す図である。本実施形態の静電気保護回路は、第1の電源端子10に接続される第1の電源ライン14を有する。第1の電源端子10には、定常動作時に、例えば、高電位側の電源電圧VCCが印加される。本実施形態の静電気保護回路は、第2の電源端子12に接続される第2の電源ライン16を有する。第2の電源端子12には、定常動作時に、例えば、低電位側の接地電位VSSが印加される。第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間の電圧によってバイアスされる内部回路が接続されるが省略している。
本実施形態の静電気保護回路は、第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間に接続されるトリガ回路20を有する。トリガ回路20は、第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間の電圧に応答してトリガ信号を出力する。
本実施形態の静電気保護回路は、第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間に接続されるシャント回路50を有する。シャント回路50は、例えば、主電流路であるソース・ドレイン路が第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間に接続されるMOSトランジスタで構成されるシャント素子(図示せず)を有する。シャント回路50には、トリガ回路20から信号ライン24を介してトリガ信号が供給される。
本実施形態の静電気保護回路は、第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間に、シャント回路50に直列に接続される過電流検出回路40を有する。過電流検出回路40は、シャント回路50に流れる電流を検出し、シャント回路50を流れる電流が予め設定した閾値電流を超えると制御信号を出力する。
本実施形態の静電気保護回路は、スイッチ回路30を有する。スイッチ回路30は過電流検出回路40からの制御信号に応答してシャント回路50をオフにする。
本実施形態の静電気保護回路においては、シャント回路50に流れる電流が予め定めた電流を超えると、過電流検出回路40が応答してスイッチ回路30を動作させ、シャント回路50をオフにする制御を行う。これにより、シャント回路50を構成するシャント素子を過電流による破壊から保護することが出来る。過電流検出回路40が応答する電流の値は、シャント素子に許容される電流の値を考慮して、任意に設定することが出来る。例えば、ESD規格で定めるピーク電流を閾値とすることが出来る。すなわち、シャント回路50を流れる電流がESD規格で定めるピーク電流を超えたことを過電流検出回路40が検出した時にシャント回路50をオフにする制御を行う構成とすることが出来る。例えば、ESD試験規格の人体帯電モデル(HBM法:Human Body Model)においては、ピーク電流は1.33A(アンペア)と定めている。
(第2の実施形態)
図2は、第2の実施形態の静電気保護回路を示す図である。既述の実施形態に対応する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態の静電気保護回路は、第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間に接続されるトリガ回路20を有する。トリガ回路20は、コンデンサ21と抵抗22の直列回路を有する。コンデンサ21と抵抗22の共通接続ノード23が、トリガ回路20の出力端を構成する。
例えば、トリガ回路20を構成するコンデンサ21と抵抗22で構成されるCR回路の時定数は、ESD試験規格を満たす値に設定される。ESD人体帯電モデルでは、100pF(ピコファラッド)に充電した電荷を、1.5kΩ(キロオーム)の抵抗を介して放電させる試験を行う。この為、トリガ回路20の時定数は、このESD試験規格である100pFのコンデンサと1.5kΩの抵抗による時定数150nS(ナノ秒)を考慮して、例えば、150nSの6〜7倍の値である1μS(マイクロ秒)に設定される。ESDサージを十分に放電する為である。例えば、コンデンサ21の値を1pFとし、抵抗22の値を1MΩとすることにより、時定数を1μSに設定する。
トリガ回路20の共通接続ノード23は、信号ライン24を介してシャント回路50を構成するNMOSトランジスタ51のゲートに接続される。NMOSトランジスタ51のソースは、第2の電源ライン16に接続される。NMOSトランジスタ51のドレインは、抵抗46を介して第1の電源ライン14に接続される。これにより、NMOSトランジスタ51の主電流路であるソース・ドレイン路は、第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間に接続される。
抵抗46とNMOSトランジスタ51のドレインの接続端45がPMOSトランジスタ41のゲートに接続される。PMOSトランジスタ41のソースは第1の電源ライン14に接続され、ドレインは抵抗43を介して第2の電源ライン16に接続される。
PMOSトランジスタ41のドレインと抵抗43の接続端44がNMOSトランジスタ31のゲートに接続される。NMOSトランジスタ31のソースは第2の電源ライン16に接続され、ドレインはNMOSトランジスタ51のゲートに接続される。
第1の電源端子10に、第2の電源端子12に対して正のESDサージが印加されると、トリガ回路20に過渡的な電流が流れる。この過渡的な電流によって抵抗22に生じる電圧降下がシャント素子を構成するNMOSトランジスタ51の閾値電圧を超えるとNMOSトランジスタ51がオンする。NMOSトランジスタ51がオンすることにより第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間にESDサージの放電路が形成される。
NMOSトランジスタ51がオンしてNMOSトランジスタ51のソース・ドレイン路を流れる電流、すなわちNMOSトランジスタ51のドレイン電流によって抵抗46に生じる電圧降下がPMOSトランジスタ41の閾値を超えるとPMOSトランジスタ41がオンする。
PMOSトランジスタ41がオンしてPMOSトランジスタ41のソース・ドレイン路を流れる電流、すなわちPMOSトランジスタ41のドレイン電流によって抵抗43に生じる電圧降下がスイッチ回路30を構成するNMOSトランジスタ31の閾値電圧を超えるとNMOSトランジスタ31がオンする。NMOSトランジスタ31がオンすると、NMOSトランジスタ51のゲートの電位が引き下げられるため、NMOSトランジスタ51がオフする。
本実施形態によれば、シャント回路50を構成するNMOSトランジスタ51のドレイン電流が予め定めた閾値電流を超えた時にNMOSトランジスタ51をオフさせる制御を行うことが出来る。すなわち、シャント回路50を構成するNMOSトランジスタ51のドレイン電流に応じた電圧降下を生じさせる抵抗46と、抵抗46に生じた電圧によりゲート・ソース間がバイアスされ、抵抗46に生じた電圧によってオン/オフが制御されるPMOSトランジスタ41により、NMOSトランジスタ51のドレイン電流が予め定めた電流値を超えたことを検出することが出来る。
PMOSトランジスタ41がオンした時にスイッチ回路30を構成するNMOSトランジスタ31をオンさせることにより、シャント回路50を構成するNMOSトランジスタ51に過電流が流れ続ける事態を回避することが出来る為、NMOSトランジスタ51を破壊から保護することが出来る。従って、トリガ回路20の時定数を、ESDサージを十分に放電する為に長く設定した場合であっても、シャント回路50を構成するNMOSトランジスタ51を過電流による破壊から保護することが出来る。
シャント回路50を構成するNMOSトランジスタ51をオフさせる電流の閾値は、シャント回路50を構成するNMOSトランジスタ51に許容される電流の値を考慮して、任意に設定することが出来る。例えば、ESD規格で定めるピーク電流を閾値として設定することが出来る。すなわち、ESD規格で定めるピーク電流を超える電流がNMOSトランジスタ51のドレイン電流として流れ、その時に抵抗46に生じる電圧降下によってPMOSトランジスタ41がオンするように抵抗46の抵抗値を設定することが出来る。
(第3の実施形態)
図3は、第3の実施形態の静電気保護回路を示す図である。既述の実施形態に対応する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態の静電気保護回路は、トリガ回路20のコンデンサ21と抵抗22の共通接続ノード23とNMOSトランジスタ51のゲート間に、バッファ回路60が接続される。バッファ回路60は、直列接続された2段のインバータ(61、62)を有する。インバータ(61、62)は、例えば、CMOSインバータで構成することが出来る。トリガ回路20のトリガ信号がバッファ回路60により、波形整形され増幅されてNMOSトランジスタ51のゲートに供給される。
本実施形態においては、トリガ回路20のトリガ信号はバッファ回路60を介してシャント回路50を構成するNMOSトランジスタ51のゲートに供給される。トリガ回路20のトリガ信号をバッファ回路60により増幅して駆動能力を高めてNMOSトランジスタ51に供給することにより、NMOSトランジスタ51の電流容量を大きくすることができる。これにより、ESDサージに対する放電能力を高めることができる。
(第4の実施形態)
図4は、第4の実施形態の静電気保護回路を示す図である。既述の実施形態に対応する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態の静電気保護回路は、シャント回路50を構成するPMOSトランジスタ52を有する。PMOSトランジスタ52のソースは、第1の電源ライン14に接続される。PMOSトランジスタ52のドレインは、抵抗46を介して第2の電源ライン16に接続される。これにより、PMOSトランジスタ52の主電流路であるソース・ドレイン路は、第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間に接続される。
抵抗46とPMOSトランジスタ52のドレインの接続端45がNMOSトランジスタ42のゲートに接続される。NMOSトランジスタ42のソースは第2の電源ライン16に接続され、ドレインは抵抗43を介して第1の電源ライン14に接続される。
NMOSトランジスタ42のドレインと抵抗43の接続端44がPMOSトランジスタ32のゲートに接続される。PMOSトランジスタ32のソースは第1の電源ライン14に接続され、ドレインはPMOSトランジスタ52のゲートに接続される。
第1の電源端子10に、第2の電源端子12に対して正のESDサージが印加されると、トリガ回路20に過渡的に電流が流れる。この過渡的な電流によって抵抗22に生じる電圧降下がシャント素子を構成するPMOSトランジスタ52の閾値電圧を超えるとPMOSトランジスタ52がオンする。PMOSトランジスタ52がオンすることにより第1の電源ライン14と第2の電源ライン16の間にESDサージの放電路が形成される。
PMOSトランジスタ52がオンしてPMOSトランジスタ52のソース・ドレイン路を流れる電流、すなわちPMOSトランジスタ52のドレイン電流によって抵抗46に生じる電圧降下がNMOSトランジスタ42の閾値を超えるとNMOSトランジスタ42がオンする。
NMOSトランジスタ42がオンしてNMOSトランジスタ42のソース・ドレイン路を流れる電流、すなわちNMOSトランジスタ42のドレイン電流によって抵抗43に生じる電圧降下がスイッチ回路30を構成するPMOSトランジスタ32の閾値電圧を超えるとPMOSトランジスタ32がオンする。PMOSトランジスタ32がオンすると、PMOSトランジスタ52のゲートの電位が引き上げられるため、PMOSトランジスタ52がオフする。
本実施形態によれば、シャント回路50を構成するPMOSトランジスタ52のドレイン電流が予め定めた閾値電流を超えた時にPMOSトランジスタ52をオフさせる制御を行うことが出来る。すなわち、シャント回路50を構成するPMOSトランジスタ52のドレイン電流に応じた電圧降下を生じさせる抵抗46と、抵抗46に生じた電圧によりゲート・ソース間がバイアスされ、抵抗46に生じた電圧によってオン/オフが制御されるNMOSトランジスタ42により、PMOSトランジスタ52のドレイン電流が予め定めた電流値を超えたことを検出することが出来る。
NMOSトランジスタ42がオンした時にスイッチ回路30を構成するPMOSトランジスタ32をオンさせることにより、シャント回路50を構成するPMOSトランジスタ52に過電流が流れ続ける事態を回避することが出来る為、PMOSトランジスタ52を破壊から保護することが出来る。
シャント回路50を構成するPMOSトランジスタ52をオフさせる電流の閾値は、シャント回路50を構成するPMOSトランジスタ52に許容される電流の値を考慮して、任意に設定することが出来る。例えば、ESD規格で定めるピーク電流を閾値として設定することが出来る。すなわち、ESD規格で定めるピーク電流を超える電流がPMOSトランジスタ52のドレイン電流として流れ、その時に生じる抵抗46における電圧によってNMOSトランジスタ42がオンするように抵抗46の抵抗値を設定することが出来る。
(第5の実施形態)
図5は、第5の実施形態の静電気保護回路を示す図である。既述の実施形態に対応する構成要素には同一の符号を付している。本実施形態の静電気保護回路においては、トリガ回路20のトリガ信号はバッファ回路60を介してシャント回路50を構成するPMOSトランジスタ52のゲートに供給される。トリガ回路20のトリガ信号をバッファ回路60により増幅して駆動能力を高めてPMOSトランジスタ52に供給することにより、PMOSトランジスタ52の電流容量を大きくすることができる。これにより、ESDサージに対する放電能力を高めることができる。
シャントトランジスタとしては、耐圧の高い、DMOS(Double−Diffused MOS)トランジスタを用いても良い。更に、バイポーラトランジスタをシャントトランジスタとして用いることも可能である。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
10 第1の電源端子、12 第2の電源端子、14 第1の電源ライン、16 第2の電源ライン、20 トリガ回路、30 スイッチ回路、40 過電流検出回路、50 シャント回路。

Claims (5)

  1. 第1の電源ラインと、
    第2の電源ラインと、
    前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間に接続され、前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間の電圧変動に応答してトリガ信号を出力するトリガ回路と、
    前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間に主電流路が接続され、前記トリガ回路のトリガ信号によりオン/オフが制御されるシャント素子と、
    前記シャント素子の主電流路の電流値が予め定めた閾値を超えた時に制御信号を前記シャント素子に供給して、前記シャント素子をオフにする制御回路と、
    を備えることを特徴とする静電気保護回路。
  2. 前記制御回路は、前記シャント素子の主電流路に直列に接続される抵抗と、前記抵抗に生じる電圧降下によってソース・ドレイン間がバイアスされるMOSトランジスタを備えることを特徴とする請求項1に記載の静電気保護回路。
  3. 前記トリガ信号はバッファ回路を介して前記シャント素子に供給されることを特徴とする請求項1または2に記載の静電気保護回路。
  4. 第1の電源ラインと、
    第2の電源ラインと、
    前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間にコンデンサと第1の抵抗が直列接続され、トリガ信号を出力するトリガ回路と、
    前記第1の電源ラインと前記第2の電源ラインの間にソース・ドレイン路が接続され、前記トリガ信号によりオン/オフが制御される第1のMOSトランジスタと、
    前記第1の電源ラインと前記第2の電源ライン間において、前記第1のMOSトランジスタのソース・ドレイン路に直列に接続される第2の抵抗と、
    前記第1の電源ラインと前記第2の電源ライン間にソース・ドレイン路が接続され、前記第2の抵抗と前記第1のMOSトランジスタの接続点にゲートが接続される第2のMOSトランジスタと、
    前記第1の電源ラインと前記第2の電源ライン間において、前記第2のMOSトランジスタのソース・ドレイン路に直列に接続される第3の抵抗と、
    前記第3の抵抗と前記第2のMOSトランジスタの接続点にゲートが接続され、ソース・ドレイン路が前記第1のMOSトランジスタのゲートと前記第1の電源ラインの間、または、前記第1のMOSトランジスタのゲートと前記第2の電源ラインの間に接続される第3のMOSトランジスタと、
    を備えることを特徴とする静電気保護回路。
  5. 前記トリガ信号は、バッファ回路を介して前記第1のMOSトランジスタに供給されることを特徴とする請求項4に記載の静電気保護回路。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110718545A (zh) * 2018-07-12 2020-01-21 伯恩半导体(深圳)有限公司 一种低容结构的低残压esd浪涌防护器件
US20200412124A1 (en) * 2018-04-12 2020-12-31 Stmicroelectronics International N.V. Low leakage mosfet supply clamp for electrostatic discharge (esd) protection
WO2022190475A1 (ja) * 2021-03-12 2022-09-15 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 静電気放電保護回路、および、電子装置
US11710961B2 (en) 2017-03-29 2023-07-25 Stmicroelectronics International N.V. Electrostatic discharge (ESD) protection circuits using tunneling field effect transistor (TFET) and impact ionization MOSFET (IMOS) devices

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016162884A (ja) 2015-03-02 2016-09-05 株式会社東芝 静電気保護回路
JP2016167516A (ja) * 2015-03-09 2016-09-15 株式会社東芝 静電気保護回路
JP6623139B2 (ja) * 2016-10-24 2019-12-18 株式会社東芝 Esd保護回路
FR3070553B1 (fr) * 2017-08-30 2021-02-19 Airbus Operations Sas Dispositif de protection d'une ligne de transmission de courant contre une surtension transitoire ou permanente et systeme de transmission de courant comprenant un tel dispositif.
TWI654733B (zh) * 2018-06-04 2019-03-21 茂達電子股份有限公司 靜電放電保護電路
TWI655818B (zh) * 2018-07-27 2019-04-01 智原科技股份有限公司 積體電路的靜電放電防護裝置
US10468090B1 (en) * 2018-09-10 2019-11-05 Micron Technology, Inc. Multilayered network of power supply lines
CN113394762A (zh) * 2020-03-12 2021-09-14 长鑫存储技术有限公司 静电保护电路、集成电路及静电泄放方法
US11848554B2 (en) * 2021-04-21 2023-12-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Electrostatic discharge circuit and method of operating same

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08321756A (ja) 1995-05-25 1996-12-03 Mitsubishi Electric Corp 半導体素子駆動回路
US7102864B2 (en) * 2004-06-14 2006-09-05 King Billion Electronics Co., Ltd. Latch-up-free ESD protection circuit using SCR
JP2009534845A (ja) 2006-04-21 2009-09-24 サーノフ コーポレーション 電力状態の検出によるesdクランプ制御
KR20070115093A (ko) * 2006-05-30 2007-12-05 삼성전자주식회사 정전 방전 감지회로를 구비한 반도체 장치
US7660086B2 (en) * 2006-06-08 2010-02-09 Cypress Semiconductor Corporation Programmable electrostatic discharge (ESD) protection device
US7692907B2 (en) * 2006-09-11 2010-04-06 Industrial Technology Research Institute Circuit for electrostatic discharge (ESD) protection
US20080218920A1 (en) 2007-03-08 2008-09-11 Sarnoff Corporation Method and aparatus for improved electrostatic discharge protection
US8519432B2 (en) * 2007-03-27 2013-08-27 Analog Devices, Inc. Semiconductor switch
US20080239599A1 (en) * 2007-04-01 2008-10-02 Yehuda Yizraeli Clamping Voltage Events Such As ESD
US8804289B2 (en) * 2007-10-17 2014-08-12 Nxp, B.V. Voltage surge protection circuit
US7982523B2 (en) * 2008-12-05 2011-07-19 Infineon Technologies Ag Electro static discharge clamping device
CN101707363B (zh) * 2009-07-22 2012-12-19 彩优微电子(昆山)有限公司 一种具有实时检测功能的静电破坏保护电路及其控制方法
US8817433B2 (en) * 2011-07-28 2014-08-26 Arm Limited Electrostatic discharge protection device having an intermediate voltage supply for limiting voltage stress on components
JP2014086580A (ja) 2012-10-24 2014-05-12 Toshiba Corp 保護回路
US8913359B2 (en) * 2012-12-11 2014-12-16 Globalfoundries Singapore Pte. Ltd. Latch-up free RC-based NMOS ESD power clamp in HV use
US9130562B2 (en) * 2013-03-13 2015-09-08 Alpha And Omega Semiconductor Incorporated Active ESD protection circuit
TWI573248B (zh) * 2013-05-28 2017-03-01 普誠科技股份有限公司 可承受過度電性應力及避免栓鎖的靜電放電防護電路
JP2014241537A (ja) * 2013-06-12 2014-12-25 株式会社東芝 静電気保護回路
JP2015002510A (ja) * 2013-06-18 2015-01-05 株式会社東芝 静電気保護回路
US9634482B2 (en) * 2014-07-18 2017-04-25 Analog Devices, Inc. Apparatus and methods for transient overstress protection with active feedback
JP2016162884A (ja) * 2015-03-02 2016-09-05 株式会社東芝 静電気保護回路
JP2016167516A (ja) * 2015-03-09 2016-09-15 株式会社東芝 静電気保護回路

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11710961B2 (en) 2017-03-29 2023-07-25 Stmicroelectronics International N.V. Electrostatic discharge (ESD) protection circuits using tunneling field effect transistor (TFET) and impact ionization MOSFET (IMOS) devices
US20200412124A1 (en) * 2018-04-12 2020-12-31 Stmicroelectronics International N.V. Low leakage mosfet supply clamp for electrostatic discharge (esd) protection
US11658479B2 (en) * 2018-04-12 2023-05-23 Stmicroelectronics International N.V. Low leakage MOSFET supply clamp for electrostatic discharge (ESD) protection
CN110718545A (zh) * 2018-07-12 2020-01-21 伯恩半导体(深圳)有限公司 一种低容结构的低残压esd浪涌防护器件
WO2022190475A1 (ja) * 2021-03-12 2022-09-15 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 静電気放電保護回路、および、電子装置

Also Published As

Publication number Publication date
US10468870B2 (en) 2019-11-05
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