JP2008127664A - 絶縁被膜を有する電磁鋼板 - Google Patents

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Abstract

【課題】Crを含有しない無機物を主成分とする絶縁被膜であって、300℃以下で焼き付けた後(歪み取り焼鈍前)の耐食性ならびに歪取り焼鈍後の耐食性に優れる絶縁被膜を有する電磁鋼板を提供する。
【解決手段】ZrおよびP、ならびにMg、Caのうちの一つ以上を含有し、PがZrに対しモル比でP/Zr=0.4〜4.0であり、MgとCaの合計量がZrに対しモル比で(Mg+Ca)/Zr=0.005〜0.10である絶縁被膜を有する電磁鋼板。例えば、前記絶縁被膜は、Zr化合物として炭酸Zrアンモニウム、P化合物としてリン酸マグネシウム、Mg化合物としては水酸化Mg、Ca化合物としては水酸化Caを原料とした塗料を電磁鋼板表面に塗布焼付けし造膜して得られるものである。また、前記絶縁被膜中には、樹脂を含有することもできる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、Crを含有しない絶縁被膜を有する電磁鋼板に関するものである。
モータや変圧器等に使用される電磁鋼板の絶縁被膜は、層間抵抗だけでなく種々の特性が要求される。例えば、加工成形時の利便性、保管、使用時の安定性などである。さらに、電磁鋼板は多様な用途に使用されるため、その用途に応じて種々の絶縁被膜の開発が行われている。
例えば、電磁鋼板に打抜加工、せん断加工、曲げ加工などを施すと残留歪みにより磁気特性が劣化する。そこで、劣化した磁気特性を回復させるため750〜850℃程度で歪取り焼純を行う場合が多い。この場合には絶縁被膜が歪取り焼鈍に耐えるものでなければならない。
絶縁被膜は、(1)溶接性、耐熱性を重視し、歪取り焼鈍に耐える無機被膜(原則として有機樹脂を含まない)、(2)打抜性、溶接性の両立を目指し、歪取り焼鈍に耐える有機樹脂を含有する無機被膜、(3)特殊用途で歪取り焼鈍を施すことができない有機被膜、の3種に大別される。この中で、汎用品として歪取り焼鈍に耐えるのは(1)、(2)の無機物を含む被膜であり、両者とも被膜中にクロム化合物を含む。特に、(2)のタイプで有機樹脂を含有したクロム酸塩系絶縁被膜は、無機系絶縁被膜に比べて打抜性を格段に向上させることができるので広く利用されている。
例えば、特許文献1には、少なくとも1種の2価金属を含む重クロム酸塩系水溶液に、該水溶液中のCrO:100重量部に対し、酢酸ビニル/ベオバ(TM)比が90/10〜40/60の比率である樹脂エマルジョンを樹脂固形分で5〜120重量部、および有機還元剤を10〜60重量部の割合で配合して処理液(coating liquid)とし、該処理液を基地鉄板(steel sheet)の表面に塗布し、常法による焼付け工程を経て形成した、電気絶縁被膜を有する電磁鋼板が記載されている。
しかしながら、昨今、環境意識が高まり、これを受けて、電磁鋼板の分野においてもCrを含有しない絶縁被膜を有する製品が需要家等から望まれてきている。
このような現状に対して、Crを含有しない絶縁被膜付き電磁鋼板が提案されている。特許文献2には、Crを含まず打抜性が良好な絶縁被膜として、樹脂および、コロイダルシリカとしてアルミナ含有シリカを成分としたものが記載されている。
特許文献3には、コロイド状シリカ、アルミナゾル、ジルコニアゾルの1種または2種以上よりなる無機コロイド状物質100重量部に対し、水溶性またはエマルジョンタイプの樹脂を15〜400重量部以上加えた水溶液を塗布し焼き付けてなる絶縁被膜が記載されている。
特許文献4には、Al、Si、Ti、Zrのうち少なくとも1種を含む酸化物系ポリマーからなる被膜にAl、Si、Ti、Zrのうち少なくとも1種からなる酸化物微粒子(粒子径10〜100nm)を35〜90重量%含有させてなる絶縁被膜が開示されている。
また、特許文献5には、クロムを含まないリン酸塩を主体とし、樹脂および選択的にコロイダルシリカを含有した絶縁被膜が記載されている。
さらに、特許文献6には、有機樹脂100重量部にリン酸を5〜100重量部、Mn、Mg、Al等の化合物を20〜200重量部、ZrO、Al、SiO、SnO、Sbのコロイド(ゾル)の1種あるいは2種以上5〜150重量部を、それぞれ配合したクロムフリー電磁鋼板表面処理用組成物が開示されている。
特公昭60−36476号公報 特開平10−130858公報 特開平10−46350公報 特許第2861702号公報 特許第2944849号公報 特開平9−316655号公報
しかしながら、これらのCrを含有しない絶縁被膜付き電磁鋼板は、クロム化合物を含む場合に比べ、十分な耐食性が得られていなかった。
本発明は、上記の事情に鑑み、Crを含有しない無機物を主成分とする絶縁被膜であって、300℃以下で焼き付けた後(歪み取り焼鈍前)の耐食性ならびに歪取り焼鈍後の耐食性に優れる絶縁被膜を有する電磁鋼板を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を行った。その結果、以下の知見を得た。
1)Zr化合物を被膜中に特定量含有することにより、ZrがFe表面の酸化物、水酸化物などと強固に結合しクロム化合物を使用しなくても強靭な被膜を形成することができる。
2)さらに、Mg、Caのうちの一つ以上を被膜中に所定量含有することにより、良好なバリアー性をもった被膜が形成され耐食性に大きな改善効果が得られる。
本発明は、以上の知見に基づきなされたもので、その要旨は以下のとおりである。
[1]ZrおよびPを含有するとともに、Mg、Caのうちの一つ以上を含有する絶縁被膜を有する電磁鋼板であって、PがZrに対しモル比でP/Zr=0.4〜4.0であり、
MgとCaの合計量がZrに対しモル比で(Mg+Ca)/Zr=0.005〜0.10であることを特徴とする絶縁被膜を有する電磁鋼板。
[2]前記[1]において、前記絶縁被膜中には、さらに、樹脂を含有し、固形分重量換算で、樹脂固形分/全固形分が0.5以下であることを特徴とする請求項1に記載の絶縁被膜を有する電磁鋼板。
[3]前記[2]において、前記樹脂が、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂の1種または2種以上であることを特徴とする請求項2に記載の絶縁被膜を有する電磁鋼板。
本発明によれば、焼き付けた後(歪み取り焼鈍前)の耐食性ならびに歪取り焼鈍後の耐食性に優れる絶縁被膜を有する電磁鋼板が得られる。特に、本発明は300℃以下の焼き付け温度でその効果を発揮し、消費エネルギーおよび製造コストの低減等の観点からも優れた発明と言える。
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明の電磁鋼板は、絶縁被膜を有する電磁鋼板であり、前記絶縁被膜はZr化合物およびP化合物、ならびにMg、Caのうちの一つ以上、そして、必要に応じて樹脂を主成分として含有することとする。これは本発明において、最も重要な要件である。そして、このような絶縁被膜を有することにより、300℃以下で焼き付けた後(歪み取り焼鈍前)の耐食性に優れ、かつ、歪取り焼鈍後の耐食性にも優れることになる。
まず、本発明で用いる電磁鋼板について説明する。
本発明で用いることができる、絶縁被膜を形成する前の電磁鋼板(電気鉄板ともいう)は、比抵抗を変化させて所望の磁気特性を得るために調整された鋼板(鉄板)であればどのような組成の鋼板でもよく、特に制限されない。
以下に、組成の一例を挙げる。鉄損の向上には、比抵抗を上昇させることが有効なので、比抵抗向上成分であるSi、Al、Mn、Cr、P、NiおよびCu等から選ばれる少なくとも1種を、必要に応じて添加することが好ましい。これらの元素の含有量は所望する磁気特性に応じて決定すればよいが、Si:約5質量%以下(無添加を含む、以下同様)、Al:約3質量%以下、Mn:約1.0質量%以下、Cr:約5質量%以下、P:約0.5質量%以下、Ni:約5質量%以下、Cu:約5質量%以下がそれぞれ一般的である。代表的な電磁鋼板の組成はSiを0.1質量%以上添加したものであるが、低級品ではSi:0.05質量%以上の添加でも磁気特性を向上させる上で好ましい。
また、磁気特性改善のために、インヒビター形成元素あるいは偏析元素であるMn、Se、S、Al、N、Bi、B、SbおよびSn等から選ばれる少なくとも1種を必要に応じて添加することができる。インヒビター形成元素等を添加する場合は、通常、これらの元素が合計で0.5質量%以下含有するのが好ましい。
以上を除く残部は鉄および不可避な不純物である。不純物としては、例えば、C、N、Oやインヒビターとして効果の少ない少量のS等が挙げられる。不純物は少ない方が良いが、高級品でなければ、Cを約0.02〜0.05質量%程度含有していてもよい。
また、本発明の電磁鋼板の板厚は特に限定されない。通常の厚みである0.02〜1.0mm程度であるのが好ましい。また、通常はフラットな形状であるが、目的によっては湾曲した形状のものでもよい。
また、絶縁被膜が形成される電磁鋼板の表面は、アルカリなどによる脱脂処理、塩酸、硫酸、リン酸などによる酸洗処理など、任意の前処理を施してよいし、仕上げ焼鈍が施され、製造されたままの未処理の表面であってもよい。
さらに、絶縁被膜と地鉄表面との間に第3の層を形成させることは必ずしも要さないが、必要に応じて形成させてもよい。例えば、通常の製法では地鉄金属の酸化被膜が絶縁被膜と地鉄表面との間に形成されることがあるが、これを除去する手間は省いてもよい。
次に、上記電磁鋼板の表面に塗布される本発明の絶縁被膜について説明する。
本発明の絶縁被膜は、以下に述べる必須成分(Zr化合物、P化合物、ならびにMg、Caのうちの一つ以上)、あるいはさらに好適成分(樹脂)を含む被膜原料を電磁鋼板表面に塗布し、乾燥および/または焼き付け処理を施すことで得られる。塗布する被膜原料は、水性のペースト状あるいは液状を用いることができる。必要以上に被膜厚み(被膜付着量)を増大させない観点や効果の点から液状(水性液)とすることが好ましい。なお、以下の説明において、処理液とした場合には原則として、液状およびペースト状の原料も含むものとする。
Zr化合物
本発明の電磁鋼板に付される絶縁被膜は、Zr化合物を特定量含有する。Zrは最大で8つの配位数を持ち、一般には4つの結合手により他の物質、特に酸素と強く結合する。このためFe表面の酸化物、水酸化物、リン酸塩などと強固に結合しクロム化合物を使用しなくても強靭な被膜を形成することができると考えられる。
しかしながらZr化合物のみを絶縁被膜の主成分とした場合は耐食性がやや劣り、歪取り焼鈍後の耐キズ性が大きく劣化する傾向が見られる。これは、Zr化合物の結合手が多いためネットワークがうまく形成されず、却って脆弱な被膜になるためと考えられる。そこで、本発明者らは、さらに研究を進めた結果、Mg化合物、Ca化合物のうちの一つ以上を所定量含有させた被膜を形成することで、前記課題が解決されることを見出した。
本発明において、絶縁被膜の原料として用いることができるZr化合物としては、例えば、炭酸Zrアンモニウム、炭酸Zrカリウム、炭酸Zrナトリウム、炭酸Zrリチウム、炭酸Zrアンモニウムカリウム、炭酸Zrアンモニウムナトリウムなどを挙げることができ、これらは1種または2種以上混合して用いることが好ましい。また、炭酸Zrアンモニウムとしては、(NH)[Zr(CO)(OH)]、(NH)ZrO(CO)、炭酸ZrカリウムはK[Zr(CO)(OH)]、KZrO(CO)があげられ、どれも好適に用いることができる。
なお、上に列記したZr化合物はZrの同属元素であるHf、Tiあるいはこれらの酸化物(HfO、TiO)、さらにSiO、Fe等を不純物として合計5質量%程度以下含んでいてもよい。なお、不純物の主体はHfあるいはHfOである。
また、Zr化合物にはアルカリ金属が含有されてもよく、その含有量は特に規定しないが、アルカリ金属M(K、Na等)とZrのモル比が(Mの総量)/Zrで2.5以下であることが好ましい。より好ましくは0.2以上、2.3以下である。このような範囲であれば、Zr化合物の結合手をコントロールして良好なネットワークが形成でき、被膜が強固になると考えられる。アルカリ金属Mが多くモル比で(Mの総量)/Zrが2.5超えの場合には、結合手が少なすぎて十分な強さの被膜になりにくい。なお、モル比(Mの総量)/Zrは調合時の添加重量から計算できる。また、蛍光X線で存在比をとってもよい。
本発明において絶縁被膜の原料となるZr化合物は、ペースト状の、水に不溶性のものより水溶性のものが好ましい。他の物質との結合が強固となり、より緻密な被膜を形成するからである。ここで水溶性のものとは、水に溶解するか、あるいはコロイドを形成して水中に安定して分散するものを指す。
なお、「ZrOに換算」とは、含有されるZrが全てZrOを形成していると仮定して、ZrOの含有量を算出することを意味する。他の化合物の換算についても同様である。
P化合物
本発明の電磁鋼板に付される絶縁被膜は、P化合物を特定量含有する。P化合物はZr化合物と強固に結合し被膜を形成するために必要である。本発明において、絶縁被膜の原料として用いることができるP化合物としては、リン酸、リン酸マグネシウム、リン酸カルシウムが挙げられる。
P化合物は、Zr化合物に対して、モル比でP/Zr=0.4〜4.0とする。P/Zrが4.0を超えると、耐食性が劣化してしまうため、上限を4.0とする。好ましくは、P/Zr:0.5〜2.5である。なお、モル比P/Zrは調合時の添加重量から計算できる。また、蛍光X線などで存在比をとってもよい。
なお、「Pに換算した」とは、含有されるPが全てPを形成していると仮定して、Pの含有量を算出することを意味する。以後、簡略化し単に「P換算で」ともいう。他の化合物の換算についても同様である。
Mg化合物、Ca化合物
本発明者らは鋭意研究した結果、絶縁被膜においてMg化合物とCa化合物のうちの1種以上をモル比で(Mg+Ca)/Zr=0.005〜0.10含有することで、格段に耐食性が改善することを知見した。この理由については明らかではないが、PとZrのネットワークに微量のMg及び/またはCaが入り込むことにより、PとZrのネットワークの規則性が乱れ柔軟性が与えられる。このような柔軟性により、被膜にクラックが生じることが防止される等、耐食性に関して良好なバリアー性をもった被膜を形成できたものと推定している。あるいは、水、酸素といった腐食物質の浸入部位に入りこみ、バリアー性を高めているとも推定される。
(Mg+Ca)/Zrが0.005より少ないと本発明の効果が薄れる。また、(Mg+Ca)/Zrが0.10を越えると塗液の凝集により被膜が粗くなり、却って特性が悪くなる。
Mg化合物としては水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、Mgの有機酸塩、酸化マグネシウムなどを挙げることができる。Ca化合物としては水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、塩基性炭酸カルシウム、Caの有機酸塩、酸化カルシウムなどを挙げることができる。
これら化合物は本発明に用いるZr化合物を含む塗液に溶解させる、または微粒子状に分散またはスラリー状に分散させる。また、キレート剤を使用して、安定的に溶解、分散させてもよい。キレート剤はMg、Caをキレート化できるものであれば特に制限されない。例えば、EDTA(エチレンジアミン四酢酸)、NTA(ニトリロ三酢酸)及びこれらの誘導体などを挙げることができる。
樹脂
樹脂は、Zr化合物からなる無機被膜における造膜時の収縮応力を効果的に緩和することで被膜の特性改善に寄与する。このため、絶縁被膜中に樹脂を含有するのが好ましい。特に、軟質なもの、塗布焼付時にガラス転移点や融点を越えるものなどが好ましい。含有するにあたっては、固形分重量換算で樹脂固形分/全固形分を0.5以下含有することとするのが好ましい。0.5超えでは、特に歪取り焼鈍後の耐キズ性が劣化しやすい。
上記において含有する樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等の1種または2種以上の水性樹脂(エマルション、ディスパーション、水溶性)であることが好ましい。これらは乳化や他の材料とのなじみを良くするために酸化処理やブロック共重合体、グラフト共重合体であってもよい。熱可塑性樹脂の場合、分子量は特に規定しないがMw500〜1000000程度が特に好ましい。
以上より、本発明は前記Zrと前記Pと、ならびに前記Mg、前記Caのうちの一つ以上と、好ましくは前記樹脂からなる絶縁被膜を有する電磁鋼板で目的とする特性が得られるが、上記の含有物に加えて、本発明の作用効果を害さない範囲で、以下に示す目的で以下の添加剤、他の無機化合物、有機化合物を含有することができる。
添加剤
本発明の絶縁被膜は、被膜の性能や均一性を一層向上させるために、必要に応じて、界面活性剤(ノニオン系、カチオン系、アニオン系界面活性剤;シリコーン界面活性剤;アセチレンジオールなど)、防錆剤(アミン系、非アミン系防錆剤など)、ホウ酸、シランカップリング剤(アミノシラン、エポキシシランなど)、潤滑剤(ワックスなど)等の有機および無機添加剤を含有することができる。これらの添加剤としては、従来知られているクロメート系の絶縁被膜や、これまでに提案されている非クロメート系絶縁被膜に適用される、公知のものを用いることができる。
これらの添加剤を用いる場合、十分な被膜特性を維持するために、本発明の絶縁被膜の全固形分重量に対して10重量%程度以下とすることが好ましい。なお、ここで「全固形分重量」とは、後述する方法で電磁鋼板表面に形成した被膜の乾燥後の付着量である。全固形分重量は、アルカリ剥離による被膜除去後の重量減少から測定することができる。
他の無機化合物、有機化合物
本発明の絶縁被膜は、本発明の効果が損なわれない程度に、他の無機化合物および/または有機化合物を含有してもよい。例えば、液安定性が確保できれば他の酸化物ゾルを添加することができる。酸化物ゾルとしてはアルミナゾル、鉄ゾル、チタニアゾル、スズゾル、セリウムゾル、アンチモンゾル、タングステンゾル、モリブデンゾルが挙げられる。
なお、本発明はクロム化合物を添加せずに良好な被膜特性を得ることを目的している。したがって、本発明の絶縁被膜は製造工程および製品からの環境汚染を防止する観点からCrを実質的に含まないことが好ましい。不純物として許容されるクロム量としては、絶縁被膜の全固形分重量に対してCrO換算した量で0.1質量%以下とすることが好ましい。
Si化合物
本発明の絶縁被膜は、本発明の効果を損なわない程度にSi化合物を含有することができる。処理液に含有させるSi化合物としては、コロイダルシリカが好ましく適用される。
コロイダルシリカはSiOを主成分とする無機コロイドであり、アモルファス状であることが多い。コロイダルシリカの粒子径は、好ましくは200nm以下、さらに好ましくは100nm以下である。下限は特に限定されないが、超微細な粒子とすると同じ含有量でも全体の表面積が大きくなるため、他の成分との相互作用が高くなって被膜の強さが増とすものと考えられる。なお、粒子径が小さい場合はシリカ粒子同士および他成分との間で凝集が起こりやすいので、コロイダルシリカの濃度を低目に調整するとよい。逆に所望の濃度から実用に適した粒子径に設定してもよい。なお、平均粒子径はBET法(吸着法による比表面積から換算)により測定できる。また、電子顕微鏡写真から実測した平均値(球径換算)で代用することも可能である。
本発明で用いるSi化合物としては、他の金属元素を不純物程度以上は含まないことが望ましい。その他、考えられる不純物については、SiO換算重量に対してNaO:5%以下、Cl:5%以下、SO:3%以下とすることが好ましい。
次に本発明の絶縁被膜を有する電磁鋼板の製造方法について説明する。
本発明の出発素材として用いる電磁鋼板の前処理は特に規定しない。仕上げ焼鈍後、未処理あるいは水洗、アルカリなどの脱脂処理、塩酸、硫酸、リン酸などの酸洗処理が好ましく適用される。
そして、この電磁鋼板上に上述したZr化合物と、上述したP化合物と、ならびに上述したMg化合物とCa化合物のうちの一つ以上と、必要に応じて上述した樹脂、さらに必要に応じて上述した添加剤、Si化合物等を含有する処理液を塗布する。その後、前記処理液を塗布した電磁鋼板に必要に応じて焼き付け処理を施すことにより電磁鋼板上に絶縁被膜を形成させる。
絶縁被膜の塗布方法は一般工業的に用いられる、ロールコーター、フローコーター、スプレー、ナイフコーター等種々の設備を用いる方法が適用可能である。また、焼き付け方法についても通常実施されるような熱風式、赤外線加熱式、誘導加熱式等が可能である。
焼き付け温度も通常レベルであればよいが、350℃以下とすることが好ましい。より好ましい範囲は150℃以上300℃以下である。
歪取り焼鈍
本発明の絶縁被膜付き電磁鋼板は、歪取り焼鈍を施して、例えば、打抜き加工による歪みを除去することができる。好ましい歪取り焼鈍雰囲気としては、N雰囲気、DXガス雰囲気などの鉄が酸化されにくい雰囲気が適用される。ただし、僅かな酸化にも利点があり、前記雰囲気において、露点を高く、例えばDp:5〜60℃程度に設定し、表面および切断端面を若干酸化させることで耐食性をさらに向上させることができる。
好ましい歪取り焼鈍温度は600℃以上900℃以下である。より好ましい下限は650℃、さらに好ましくは700℃以上である。さらに、750℃前後あるいは750℃以上とすることが一層好ましい。一方、より好ましい上限は850℃である。歪取り焼鈍における保持時間は長い方が好ましく、2時間以上がより好ましい。
絶縁被膜付着量
絶縁被膜の付着量は特に指定しないが、片面あたり合計で0.01g/m以上5g/m以下であることが好ましい。なお、付着量、即ち、本発明の絶縁被膜の全固形分重量の測定はアルカリ剥離による被膜除去後の重量減少から測定することができる。また、付着量が少ない場合には蛍光X線を用いて測定しても良い。この場合、アルカリ剥離法を用いて作成された検量線により付着量を算出するのがよい。
付着量が0.01g/m未満であると耐食性や絶縁性が不足する可能性がある。また、付着量が5g/mを超えると、塗装における作業性が低下する場合がある。より好ましくは、0.1g/m以上3.0g/m以下である。さらにより好ましくは、0.2g/m以上2.5g/m以下である。
本発明の絶縁被膜は電磁鋼板の両面にあることが好ましいが、目的によっては片面のみでも構わない。すなわち、目的によっては片面のみ施し、他面は他の絶縁被膜としてもよいし、他面に絶縁被覆を施さなくてもよい。
第2の絶縁被膜(上層被膜)
本発明の絶縁被膜(以下、「下地被膜」と称す)の表面に、さらに、下地被膜とは成分の異なる第2の絶縁被膜(以下、「上層被膜」と称す)を有することができる。
ここで上層被膜は、下地被膜の表面に少なくとも1層形成されればよいが、2層以上であってもよい。各上層被膜組成をとくに限定する必要はないが、下地被膜と同様の理由によりCrを実質的に含まないことが好ましい。
本発明の上層被膜は、上記下地被膜と同様な方法で製造することができる。つまり、上記の方法で製造した下地被膜の表面に、さらに同様な方法で上層被膜を製造することができる。なお、本発明の上層被膜が形成された電磁鋼板を歪取り焼鈍する場合も、上記の下地被膜のみが形成された場合の焼鈍方法と同様でよい。
上層被膜を形成する場合の被膜の付着量も任意であるが、下地被膜の付着量は0.001〜1.0g/mとし、上層被膜の付着量は0.04〜4.0g/mとすることが好ましい。この範囲内では下地被膜が薄い絶縁被膜となり、耐食性劣化の原因と考えられるクラックがとくに入りにくい。下地被膜の付着量は0.005g/m以上とすることがより好ましく、0.01g/m以上とすることがさらに好ましい。また、0.2g/m以下とすることがより好ましい。
他方、上層被膜の追加は絶縁性の確保に非常に有用で、下地被膜のキズや欠陥を封止するため、厚め、たとえば0.2g/m以上付与することが好ましい。
なお、薄い下地処理とすることにより、外観も向上する効果が見られる。下地を施した後に上層を塗布した場合、水性の処理液で起こりやすい電磁鋼板のFe溶出が抑制され、外観が向上するものと考えられる。
以下、本発明の効果を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
P化合物、Zr化合物、ならびにMg化合物、Ca化合物のうちの一つ以上、樹脂を表1に示す絶縁被膜組成となるように脱イオン水に添加し、第1層(単層被膜または下地皮膜)用の各処理液を調整した。ここで、P、ZrO換算量、及び樹脂固形分重量の合計が脱イオン水量に対して、50g/l添加された処理液となるように調整した。次いで、これらの各処理液を、板厚0.5mmの電磁鋼板(Si:0.25質量%)から幅150mm、長さ300mmの大きさに切り出した試験片の表面にロールコーターで塗布し、プロパンガス直火により到達温度200℃で焼付けした後、常温で放冷し、絶縁被膜を形成した。以上により得られた絶縁被膜を有する電磁鋼板に対して、以下の方法により耐食性の評価を行った。
<焼き付け後(製品板)および歪取り焼鈍後の耐食性>
各処理液を塗布して絶縁被膜を付与した各試験片を、5%NaCl、35℃の塩水噴霧試験に7時間保持し、試験片表面の錆び発生面積率を求め、耐食性を下記の判定基準に従って評価した。尚、錆び発生面積率とは、観測全面積に対する、錆び発生面積の合計の百分率であり、目視により判定した。
さらに、N雰囲気、750℃で2時間保持して歪取り焼鈍したサンプルの表面については50℃、相対湿度80%の恒温恒湿槽に14日間保持し、試験片表面の錆び発生面積率を求め、同様の判定基準に従って耐食性を評価した。
(判定基準)
◎;錆び発生面積率=0%以上5%未満
○;錆び発生面積率=5%以上20%未満
△;錆び発生面積率=20%以上50%未満と
×;錆び発生面積率=50%以上
以上より得られた結果を実験条件と併せて表1に、および図1に示す。
Figure 2008127664
表1および図1から明らかなように、本発明例は、製品板、歪取り焼鈍板のいずれも耐食性に優れている。一方、比較例では、製品板、歪取り焼鈍板のいずれか一つ以上で耐食性が劣っている。
Crを含有しない無機物を主成分とする絶縁被膜でありながら、例えば耐食性などCr含有絶縁被膜と同等以上の性能を有し、モータや変圧器等を中心に多様な用途での使用が期待される。
(Mg+Ca)含有量のZr含有量に対する比率:(Mg+Ca)/Zr(横軸)が耐食性(縦軸)に与える影響を示す図である。(実施例1)

Claims (3)

  1. ZrおよびPを含有するとともに、Mg、Caのうちの一つ以上を含有する絶縁被膜を有する電磁鋼板であって、
    PがZrに対しモル比でP/Zr=0.4〜4.0であり、
    MgとCaの合計量がZrに対しモル比で(Mg+Ca)/Zr=0.005〜0.10であることを特徴とする絶縁被膜を有する電磁鋼板。
  2. 前記絶縁被膜中には、さらに、樹脂を含有し、固形分重量換算で、樹脂固形分/全固形分が0.5以下であることを特徴とする請求項1に記載の絶縁被膜を有する電磁鋼板。
  3. 前記樹脂が、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂の1種または2種以上であることを特徴とする請求項2に記載の絶縁被膜を有する電磁鋼板。
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