JP4905382B2 - 絶縁被膜を有する電磁鋼板 - Google Patents
絶縁被膜を有する電磁鋼板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4905382B2 JP4905382B2 JP2008036136A JP2008036136A JP4905382B2 JP 4905382 B2 JP4905382 B2 JP 4905382B2 JP 2008036136 A JP2008036136 A JP 2008036136A JP 2008036136 A JP2008036136 A JP 2008036136A JP 4905382 B2 JP4905382 B2 JP 4905382B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- steel sheet
- insulating coating
- coating
- electrical steel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 86
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 81
- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 title claims description 25
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 39
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 30
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 20
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 4
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 claims description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 claims description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 25
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 25
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 25
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 17
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 7
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001845 chromium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 2
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N zirconium nitrate Chemical compound [Zr+4].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O OERNJTNJEZOPIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisobutyric acid Chemical compound CC(C)(O)C(O)=O BWLBGMIXKSTLSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylsulfamoyl)-2-methylfuran-3-carboxylic acid Chemical compound CN(C)S(=O)(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C)O1 DUFCMRCMPHIFTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWYDZVYZTDJZQB-UHFFFAOYSA-N CCCO[Zr] Chemical compound CCCO[Zr] GWYDZVYZTDJZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- JSIVLBGUDVQDHZ-UHFFFAOYSA-J [Cl-].[Cl-].[Cl-].O[Zr+3] Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].O[Zr+3] JSIVLBGUDVQDHZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- PFYRERIAJQIGKB-UHFFFAOYSA-H [K].F[Zr](F)(F)(F)(F)F Chemical compound [K].F[Zr](F)(F)(F)(F)F PFYRERIAJQIGKB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- GZGVYVAXYVPQCO-UHFFFAOYSA-M [NH4+].C([O-])([O-])=O.[Li+] Chemical compound [NH4+].C([O-])([O-])=O.[Li+] GZGVYVAXYVPQCO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N oxozirconium;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.[Zr]=O CMOAHYOGLLEOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- FQLQNUZHYYPPBT-UHFFFAOYSA-N potassium;azane Chemical compound N.[K+] FQLQNUZHYYPPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- TVCBSVKTTHLKQC-UHFFFAOYSA-M propanoate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC([O-])=O TVCBSVKTTHLKQC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VQBIMXHWYSRDLF-UHFFFAOYSA-M sodium;azane;hydrogen carbonate Chemical compound [NH4+].[Na+].[O-]C([O-])=O VQBIMXHWYSRDLF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YHKRPJOUGGFYNB-UHFFFAOYSA-K sodium;zirconium(4+);phosphate Chemical compound [Na+].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O YHKRPJOUGGFYNB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000166 zirconium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J zirconium(4+);disulfate Chemical compound [Zr+4].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O ZXAUZSQITFJWPS-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B zirconium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Zr+4].[Zr+4].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
Description
例えば、電磁鋼板に打抜加工、せん断加工、曲げ加工などを施すと残留歪みにより磁気特性が劣化する。そこで、劣化した磁気特性を回復させるため750〜850℃程度で歪取り焼鈍を行う場合が多い。この場合には絶縁被膜が歪取り焼鈍に耐えるものでなければならない。
このような電磁鋼板用のクロム酸塩系被膜は、鋼板製品としては三価クロムとなっていることがほとんどのため、有害性の問題はない。しかし、塗布液の段階では有害な六価クロムを使用しなければならないため、良好な作業環境の確保のためには、設備の充実はもちろんのこと、厳しい取り扱い基準の遵守が要求される。
このような現状を受けて、さらには昨今の環境意識の高まりを受けて、電磁鋼板の分野においてもCrを含有しない絶縁被膜を有する製品が需要家等から望まれてきている。
発明者らは、シリカ系クロメートフリーコートの製品板耐食性が、従来から言われているCl-、SO4 2-等の不純物量を低減しても十分に改善されず製造条件によってばらつく原因を種々調査した。
また、製品板の粉吹き性についても劣る原因について調査した。
その結果、上記耐食性のばらつきや製品板の粉吹き性の劣化は、樹脂マトリックス中にシリカが分散している構造であるがゆえ、シリカが脱落してしまうことによるものとつきとめた。すなわち、コロイド状のシリカは、200〜300℃程度の焼き付け温度ではシリカが三次元ネットワーク(網目構造)を形成しないため、シリカ自体では造膜性がない。これが、被膜にクラックが入り耐食性が製造条件によってばらつき、粉吹き性が劣る原因であると推定した。
以上より、良好な耐食性の被膜を形成するためには、-Si-O-の三次元ネットワークを形成することが重要であり、樹脂中にポリシロキサン重合体とZr化合物とを架橋させることで、課題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至った。
[1]絶縁被膜を有する電磁鋼板であって、該絶縁被膜中には、ポリシロキサンと、有機樹脂として、アクリル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネイト樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂およびエポキシ樹脂から選ばれる1種又は2種以上とを共重合したポリシロキサン重合体と、ZrO2換算でZrO2/SiO2=0.010〜1.0であるZr化合物とを含むことを特徴とする絶縁被膜を有する電磁鋼板。
[2]前記[1]において、前記絶縁被膜は、前記ポリシロキサン重合体と前記Zr化合物を含む塗液を電磁鋼板に塗布、乾燥してなる被膜であることを特徴とする絶縁被膜を有する電磁鋼板。
本発明の電磁鋼板は、絶縁被膜を有する鋼板であり、前記絶縁被膜はポリシロキサンと、有機樹脂として、アクリル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネイト樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂およびエポキシ樹脂から選ばれる1種又は2種以上とを共重合したポリシロキサン重合体と、ZrO2換算でZrO2/SiO2=0.010〜1.0であるZr化合物を含むこととする。これは本発明において、最も重要な要件である。そして、このような絶縁被膜を有することにより、Cr含有絶縁被膜を有する電磁鋼板と同等以上の、耐食性、密着性および耐粉吹き性を有することになる。
本発明で用いることができる被膜を形成する前の電磁鋼板(電気鉄板ともいう)は、比抵抗を変化させて所望の磁気特性を得るために調整された鋼板(鉄板)であればどのような組成の鋼板でもよく、特に制限されない。特に、Si単独あるいはSi+Alが0.1〜10.0質量%程度含有された、W15/50≦5.0W/Kg程度の中〜高級電磁鋼板は好適に使用される。
また、絶縁被膜が形成される電磁鋼板の表面は、アルカリなどによる脱脂処理、塩酸、硫酸、リン酸などによる酸洗処理、強調処理や磁区細分化処理など、任意の前処理を施してもよいし、製造されたままの未処理の表面であってもよい。
さらに、絶縁被膜と地鉄表面との間に第3の層を形成させることは必ずしも要さないが、必要に応じて形成させてもよい。例えば、通常の製法では地鉄金属の酸化被膜が絶縁被膜と地鉄表面との間に形成されることがあるが、これを除去する手間は省いてもよい。また、製法によってはフォルステライト被膜が生成するが、これを除去する手間も省いてよい。
本発明の絶縁被膜は、以下に述べる必須成分であるポリシロキサン重合体とZr化合物とを含有する塗布液を、電磁鋼板表面に塗布し、その後焼き付け乾燥することで得られる。
本発明のポリシロキサン重合体は、ポリシロキサンと有機樹脂を共重合して得る。
ポリシロキサンは−Si−O−(シロキサン結合)を主鎖に持つポリマーである。このポリシロキサンはC元素を有する重合体と、−C−Si−O−結合または/および−C−O−Si−O−結合を介して、あらかじめ架橋させておくことが好ましい。ここで「架橋させる」とは、幾何学的あるいは化学的な結合などを通じて、いわゆるハイブリッド構造を形成させることを指すものとする。これにより、無機成分と有機成分が予め三次元構造を形成しているので、クラックのない均一な被膜を安定して達成でき、良好な耐食性を有する被膜を形成できる。
また、ポリシロキサンに、水酸基、アルコキシ基などの官能基を付与しておけば、さらにC元素を有する重合体部分と結合させて三次元ネットワークを強化させることが可能である。
上記のうち、ポリシロキサンと−C−Si−O−結合または/および−C−O−Si−O−結合を介して架橋を形成し三次元ネットワークを形成する観点からは、重合体の側鎖に結合可能な官能基を有していればなおよい。
なお、ポリシロキサン量の測定について「SiO2量に換算」するとは、含有されるSiが全てSiO2を形成していると仮定して、SiO2の含有量を算出することを意味する。例えばSi量のみを測定した場合は、「SiO2」量に換算して、被膜全固形分に対する比率をとればよい。
また、絶縁被膜中の全固形分に対するポリシロキサン重合体の比率は、SiO2量に換算して5質量%以上80質量%以下とすることが好ましい。
本発明の鋼板に付される絶縁被膜は、Zr化合物を特定量含有する。Zrは最大で8つの配意数を持ち、一般には4つの結合手により他の物質、特に酸素と強く結合する。このためFe表面の酸化物、水酸化物、前述のリン酸塩などと強固に結合しクロム化合物を使用しなくても強靭な被膜を形成することができると考えられる。
しかしながらZr化合物のみを絶縁被膜の主成分とした場合は耐食性がやや劣り、歪取り焼鈍後の耐キズ性が大きく劣化する傾向が見られる。これは、Zr化合物の結合手が多いためネットワークがうまく形成されず、却って脆弱な被膜になるためと考えられる。そこで、本発明では、上記問題を、特定のポリシロキサン重合体との組み合わせで被膜を形成することで解決した。
なお、ここで「全固形分質量」とは、後述する方法で電磁鋼板表面に形成した被膜の乾燥後の付着量である。また、「全固形分質量」は、アルカリ剥離による被膜除去後の重量減少から測定することができる。
さらに、「ZrO2に換算した」とは、含有されるZrが全てZrO2を形成していると仮定して、ZrO2の含有量を算出することを意味する。以後、単に「ZrO2換算で」と称する場合もある。他の化合物の換算についても同様である。
ZrO2/SiO2の比は調合時の添加重量から計算できるし、蛍光X線で存在比をとって求めてもよい。
また、炭酸Zrアンモニウムは(NH4)2[Zr(CO3)2(OH)2]、(NH4)2ZrO(CO3)2、炭酸ZrカリウムはK2[Zr(CO3)2(OH)2]、K2ZrO(CO3)2があげられ、どれも好適に用いることができる。
添加剤としては、公知の架橋剤、界面活性剤、防錆剤、潤滑剤などが添加可能である。添加量は被膜全固形分に対して30質量%以下程度が好ましい。
本発明の絶縁被膜は、本発明の効果が損なわれない程度に、他の無機化合物および/または有機化合物を含有することができる。
例えば液安定性が確保できれば他の酸化物(ゾル)を添加することができる。酸化物(ゾル)としてはシリカ(ゾル)(シリカあるいはシリカゾル、以下同様)、シリケート、アルミナ(ゾル)、チタニア(ゾル)、酸化スズ(ゾル)、酸化セリウム(ゾル)、酸化アンチモン(ゾル)、酸化タングステン(ゾル)、酸化モリブデン(ゾル)が挙げられる。
特に低いポリシロキサン比率の場合において、無機化合物の添加は焼鈍板の密着性、耐食性、スティキング性を改善するため好適である。
無機化合物は、好ましくは被膜全固形分に対して70質量%以下、より好ましくは50質量%以下含有するものとする。また、好ましくは5質量%以上、より好ましくは10質量%以上含有させるものとする。
本発明の出発素材として用いる電磁鋼板の前処理は特に規定しない。未処理あるいはアルカリなどの脱脂処理、塩酸、硫酸、リン酸などの酸洗処理が好ましく適用される。
そして、この鋼板上に上述したポリシロキサン重合体とZr化合物とを含有する塗布液を塗布する。その後、前記塗布液を塗布した電磁鋼板に焼き付け処理を施すことにより電磁鋼板上に絶縁被膜を形成させる。
また、焼き付け方法についても通常実施されるような熱風式、赤外線加熱式、誘導加熱式等が可能である。焼き付け温度も通常レベルであればよいが、樹脂の熱分解を避けるため、350℃以下とすることが好ましい。より好ましい範囲は150℃以上300℃以下である。
絶縁被膜の付着量は特に限定はしない。片面あたり0.05g/m2以上、10g/m2以下であることが好ましい。より好ましくは、片面あたり合計で0.1g/m2以上10g/m2以下である。0.05g/m2未満であると、工業的手段では均一な塗布が困難であり、安定した打抜性や耐食性を確保することが難しい場合がある。一方、10g/m2超であるとそれ以上の被膜性能向上がなく、不経済となる可能性がある。
なお、付着量の測定は、焼き付け処理後かつ歪み取り焼鈍を施していない鋼板について行うものとし、熱アルカリ等で被膜のみを溶解させて、溶解前後の重量変化から測定する重量法を用いることができる。
歪み取り焼鈍後の付着量としては0.01g/m2以上9.0g/m2以下程度が好ましい。
まず、電磁鋼板として、鋼成分としてSi:0.45質量%、Mn:0.25質量%、Al:0.48質量%を含有し、板厚0.5mm厚の仕上げ焼鈍を施したフルプロセス電磁鋼板を用いた。表1に示す条件にてポリシロキサンと各樹脂をあらかじめ架橋させた複合樹脂およびZr化合物(比較例の一部を除く)とを調合した塗液を前記電磁鋼板の表面上に、ロールコーターで塗布し、熱風炉にて焼付け温度:到達板温230℃で焼き付けて供試材を得た。
得られた供試材(絶縁被膜を有する電磁鋼板)に対して、沸騰した50%NaOH水溶液中で被膜を溶解させ、前述の重量法で絶縁被膜の付着量を測定した。
また、以上により得られた絶縁被膜を有する電磁鋼板に対して、以下の各被膜特性の測定を行い、評価した。
供試材に対して湿潤試験(50℃、>98%RH(相対湿度))を行い、48h後の赤錆発生率を目視による面積率で評価した。
(判定基準)
◎:赤錆面積率:0%〜20%未満
○:赤錆面積率:20%以上〜40%未満
△:赤錆面積率:40%以上〜60%未満
×:赤錆面積率:60%以上〜100%
<耐食性−製品板2>
供試材に対してJIS規定の塩水噴霧試験(35℃)を行い、5h後の赤錆発生率を目視による面積率で評価した。
(判定基準)
◎:赤錆面積率:0%〜25%未満
○:赤錆面積率:25%以上〜50%未満
△:赤錆面積率:50%以上〜75%未満
×:赤錆面積率:75%以上〜100%
<歪取焼鈍後耐食性(耐食性−焼鈍板)>
供試材に対して、窒素雰囲気下、750℃×2hの条件にて焼鈍を行い、得られた焼鈍板に対して恒温恒湿試験試験(50℃、相対湿度80%)を行い、14日後の赤錆発生率を目視による面積率で評価した。
(判定基準)
◎:赤錆面積率:0%〜20%未満
○:赤錆面積率:20%以上〜40%未満
△:赤錆面積率:40%以上〜60%未満
×:赤錆面積率:60%以上〜100%
<密着性>
(i)供試材、並びに、(ii)窒素雰囲気下、750℃×2hの条件にて焼鈍を行い、得られた焼鈍板に対して、20mmφでの180゜曲げ戻し試験を行い、目視による被膜剥離率で評価した。
(判定基準)
◎:剥離なし
○:〜剥離率20%未満
△:剥離率20%以上〜40%未満
×:剥離率40%以上〜全面剥離
<耐粉吹き性>
被膜表面にフェルトに荷重(2kg/cm2)をかけながら100往復させて、被膜の摩耗状態を目視で確認した。
(判定基準)
◎:変化なし〜20%以内摩耗
○:20%超〜50%以内摩耗
△:50%超〜80%以内摩耗
×:80%超〜地鉄まで剥離
以上より得られた結果を実験条件と併せて表1に示す。
一方、比較例では、耐粉吹き性をはじめとして耐食性、密着性のいずれか一つ以上が劣っている。
Claims (2)
- 絶縁被膜を有する電磁鋼板であって、該絶縁被膜中には、ポリシロキサンと、有機樹脂として、アクリル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネイト樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂およびエポキシ樹脂から選ばれる1種又は2種以上とを共重合したポリシロキサン重合体と、ZrO2換算でZrO2/SiO2=0.010〜1.0であるZr化合物とを含むことを特徴とする絶縁被膜を有する電磁鋼板。
- 前記絶縁被膜は、前記ポリシロキサン重合体と前記Zr化合物を含む塗液を電磁鋼板に塗布、乾燥してなる被膜であることを特徴とする請求項1に記載の絶縁被膜を有する電磁鋼板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008036136A JP4905382B2 (ja) | 2008-02-18 | 2008-02-18 | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008036136A JP4905382B2 (ja) | 2008-02-18 | 2008-02-18 | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009194314A JP2009194314A (ja) | 2009-08-27 |
JP4905382B2 true JP4905382B2 (ja) | 2012-03-28 |
Family
ID=41076033
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008036136A Active JP4905382B2 (ja) | 2008-02-18 | 2008-02-18 | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4905382B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8794278B2 (en) | 2009-08-25 | 2014-08-05 | Bridgestone Corporation | Pneumatic tire |
JP5589639B2 (ja) | 2010-07-22 | 2014-09-17 | Jfeスチール株式会社 | 半有機絶縁被膜付き電磁鋼板 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4461861B2 (ja) * | 2004-03-19 | 2010-05-12 | Jfeスチール株式会社 | クロムフリー絶縁被膜付き電磁鋼板 |
JP4552642B2 (ja) * | 2004-12-14 | 2010-09-29 | Jfeスチール株式会社 | 絶縁被膜付き電磁鋼板 |
JP5098327B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-12-12 | Jfeスチール株式会社 | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 |
-
2008
- 2008-02-18 JP JP2008036136A patent/JP4905382B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009194314A (ja) | 2009-08-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5098327B2 (ja) | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 | |
JP5087915B2 (ja) | 絶縁被膜を有する電磁鋼板およびその製造方法 | |
KR101608572B1 (ko) | 절연 피막이 형성된 전기 강판 | |
JP4461861B2 (ja) | クロムフリー絶縁被膜付き電磁鋼板 | |
EP3524711A1 (en) | Surface-treating solution composition containing trivalent chromium and inorganic compound, zinc-based plated steel sheet surface-treated using same, and method for producing same | |
KR101811249B1 (ko) | 절연 피막 부착 전자 강판 | |
JP5115232B2 (ja) | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 | |
JP4905382B2 (ja) | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 | |
JP5125073B2 (ja) | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 | |
JP5125117B2 (ja) | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 | |
CN101351575A (zh) | 具有绝缘覆膜的电磁钢板及其制造方法 | |
JP2009235530A (ja) | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 | |
JP4725094B2 (ja) | 絶縁被膜付き電磁鋼板 | |
JP2007270174A (ja) | 絶縁被膜付き電磁鋼板およびその製造方法 | |
JP2014009371A (ja) | 絶縁被膜付き電磁鋼板 | |
JP5125074B2 (ja) | 絶縁被膜を有する電磁鋼板 | |
JP4305070B2 (ja) | 絶縁被膜付き電磁鋼板 | |
JP3395820B2 (ja) | 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板 | |
JPH09157864A (ja) | 金属材料用クロメート処理液組成物、および処理方法 | |
JP2007270173A (ja) | 絶縁被膜付き電磁鋼板およびその製造方法 | |
JPH10147889A (ja) | 各種性能に優れた絶縁被膜を電磁鋼板に形成させるのに適した樹脂クロメート浴 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100823 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110816 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110830 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111213 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111226 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4905382 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |