JP3395820B2 - 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板 - Google Patents

低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板

Info

Publication number
JP3395820B2
JP3395820B2 JP19456696A JP19456696A JP3395820B2 JP 3395820 B2 JP3395820 B2 JP 3395820B2 JP 19456696 A JP19456696 A JP 19456696A JP 19456696 A JP19456696 A JP 19456696A JP 3395820 B2 JP3395820 B2 JP 3395820B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
insulating coating
resin
steel sheet
strain relief
corrosion resistance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP19456696A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH1036978A (ja
Inventor
森 ゆ か 小
口 勝 郎 山
藤 圭 司 佐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
JFE Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JFE Steel Corp filed Critical JFE Steel Corp
Priority to JP19456696A priority Critical patent/JP3395820B2/ja
Publication of JPH1036978A publication Critical patent/JPH1036978A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3395820B2 publication Critical patent/JP3395820B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は六価クロムのように
有害な化合物を含まず、また、低温焼き付けで製造で
き、歪取り焼鈍可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶
縁被膜付き電磁鋼板に関する。
【0002】
【従来の技術】モータや変圧器等に使用される電磁鋼板
の絶縁被膜は層間抵抗だけでなく、加工成形時及び保管
時の利便さの観点から種々の特性が要求される。また、
打抜加工後に磁気特性を向上させるため750〜850
℃程度で歪取り焼鈍を行う場合が多く、歪取り焼鈍に耐
える必要がある場合がある。このように、電磁鋼板は多
様に使用されるため、用途に応じて種々の絶縁被膜の開
発が行われている。
【0003】絶縁被膜は、溶接性、耐熱性を重視し、
歪取り焼鈍に耐える無機質皮膜、打抜性・溶接性の両
立を目指し歪取り焼鈍に耐える、樹脂含有の半有機質被
膜、特殊用途で歪取り焼鈍不可の有機質被膜の3種に
大別されるが、汎用品として歪取り焼鈍に耐えるのは
、の無機質を含む被膜であり、特に、有機樹脂を含
有したクロム酸塩系絶縁被膜は、1コート1ベークの製
造で無機系絶縁被膜に比較して打抜性を格段に向上させ
ることができるので広く利用されている。
【0004】例えば、特公昭60−36476号公報に
は、少なくとも1種の2価金属を含む重クロム酸塩系水
溶液に、該水溶液中のCrO3 :100重量部に対し有
機樹脂として酢酸ビニル/ベオバ比が90/10〜40
/60の比率になる樹脂エマルジョンを樹脂固形分で5
〜120重量部及び有機還元剤を10〜60重量部の割
合で配合した処理液を生地鉄板の表面に塗布し、常法に
よる焼き付け工程を経る電磁鋼板の絶縁被膜形成法が開
示されている。
【0005】しかしながら、クロム酸塩系被膜は六価ク
ロムを三価に還元して不溶化するために比較的高温で焼
き付ける事が必要である。また、六価クロムは毒性が高
いため、環境汚染の問題が懸念され、また、廃液処理に
コストがかかる問題がある。
【0006】クロム酸以外を主剤とする技術として、リ
ン酸塩を主剤とする半有機質絶縁被膜も検討されてい
る。しかしながら、リン酸塩は脱水反応を進行させて不
溶化するために塗装後に高温で焼き付ける事が必要であ
る。
【0007】比較的低温で焼き付け可能な絶縁被膜とし
て、連続焼鈍時の熱を利用して調質圧延前に被膜を形成
して歪取り焼鈍時の焼き付き防止被膜を施す方法が知ら
れている。例えば、特公昭59−21927号では無機
コロイド状物質を主成分とし、水溶性またはエマルジョ
ンタイプの樹脂を加えた水溶液を塗布しそのまま調質圧
延する方法が開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】特公昭59−2192
7号公報に記載の方法によれば、無機コロイド状物質は
確かにクロム酸塩系、リン酸塩系皮膜と比較して低温で
焼き付ける事が可能である。すなわち、クロム酸塩系、
リン酸塩系はベトツキを防止するため、水溶性物質を水
不溶性にするための造膜反応を進行させる必要がある
が、無機コロイド状物質はその必要がない。しかしなが
ら、無機コロイドと樹脂の混合物を塗布するという特公
昭59−21927号公報の方法を実施しても調質圧延
及び歪取り焼鈍時の焼き付き防止には効果があるもの
の、耐溶剤性、塩水耐食性が劣る問題があった。電磁鋼
板の加工工程では溶剤洗浄、各種油(打抜油、絶縁油
等)との接触等、有機溶剤に触れる場合が多く、絶縁被
膜の耐溶剤性は必要な性能である。また、電磁鋼板を船
積みで何日間もかけて輸送する場合も多く、塩水環境で
の耐食性も必要となる。本発明は上述した問題点を解決
すべくなされたもので、低温焼付で製造でき、歪取り焼
鈍が可能で、かつ、耐溶剤性、塩水耐食性にも優れる絶
縁被膜としての汎用コートを提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】発明者らは、上記問題点
を解決するべく検討を進めた結果、絶縁被膜に用いる樹
脂をリチウムシリケートで予め架橋することが有効であ
ることをつきとめ、また、ガラス転移点が30〜150
℃の樹脂を用いることでさらに優れた耐溶剤性を確保で
きることをつきとめ、低温焼き付けで製造でき、歪取り
焼鈍が可能で耐溶剤性も良好な絶縁被膜を達成した。
【0010】本発明によれば、電磁鋼板の少なくとも一
方の面に、ガラス転移点30〜150℃の樹脂をリチウ
ムシリケートで予め架橋した樹脂を含む絶縁被膜を有す
ることを特徴とする低温焼き付けで製造でき、歪取り焼
鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き
電磁鋼板。
【0011】絶縁被膜中の樹脂固型分100重量部に対
してリチウムシリケートが、Li2O+SiO2 換算で
3〜100重量部である。
【0012】絶縁被膜中のリチウムシリケートのSiO
2 /Li2 Oモル比が2〜10であるのが好ましい。
【0013】絶縁被膜中に、樹脂固型分100重量部に
対して前記リチウムシリケートとシリカの合計量がLi
2 O+SiO2 換算で3〜300重量部であるシリカを
さらに含有するのが好ましい。
【0014】絶縁被膜の付着量が0.05〜4g/m2
であるのが好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】以下に本発明をさらに詳細に説明
する。本発明の出発素材としては、電磁鋼板を用いる。
【0016】処理液中に配合する樹脂は、水性樹脂(エ
マルジョン、ディスパージョン、水溶性)で、ガラス転
移点が30〜150℃、好ましくは40〜130℃のモ
ノマー組成の樹脂を用い、リチウムシリケートと樹脂は
予めシランカップリング剤で架橋させる。例えば、特開
平2−308887号公報に示すような方法で製造が可
能である。リチウムシリケートと樹脂のブレンドでは相
溶性の問題もあり、また、低温焼き付け時では架橋反応
が進行せず耐溶剤性、耐食性が劣る。樹脂ガラス転移点
が30℃未満であると、耐溶剤性が不足し、150℃超
であると低温焼き付け時の造膜性が劣るため、樹脂のガ
ラス転移点は30〜150℃とする。リチウムシリケー
トと樹脂の単なるブレンドでは相溶性の問題もあり好ま
しくない。
【0017】樹脂100重量部に対してリチウムシリケ
ートがLi2 O+SiO2 換算で3〜100重量部であ
り、好ましくは3〜70重量部である。リチウムシリケ
ートが3重量部未満では架橋が不十分となり耐溶剤性、
塩水耐食性が劣り、また、その他の無機分を添加しない
場合焼鈍後の性能が低下する。また、樹脂分は歪取り焼
鈍時には熱分解してしまい被膜残分が少なくなるため焼
鈍後の性能(スティキング性、耐食性等)が不足する。
また、リチウムシリケートが100重量部超では樹脂と
の架橋反応が困難になるためである。
【0018】リチウムシリケートのSiO2 /Li2
モル比が2〜10より好ましくは3〜8であることが好
ましい。リチウムシリケートのSiO2 /Li2 Oモル
比が2未満であるとリチウムシリケートが結晶化する場
合があり、樹脂との架橋が困難である。また、モル比が
10超であると耐溶剤性、塩水耐食性が不足するため、
リチウムシリケートのSiO2 /Li2 Oモル比は2〜
10が好ましい。
【0019】被膜中の無機分を増量する目的でシリカを
加えてもよい。その場合、樹脂100重量部に対してリ
チウムシリケートとシリカの合計量がLi2 O+SiO
2 換算で3〜300重量部さらには3〜200重量部で
あることが好ましい。3重量部未満では樹脂分は歪取り
焼鈍時には熱分解してしまい被膜残分が少なくなるため
焼鈍後の性能(スティキング性、耐食性等)が不足す
る。300重量部超では樹脂に対する無機成分が多いた
めに造膜不良となり密着性が低下する。
【0020】絶縁被膜の付着量は、好ましくは、片面当
たり焼鈍後の乾燥重量で0.05〜4g/m2 とする。
付着量が0.05g/m2 未満であると、均一塗布が困
難になり、スティキング性、耐食性、打抜性が不足する
し、付着量が4g/m2 超であると、低温乾燥時にふく
れが発生するなど塗装性が低下し、密着性も低下するた
め、絶縁被膜の付着量は0.05〜4g/m2 さらには
0.1〜2g/m2 が好ましい。
【0021】樹脂/無機コロイドブレンド系の低温焼き
付け時の耐溶剤性、塩水耐食性を詳細に検討した結果、
耐溶剤性については樹脂単独の性能がそのまま反映され
ており、耐食性については樹脂単独より性能が劣化して
いることがわかった。すなわち、低温焼き付けの場合、
樹脂/無機コロイド混合系、例えばシリカとの混合系の
場合、樹脂とシリカは単に隣あっているだけで結合がな
いために隙間ができ、樹脂/シリカ界面には溶剤、水等
が非常に侵入しやすくなっているものと考えられる。こ
のような観点から鋭意検討した結果、樹脂/無機コロイ
ド間を架橋させ、有機溶剤及び水の侵入を防ぐことが有
効であると考え、樹脂/無機コロイドの架橋を試みたと
ころ、樹脂/リチウムシリケート架橋系の性能が特に優
れることを見いだした。架橋の効果の他に、水ガラスと
いわれるアルカリ金属のシリケートのうちでリチウムシ
リケートの耐塩水性が最も優れるため塩水耐食性も確保
できたものと考えられる。
【0022】ここに用いる樹脂組成としては特に規制す
るものではないが、例えば、アクリル樹脂、アルキッド
樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、
フェノール樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、ポリエ
ステル等の1種または2種以上の樹脂が好適に適用で
き、リチウムシリケートとの架橋を可能にする官能基を
有することが必要である。樹脂のガラス転移点は30〜
150℃になるようなモノマー組成をとることが必要で
ある。樹脂のガラス転移点はモノマー組成によって一定
で樹脂固有の特性である。ガラス転移点とは、それを境
に例えばガラス状のかたい状態からゴム状態にかわると
いうふうに不連続に相状態が変化する温度である。ガラ
ス転移点の測定には種々の方法が利用できるが、例えば
DSC(示差走査熱量計)、TMA(熱機械分析)、熱
膨張等があるが、特に定めるものではなく、物理的性質
が大幅にかわることを利用する方法で確認可能である。
また、共重合体のガラス転移点は計算も可能であるた
め、測定困難な時は組成から計算すればよい。
【0023】本特許に適合する樹脂はガラス転移点が3
0〜150℃となるならどのような樹脂組成でも適用可
能である。樹脂のリチウムシリケート架橋によって耐溶
剤性は格段に向上するが、樹脂種によってはアルコー
ル、アセトンのように極性が高い溶剤の場合、耐溶剤性
がばらつき、若干耐溶剤性が不足する問題があったが、
樹脂のガラス転移点を30℃以上とすることにより安定
して良好な耐溶剤性が確保できるようになった。また、
樹脂のガラス転移点を150℃以下とすることにより低
温焼き付け時の造膜性が確保できるようになった。樹脂
はガラス転移点を境に性質が大きく変化するため、耐溶
剤性が求められる環境温度よりガラス転移点が高いこと
が好ましいと考えられる。
【0024】なお、樹脂に対するリチウムシリケート量
が少ない場合は無機成分増量のためにシリカを添加して
もよい。その場合、樹脂100重量部に対してリチウム
シリケートとシリカの合計量がLi2 O+SiO2 換算
で3〜300重量部さらには3〜200重量部であるこ
とが好ましい。処理液中に配合するシリカの形状は水に
分散するものならどのような製法のものでもよく、コロ
イダルシリカ、気相シリカ、凝集タイプシリカ等形状は
種々のものが適用可能である。シリカの添加は樹脂の架
橋の前であっても、後であっても、同時に行ってもよ
い。
【0025】なお、被膜の性能を一層向上させるため
に、上述の必須成分以外に防錆剤等添加剤を配合しても
よい。この場合、歪取り焼鈍後の性能を確保するために
有機物質100重量部に対する無機物質の合計量は3〜
300重量部の範囲とすることが好ましい。
【0026】以上の薬剤を電磁鋼板上に塗布して焼き付
けることにより被膜を形成させる。絶縁被膜形成方法は
工業的に一般に用いられるロールコーター法、フローコ
ーター、スプレー塗装、ナイフコーター等種々の方法が
適用可能である。焼き付け方法についても通常実施され
るような熱風式、赤外式、誘導加熱式等特に規制するも
のではなく、被膜中の水分が蒸発する程度の低温加熱で
十分であり、例えば、50〜250℃程度の低い到達板
温で1分以内の短時間焼き付けすることが可能である。
【0027】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。
【0028】(実施例)板厚0.5mmの電磁鋼板の表
面に表1に記載の被膜を形成した。塗布は、ロールコー
ターで行い、到達板温150℃で焼き付け放冷した後、
試験に供した。
【0029】なお、各性能評価法の詳細は以下の通りで
ある。表1から明らかなように本発明例はいずれも耐溶
剤性、打抜性、歪取り焼鈍前後耐食性、密着性、スティ
キング性等に優れた絶縁被膜付き電磁鋼板である。な
お、表中の実施例は基本として着眼している性能のみの
改善を目指すものであるが、その中でもさらに他の各種
性能を向上させる例もあり、他の各種性能について比較
例となるものを備考に示した。
【0030】耐溶剤性 各種溶剤(ヘキサン、キシレン、メタノール、エタノー
ル、アセトン)を脱脂綿にしみこませ、鋼板を5往復し
た後の絶縁被膜表面の外観変化を調査した。 ◎:変化無し 〇:変化はほとんどなし △:若干変色 ×:変化大
【0031】打抜性 15mmφスチールダイスにおいて、かえり高さが50
μmに達するまでの打ち抜き数で評価した。 ◎:50万回超 〇:30万〜50万回 △:10万〜30万回未満 ×:10万回未満
【0032】密着性 製品板及び歪取り焼鈍板(窒素中750℃×2h焼鈍)
で評価した。20mmφでの180°曲げ戻し試験後の
被膜剥離率で評価した。 ◎:剥離なし 〇:〜剥離20%未満 △:剥離20%〜剥離40%未満 ×:剥離40%〜全面剥離
【0033】塩水噴霧耐食性(製品板) 塩水噴霧(5%NaCl溶液)試験3h後の赤錆面積率
で評価した。 ◎:0〜20%未満 〇:20〜40%未満 △:40〜60%未満 ×:60〜100%
【0034】耐食性(製品板) 湿潤試験(50℃、相対湿度100%)試験48h後の
赤錆面積率で評価した。 ◎:0〜20%未満 〇:20〜40%未満 △:40〜60%未満 ×:60〜100%
【0035】耐食性(焼鈍後) 窒素中750℃×2h焼鈍後、恒温恒湿試験(50℃、
相対湿度80%)14日後の赤錆面積率で評価した。 ◎:0〜20%未満 〇:20〜40%未満 △:40〜60%未満 ×:60〜100%
【0036】スティキング性 50mm角の鋼板10枚を重ねて荷重(200g/cm
2 )をかけながら窒素雰囲気下で750℃×2時間焼鈍
した後、鋼板上に分銅500gを落下させ、5分割する
ときの落下高さを調査した。 ◎:10cm以下 〇:10cm超〜15cm以下 △:15cm超〜30cm以下 ×:30cm超
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能
で耐溶剤性、塩水耐食性も良好であり、その他、電磁鋼
板の絶縁被膜として必要な性能を兼ね備えているので、
モーター、トランス等の用途をはじめ広く利用すること
ができる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−38582(JP,A) 特開 昭63−57781(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C23C 22/00 - 22/86

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電磁鋼板の少なくとも一方の面に、ガラス
    転移点30〜150℃の樹脂を、絶縁被膜中の樹脂固型
    分100重量部に対して、Li 2 O+SiO 2 換算で3
    〜100重量部となる量のリチウムシリケートで予め
    橋した樹脂を含む絶縁被膜を有することを特徴とする低
    温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、
    塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板。
  2. 【請求項2】 前記絶縁被膜中のリチウムシリケートのS
    iO2 /Li2 Oモル比が2〜10である請求項1に記
    載の低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶
    剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板。
  3. 【請求項3】 前記絶縁被膜中に、樹脂固型分100重量
    部に対して前記リチウムシリケートとシリカの合計量が
    Li2 O+SiO2 換算で3〜300重量部であるシリ
    カをさらに含有する請求項1または2に記載の低温焼き
    付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐
    食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板。
  4. 【請求項4】 前記絶縁被膜の付着量が0.05〜4g/
    2 である請求項1〜のいずれかに記載の低温焼き付
    けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食
    性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板。
  5. 【請求項5】前記絶縁被膜中に6価クロムを含まない請
    求項1ないし4のいずれかに記載の低温焼き付けで製造
    でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好
    な絶縁被膜付き電磁鋼板。
JP19456696A 1996-07-24 1996-07-24 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板 Expired - Fee Related JP3395820B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19456696A JP3395820B2 (ja) 1996-07-24 1996-07-24 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19456696A JP3395820B2 (ja) 1996-07-24 1996-07-24 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1036978A JPH1036978A (ja) 1998-02-10
JP3395820B2 true JP3395820B2 (ja) 2003-04-14

Family

ID=16326670

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19456696A Expired - Fee Related JP3395820B2 (ja) 1996-07-24 1996-07-24 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3395820B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2700584B1 (fr) * 1993-01-19 1995-02-24 Renault Dispositif de sécurité pour circuit à carburant de moteur à combustion interne.

Also Published As

Publication number Publication date
JPH1036978A (ja) 1998-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5098327B2 (ja) 絶縁被膜を有する電磁鋼板
JP5087915B2 (ja) 絶縁被膜を有する電磁鋼板およびその製造方法
US6638633B1 (en) Solvent-resistant electrical steel sheet capable of stress relief annealing and process
JP3370235B2 (ja) 耐食性に優れた歪取り焼鈍が可能なクロム化合物を含まない絶縁被膜を電磁鋼板の表面に形成する方法
JP3408410B2 (ja) 無方向性電磁鋼板用表面処理剤とそれを用いた皮膜形成方法
JPH09323066A (ja) 歪取り焼鈍が可能で耐蝕性、耐溶剤性に優れる絶縁被膜付き電磁鋼板ならびにその絶縁被膜の形成方法
JP3395820B2 (ja) 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板
JP3299452B2 (ja) 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で沸騰水蒸気暴露性、耐溶剤性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板
JP3386318B2 (ja) 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板
JP3364384B2 (ja) 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐溶剤性、塩水耐食性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板
JP5115232B2 (ja) 絶縁被膜を有する電磁鋼板
JP3364393B2 (ja) 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で沸騰水蒸気暴露性、耐溶剤性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板
JP4905382B2 (ja) 絶縁被膜を有する電磁鋼板
JP2003193252A (ja) 被膜外観に優れた絶縁被膜付き電磁鋼板の製造方法
JPH1034812A (ja) 低温焼き付けで製造でき、歪取り焼鈍が可能で耐食性、耐溶剤性が良好な絶縁被膜付き電磁鋼板
KR100554559B1 (ko) 스트레스릴리프어닐링이가능하고내용제성이뛰어난전자강판및그의제조방법
JP3555285B2 (ja) 低温焼付で製造でき、歪取り焼鈍が可能で溶接性も良好な絶縁被膜付き電磁鋼板
JP3093251B2 (ja) 電磁鋼板絶縁被膜の形成方法
JPH10128903A (ja) 絶縁被膜付き電磁鋼板
JP3317372B2 (ja) 被覆鋼板、被膜、およびそれらの製造方法
JP3375824B2 (ja) 歪取り焼鈍が可能で耐蝕性、耐溶剤性に優れる絶縁被膜付き電磁鋼板ならびにその絶縁被膜の形成方法
JPH04110476A (ja) 歪取り焼鈍後に密着性と絶縁性にすぐれた絶縁被膜を有する電磁鋼板の製造方法
JPH09157864A (ja) 金属材料用クロメート処理液組成物、および処理方法
JPH04235287A (ja) 電磁鋼板の絶縁被膜形成方法
JPH01222066A (ja) 電磁鋼板表面への耐熱性に優れた絶緑皮膜の形成方法

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20030114

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080207

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090207

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100207

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100207

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110207

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120207

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120207

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130207

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130207

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees