JP2008116785A5 - - Google Patents
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Claims (6)
- （ａ）フェニル基の含有率がＳｉ原子に対して３５〜５５モル％であるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を含有する感光性シロキサン組成物であって、その組成物中の水の含有率が２重量％を超えて１０重量％以下である感光性シロキサン組成物。
- （ａ）フェニル基の含有率がＳｉ原子に対して３５〜５５モル％であるポリシロキサンが、一般式（１）で表されるオルガノシランの１種以上と、シリカ粒子を反応させることによって合成されるポリシロキサンである請求項１記載の感光性シロキサン組成物。
- 請求項１記載の感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜であって、波長４００ｎｍにおける膜厚３μｍあたりの光透過率が９５％以上である硬化膜。
- 請求項３記載の硬化膜を有する素子。
- （ａ）フェニル基の含有率がＳｉ原子に対して３５〜５５モル％であるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を含有する感光性シロキサン組成物の製造方法であって、（ａ）フェニル基の含有率がＳｉ原子に対して３５〜５５モル％であるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を調合する際に、得られる感光性シロキサン組成物中の水の含有率が２重量％を超えて１０重量％以下になるように水を添加する感光性シロキサン組成物の製造方法。
- （ａ）フェニル基の含有率がＳｉ原子に対して３５〜５５モル％であるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を含有する感光性シロキサン組成物の製造方法であって、（ａ）フェニル基の含有率がＳｉ原子に対して３５〜５５モル％であるポリシロキサン、（ｂ）キノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤を調合する際に、（ａ）フェニル基の含有率がＳｉ原子に対して３５〜５５モル％であるポリシロキサンの合成時に生成する水を残存させたポリシロキサンを用いることによって、得られる感光性シロキサン組成物中の水の含有率を２重量％を超えて１０重量％以下にする感光性シロキサン組成物の製造方法。
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